極端紫外線リソグラフィの世界市場レポート 2026年

極端紫外線（EUV）リソグラフィー市場の規模は、近年急速に拡大しています。2025年の147億2,000万米ドルから、2026年には167億7,000万米ドルへと、CAGR13.9％で成長すると見込まれています。この期間における成長要因としては、極端紫外線リソグラフィ装置の生産増加、高解像度半導体製造への需要の高まり、レーザー式およびガス放電式光源の普及拡大、IDMおよびファウンダリ事業における採用拡大、ならびに先進的なマスクおよびミラーハンドリングシステムの統合などが挙げられます。

極端紫外線（EUV）リソグラフィー市場の規模は、今後数年間で急速な成長が見込まれています。2030年には277億9,000万米ドルに達し、CAGRは13.5％となる見込みです。予測期間中の成長要因としては、AIおよびIoT対応のEUVシステムの利用拡大、デジタルプロセスモニタリングの導入増加、自動ウエハーハンドリングソリューションの成長、高解像度パターニング機能の拡充、および半導体ファブ全体での導入拡大が挙げられます。予測期間における主な動向としては、AIを搭載したEUVリソグラフィシステムの統合、IoT対応半導体装置の導入、デジタル化されたリソグラフィ工程モニタリングの採用、高解像度パターニングソリューションの拡大、およびスマートなウエハーハンドリング・アライメントシステムの導入が挙げられます。

スマートフォン需要の増加が、極端紫外線リソグラフィー市場の需要を牽引すると予想されます。極端紫外線リソグラフィー（EUVL）は、スマートフォンやパーソナルコンピュータ向けに、従来のものよりも高性能なマイクロプロセッサを製造するために使用される先進技術です。EUVリソグラフィーにより、複雑さを低減し、コストを削減し、消費電力を抑えたコンパクトな電子チップの生産が可能になります。例えば、米国を拠点とするデータレポート・分析企業であるDemand Sage Inc.によると、2025年10月時点で、米国のスマートフォン利用率は76.5％に達し、前年比で3.8％増加しました。したがって、スマートフォン需要の拡大が、極端紫外線リソグラフィー市場の成長を牽引すると予想されます。

半導体業界からの需要の拡大は、今後も極端紫外線リソグラフィー市場の成長を後押しすると予想されます。半導体業界とは、主に半導体デバイス（集積回路やマイクロチップとも呼ばれます）の設計、開発、製造、および流通に従事する経済部門を指します。極端紫外線リソグラフィーは、半導体業界において、半導体の性能を向上させながら、より小型で高性能かつエネルギー効率に優れたチップの生産を促進するために使用されています。例えば、2025年2月、米国を拠点とする業界団体である半導体産業協会（SIA）によると、2024年の世界の半導体売上高は6,276億米ドルに達し、2023年と比較して19.1％増加しました。したがって、半導体業界からの需要の増加が、極端紫外線リソグラフィー市場の成長を牽引しています。

よくあるご質問

• 極端紫外線（EUV）リソグラフィー市場の規模はどのように予測されていますか？
  • 2025年に147億2,000万米ドル、2026年には167億7,000万米ドル、2030年には277億9,000万米ドルに達すると予測されています。CAGRはそれぞれ13.9%、13.5%です。
• 極端紫外線（EUV）リソグラフィー市場の成長要因は何ですか？
  • 成長要因としては、極端紫外線リソグラフィ装置の生産増加、高解像度半導体製造への需要の高まり、レーザー式およびガス放電式光源の普及拡大、IDMおよびファウンダリ事業における採用拡大、先進的なマスクおよびミラーハンドリングシステムの統合などが挙げられます。
• スマートフォン需要が極端紫外線リソグラフィー市場に与える影響は何ですか？
  • スマートフォン需要の増加が、極端紫外線リソグラフィー市場の需要を牽引すると予想されます。
• 半導体業界からの需要の拡大は市場にどのように影響しますか？
  • 半導体業界からの需要の増加が、極端紫外線リソグラフィー市場の成長を牽引しています。
• 極端紫外線リソグラフィー市場における主要企業はどこですか？
  • ASML Holding、Intel Corporation、Samsung Electronics、Taiwan Semiconductor Manufacturing Company（TSMC）、Micron Technology Inc.などです。
• 極端紫外線リソグラフィー市場の主要な動向は何ですか？
  • AIを活用したEUVリソグラフィシステムの統合、IoT対応半導体製造装置の導入、デジタル化されたリソグラフィー工程モニタリングの導入、高解像度パターニングソリューションの拡大、スマートウエハーハンドリングおよびアライメントシステムの導入が挙げられます。

目次

第1章 エグゼクティブサマリー

第2章 市場の特徴

• 市場定義と範囲
• 市場セグメンテーション
• 主要製品・サービスの概要
• 世界の極端紫外線リソグラフィ市場：魅力度スコアと分析
• 成長可能性分析、競合評価、戦略適合性評価、リスクプロファイル評価

