極端紫外線リソグラフィーの世界市場規模、シェア、動向及び成長分析レポート2026-2034年

極端紫外線リソグラフィー市場の規模は、2025年の138億9,000万米ドルから2034年には613億4,000万米ドルに達すると予測されており、2026年から2034年にかけてCAGR17.94％で成長する見込みです。

極端紫外線（EUV）リソグラフィー市場は次世代半導体製造の中核を成し、7nm以下の先進ノードの生産を可能にしております。短波長のEUV光を活用することで、この技術は深紫外線リソグラフィーの限界を克服し、高解像度の確保、マルチパターニング工程の削減、チップ性能の向上を実現します。高性能コンピューティング、AIアクセラレータ、5Gインフラへの需要が急増する中、EUVリソグラフィは先進的な半導体製造の基盤となる見込みです。

今後の成長は、データ中心産業の急激な拡大によって推進されます。ハイパースケールデータセンターからエッジコンピューティングデバイスに至るまで、トランジスタ密度とエネルギー効率を向上させたチップへの需要が絶え間なく高まっています。EUVリソグラフィはこれらの性能要件を満たすだけでなく、スループットの向上と欠陥率の低減を実現し、ムーアの法則の継続に不可欠な技術です。装置メーカー、ファウンダリ、材料サプライヤー間の共同投資により、EUVプラットフォームの商用化が加速し、ペリクル耐久性、光源出力、マスク忠実度の継続的な改善が推進されています。

今後、EUVと高NA（開口数）光学系の統合により、さらなる微細化能力の拡張が期待され、2nm以下のプロセスノードへの道が開かれるでしょう。この進展は世界の半導体サプライチェーンを再構築し、自律システム、高度なAI、量子コンピューティングにおけるブレークスルーを可能にします。各国・企業が半導体分野での主導権確保に向けた取り組みを強化する中、EUVリソグラフィは今後も、世界のイノベーションとデジタル変革を支える重要な戦略技術であり続けるでしょう。

目次

第1章 イントロダクション

第2章 エグゼクティブサマリー

第3章 市場変数、動向、フレームワーク

• 市場系譜の展望
• 浸透率と成長見通しのマッピング
• バリューチェーン分析
• 規制の枠組み
  • 規格とコンプライアンス
  • 規制影響分析
• 市場力学
  • 市場促進要因
  • 市場抑制要因
  • 市場機会
  • 市場課題
• ポーターのファイブフォース分析
• PESTLE分析

第4章 世界の極端紫外線リソグラフィー市場：機器別

• 市場分析、洞察と予測
• 光源
• 光学系
• マスク
• その他

第5章 世界の極端紫外線リソグラフィー市場：エンドユーズ別

• 市場分析、洞察と予測
• 統合デバイスメーカー（IDM）
• ファウンダリ

第6章 世界の極端紫外線リソグラフィー市場：地域別

• 地域別分析
• 北米の市場分析、洞察と予測
  • 米国
  • カナダ
  • メキシコ
• 欧州の市場分析、洞察と予測
  • 英国
  • フランス
  • ドイツ
  • イタリア
  • ロシア
  • その他の欧州諸国
• アジア太平洋の市場分析、洞察と予測
  • インド
  • 日本
  • 韓国
  • オーストラリア
  • 東南アジア
  • その他のアジア太平洋諸国
• ラテンアメリカの市場分析、洞察と予測
  • ブラジル
  • アルゼンチン
  • ペルー
  • チリ
  • その他のラテンアメリカ諸国
• 中東・アフリカの市場分析、洞察と予測
  • サウジアラビア
  • UAE
  • イスラエル
  • 南アフリカ
  • その他の中東・アフリカ諸国

第7章 競合情勢

• 最新動向
• 企業分類
• サプライチェーンおよび販売チャネルパートナー（入手可能な情報に基づく）
• 市場シェアとポジショニング分析（入手可能な情報に基づく）
• ベンダー情勢（入手可能な情報に基づく）
• 戦略マッピング

第8章 企業プロファイル

• 上位企業の市場シェア分析
• 企業プロファイル
  • ASML Holding NV
  • NTT Advanced Technology Corporation
  • Canon Inc
  • Nikon Corporation
  • Intel Corporation
  • Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited
  • Samsung Electronics Co. Ltd
  • Toppan Photomasks Inc
  • ZEISS Group
  • Ushio Inc