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市場調査レポート
商品コード
1901660

極端紫外線リソグラフィー市場- 世界の産業規模、シェア、動向、機会、および予測：技術ノード別、コンポーネントタイプ別、エンドユーザー産業別、地域別および競合状況、2021-2031年

Extreme Ultraviolet Lithography Market - Global Industry Size, Share, Trends, Opportunity, and Forecast Segmented By Technology Node, By Component Type, By End-Use Industry, By Region & Competition, 2021-2031F

出版日
ページ情報
英文 181 Pages
納期
2～3営業日
カスタマイズ可能
極端紫外線リソグラフィー市場- 世界の産業規模、シェア、動向、機会、および予測：技術ノード別、コンポーネントタイプ別、エンドユーザー産業別、地域別および競合状況、2021-2031年
出版日: 2026年01月05日
発行: TechSci Research
ページ情報: 英文 181 Pages
納期: 2～3営業日
GIIご利用のメリット

  • 概要

世界の極端紫外線（EUV）リソグラフィー市場は、2025年の93億4,000万米ドルから2031年までに185億2,000万米ドルへと、CAGR 12.09％で成長する見込みです。

極端紫外線（EUV）リソグラフィーは、13.5ナノメートルの波長を持つ光を利用してシリコンウエハー上に複雑な回路パターンを印刷する、先進的な半導体製造技術です。この市場は主に、人工知能、自動運転、次世代通信に不可欠な小型化・高性能マイクロチップへの需要の高まりによって牽引されています。

市場概要
予測期間 2027年～2031年
市場規模：2025年 93億4,000万米ドル
市場規模：2031年 185億2,000万米ドル
CAGR：2026年～2031年 12.09％
最も成長が速いセグメント 統合デバイスメーカー（IDM）
最大の市場 アジア太平洋地域

主要な市場促進要因

高性能コンピューティングおよび人工知能ソリューションに対する需要の急増が、極端紫外線リソグラフィー（EUV）の採用を加速させる主な要因となっております。生成AIの計算負荷の高さは、これまでにないトランジスタ密度を備えたチップアーキテクチャを必要とするためです。半導体メーカーは、AIアクセラレータと高帯域幅メモリ（HBM）の両方に対応するため、生産の優先順位を急速にシフトさせております。これらはいずれも、EUV波長のみが実現可能な精密なクリティカルディメンションを必要とするものです。

主要な市場課題

EUVシステムに関連する膨大な設備投資と技術的複雑さは、世界の極端紫外線リソグラフィ市場の拡大を妨げる大きな障壁となっています。こうした財務的・技術的障壁により、この技術の採用は、巨額の初期投資と継続的な運用コストを維持できる、資金力のある限られた半導体メーカーに限定されています。

主要な市場動向

高開口数（High-NA）EUVシステムへの移行は、現行の0.33 NA装置の解像度限界を克服するために設計された重要な技術的進化です。

よくあるご質問

  • 世界の極端紫外線（EUV）リソグラフィー市場の市場規模はどのように予測されていますか？
  • 極端紫外線（EUV）リソグラフィー市場の主要な促進要因は何ですか？
  • 極端紫外線（EUV）リソグラフィー市場の主要な課題は何ですか？
  • 極端紫外線（EUV）リソグラフィー市場の最も成長が速いセグメントはどこですか？
  • 極端紫外線（EUV）リソグラフィー市場で最大の市場はどこですか？
  • 高開口数（High-NA）EUVシステムへの移行はどのような技術的進化ですか？
  • 極端紫外線（EUV）リソグラフィー市場に参入している主要企業はどこですか？

目次

第1章 概要

第2章 調査手法

第3章 エグゼクティブサマリー

第4章 顧客の声

第5章 世界の極紫外線（EUV）リソグラフィー市場展望

  • 市場規模・予測
    • 金額別
  • 市場シェア・予測
    • コンポーネントタイプ別（光源（EUV光源）、ミラーおよび光学系、マスクおよびマスクハンドリングシステム、その他）
    • 最終用途産業別（半導体製造、統合デバイスメーカー（IDM）、ファウンダリ、メモリメーカー、その他）
    • 地域別
    • 企業別（2025）
  • 市場マップ

第6章 北米極端紫外線（EUV）リソグラフィー市場展望

  • 市場規模・予測
  • 市場シェア・予測
  • 北米：国別分析
    • 米国
    • カナダ
    • メキシコ

第7章 欧州極端紫外線（EUV）リソグラフィー市場展望

  • 市場規模・予測
  • 市場シェア・予測
  • 欧州：国別分析
    • ドイツ
    • フランス
    • 英国
    • イタリア
    • スペイン

第8章 アジア太平洋地域における極端紫外線（EUV）リソグラフィー市場の見通し

  • 市場規模・予測
  • 市場シェア・予測
  • アジア太平洋地域：国別分析
    • 中国
    • インド
    • 日本
    • 韓国
    • オーストラリア

第9章 中東・アフリカ地域における極端紫外線（EUV）リソグラフィー市場の見通し

  • 市場規模・予測
  • 市場シェア・予測
  • 中東・アフリカ：国別分析
    • サウジアラビア
    • アラブ首長国連邦
    • 南アフリカ

第10章 南米における極端紫外線（EUV）リソグラフィー市場の見通し

  • 市場規模・予測
  • 市場シェア・予測
  • 南米：国別分析
    • ブラジル
    • コロンビア
    • アルゼンチン

第11章 市場力学

  • 促進要因
  • 課題

第12章 市場動向と発展

  • 合併・買収
  • 製品上市
  • 最近の動向

第13章 世界の極紫外線（EUV）リソグラフィー市場：SWOT分析

第14章 ポーターのファイブフォース分析

  • 業界内の競合
  • 新規参入の可能性
  • サプライヤーの力
  • 顧客の力
  • 代替品の脅威

第15章 競合情勢

  • ASML Holding NV.
  • CARL ZEISS AG.
  • Toppan Photomasks Inc
  • USHIO, INC
  • NTT ADVANCED TECHNOLOGY CORPORATION.
  • KLA CORPORATION
  • ADVANTEST CORPORATION
  • Photronics, Inc
  • HOYA Corporation
  • Trumpf

第16章 戦略的提言

第17章 調査会社について・免責事項