第3章 市場サプライチェーン分析

• サプライチェーンとエコシステムの概要
• 一覧：主要原材料・資源・供給業者
• 一覧：主要な流通業者、チャネルパートナー
• 一覧：主要エンドユーザー

第4章 世界の市場動向と戦略

• 主要技術と将来動向
  • 人工知能と自律知能
  • Industry 4.0とインテリジェントマニュファクチャリング
  • デジタル化、クラウド、ビッグデータ、サイバーセキュリティ
  • IoT、スマートインフラストラクチャ、コネクテッド・エコシステム
  • サステナビリティ、気候技術、循環型経済
• 主要動向
  • AIを活用したEUVリソグラフィシステムの統合
  • IoT対応半導体製造装置の導入
  • デジタル化されたリソグラフィー工程モニタリングの導入
  • 高解像度パターニングソリューションの拡大
  • スマートウエハーハンドリングおよびアライメントシステムの導入

第5章 最終用途産業の市場分析

• 統合デバイスメーカー（IDM）
• ファウンダリ
• 半導体研究所
• 電子機器メーカー
• フォトマスク製造施設

第6章 市場：金利、インフレ、地政学、貿易戦争と関税の影響、関税戦争と貿易保護主義によるサプライチェーンへの影響、コロナ禍が市場に与える影響を含むマクロ経済シナリオ

第7章 世界の戦略分析フレームワーク、現在の市場規模、市場比較および成長率分析

• 世界の極端紫外線リソグラフィ市場：PESTEL分析
• 世界の極端紫外線リソグラフィ市場：規模、比較、成長率分析
• 世界の極端紫外線リソグラフィ市場実績：規模と成長、2020年-2025年
• 世界の極端紫外線リソグラフィ市場予測：規模と成長、2025年-2030年、2035年

第8章 市場における世界の総潜在市場規模（TAM）

第9章 市場セグメンテーション

• 機器別
• 光源、ミラー、マスク、その他の装置
• 光源別
• レーザー生成プラズマ、ガス放電、真空スパーク
• エンドユーザー別
• 統合デバイスメーカー（IDM）、ファウンダリ、その他のエンドユーザー
• サブセグメンテーション、タイプ別：光源
• レーザー生成プラズマ（LPP）光源、ガス放電プラズマ（GDP）光源
• サブセグメンテーション、タイプ別：ミラー
• 反射ミラー、多層ミラー
• サブセグメンテーション、タイプ別：マスク
• パターニング用マスク、エッチング用マスク
• サブセグメンテーション、タイプ別：その他の機器
• フォトマスク検査装置、ウエハーハンドリング装置、リソグラフィアライメントシステム

第10章 地域別・国別分析

第11章 アジア太平洋市場

第12章 中国市場

第13章 インド市場

第14章 日本市場

第15章 オーストラリア市場

第16章 インドネシア市場

第17章 韓国市場

第18章 台湾市場

第19章 東南アジア市場

第20章 西欧市場

第21章 英国市場

第22章 ドイツ市場

第23章 フランス市場

第24章 イタリア市場

第25章 スペイン市場

第26章 東欧市場

第27章 ロシア市場

第28章 北米市場

第29章 米国市場

第30章 カナダ市場

第31章 南米市場

第32章 ブラジル市場

第33章 中東市場

第34章 アフリカ市場

第35章 市場規制状況と投資環境

第36章 競合情勢と企業プロファイル

• 極端紫外線リソグラフィ市場：競合情勢と市場シェア、2024年
• 極端紫外線リソグラフィ市場：企業評価マトリクス
• 極端紫外線リソグラフィ市場：企業プロファイル
  • ASML Holding
  • Intel Corporation
  • Samsung Electronics
  • Taiwan Semiconductor Manufacturing Company（TSMC）
  • Micron Technology Inc.

第37章 その他の大手企業と革新的企業

• SK Hynix Inc., Infineon Technologies AG, Renesas Electronics Corporation, Semiconductor Manufacturing International Corporation, Nikon Corporation, Canon Inc., Applied Materials Inc., Lam Research Corporation, KLA Corporation, Tokyo Electron Limited, Aixtron SE, Rudolph Technologies, Onto Innovation Inc., Ultratech Inc., Veeco Instruments Inc.

第38章 世界の市場競合ベンチマーキングとダッシュボード

第39章 主要な合併と買収

第40章 市場の潜在力が高い国、セグメント、戦略

• 極端紫外線リソグラフィ市場、2030年：新たな機会を提供する国
• 極端紫外線リソグラフィ市場、2030年：新たな機会を提供するセグメント
• 極端紫外線リソグラフィ市場、2030年：成長戦略
  • 市場動向に基づく戦略
  • 競合の戦略

第41章 付録