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市場調査レポート
商品コード
1403360
半導体向け両面露光機の2030年までの世界市場予測:タイプ、技術、用途、地域別分析Double-Sided Exposure Machine for Semiconductor Market Forecasts to 2030 - Global Analysis By Type (Semi Automatic and Fully Automatic), Technology (Photolithography and E-beam Lithography), Application and By Geography |
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カスタマイズ可能
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半導体向け両面露光機の2030年までの世界市場予測:タイプ、技術、用途、地域別分析 |
出版日: 2024年01月01日
発行: Stratistics Market Research Consulting
ページ情報: 英文 200+ Pages
納期: 2~3営業日
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Stratistics MRCによると、半導体向け両面露光機の世界市場は予測期間中にCAGR 5.5%で成長する見込みです。
半導体の生産に使用される専用ツールは、半導体向け両面露光機として知られています。これは、ウエハーのフォトレジストコーティングされた表面に複雑な回路パターンを投影するために、高度な光学系と光源を採用しています。その精度と効率は、ナノスケールの特徴と正確なアライメントが最先端の電子デバイスを成功裏に生産するために最も重要である半導体製造に求められる高水準を維持するために不可欠です。
UMCによると、この工場はシンガポールで最も先進的な半導体ファウンドリーのひとつでもあり、22nmと28nmのチップを生産する予定です。
両面露光機は、5G、エッジコンピューティング、電気自動車など、これらの新興技術の要件を満たす半導体の製造を可能にします。これらの継続的な技術進歩は、自動車、ヘルスケア、通信を含む様々な産業で実装されています。また、これらのアプリケーションに必要な高密度・高性能チップの製造にも貢献しており、市場の拡大を後押ししています。
製造業者、特に中小企業は、これらの高度なシステムの資本集約的な性質のため、財務上の課題に直面しています。競合が限定的であることは、価格上昇の一因となる可能性があります。さらに、現在進行中の技術的進歩が広く採用されることは、業界のコスト感応度や要件によって減少する可能性があり、市場成長の大きな妨げとなります。
半導体層が垂直に積層された3D立体集積回路(IC)は、ウエハーの両面で正確かつ同時に露光する必要があります。機械学習と人工知能を露光機に組み込むことで、アライメント精度、エラー検出、修正精度の向上に貢献できます。さらに、これらの技術は全体的な生産性を向上させ、性能向上と小型化のために3D ICへの依存度を高めている進化するエレクトロニクス産業の需要に応えることを目的としており、それによって市場の拡大を牽引しています。
特許紛争は新製品開発と市場開拓の遅れの原因となります。これらの機械に含まれる複雑な技術は、特許紛争や法的課題の影響を受けやすいです。法的な曖昧さは、投資家やメーカーにとって困難な環境を作り出し、製品価格や収益性、規制当局からの潜在的な抵抗に影響を与えることで、市場の可能性に影響を与えます。さらに、知的財産権に関する懸念は、業界間の協力や買収を減少させ、市場の拡大を妨げる可能性もあります。
半導体向け両面露光機市場は、COVID-19の流行により悪影響を受けた。製造工程は、施錠や制限、労働力確保の中断、遠隔作業への課題、健康上の懸念などの影響を受け、先端機械の開発や展開の遅れや非効率の一因となった。さらに、渡航制限によって国際的な協力や設置が難しくなり、経済的な課題によって拡張プロジェクトの延期や中止を余儀なくされる企業も出てきました。
半自動セグメントが最大のシェアを占めると推定されます。これは、精度と露光工程の効率を向上させるための自動化機能を含む高度な自動化機能と手動制御を組み合わせた装置を指し、ある程度の柔軟性と人的制御を提供します。技術の進歩に伴い、これらの装置は進化を続けており、カスタマイズ可能で適応性の高いプロセスを求める半導体メーカー向けに、精度、スピード、全体的なパフォーマンスを高める技術をコスト効率の高いソリューションに組み込んでおり、このセグメントの拡大を後押ししています。
フォトリソグラフィ分野は、複雑な回路パターンを半導体ウエハーに正確に転写するために必要なデバイスを扱うため、予測期間中に最も高いCAGRが見込まれます。EUVリソグラフィ、高解像度イメージング、高度な半導体デバイスなど、複数のパターニング技術の進歩は、通信やエレクトロニクスから人工知能やモノのインターネットのような新興技術まで、幅広いアプリケーションに不可欠です。さらに、これらのデバイスは、ウエハーの両面で同時に正確なアライメントと露光を保証するために高度な光学的手法を使用しており、これが市場の成長を大きく後押ししています。
欧州は、半導体の生産に影響を及ぼす政府の法律や規制により、予測期間中に最大の市場シェアを占めました。欧州連合(EU)は研究、技術、革新を優先し、半導体産業の進歩に有利な環境を作り出しています。ドイツ、英国、オランダといった国々が半導体技術開発の最前線にあります。政府プログラムや学術機関と業界関係者の協力が、この地域の半導体技術革新におけるリーダーシップに貢献し、それによってこの地域の成長を後押ししています。
北米は、近代的な半導体研究、自動化、材料、精密光学における継続的な開発により、予測期間中に最も高いCAGRを示すと予想されています。Nikon Corporation、ASML Holding NV、Canon Inc.、Shanghai Micro Electronics Equipment(Group)Co., Ltd.などの主な企業が、この地域の卓越した技術開発に貢献しています。熟練した専門家と研究施設、機械からなる強力なエコシステムは、市場の拡大を推進している業界の進化するニーズに応えています。
According to Stratistics MRC, the Global Double-Sided Exposure Machine for Semiconductor Market is accounted for growing at a CAGR of 5.5% during the forecast period. A specialized tool used in the production of semiconductors is known as double-sided exposure machine for semiconductors. It employs advanced optics and light sources to project intricate circuit patterns onto the photoresist-coated surfaces of the wafer. Its precision and efficiency are essential for maintaining the high standards required in semiconductor manufacturing, where nanoscale features and precise alignment are paramount for the successful production of cutting-edge electronic devices.
According to UMC, it would also be one of the most advanced semiconductor foundries in Singapore and will produce 22 nm and 28 nm chips.
Double-Sided Exposure Machines enable the fabrication of semiconductors that meet the requirements of these emerging technologies, including 5G, edge computing, and electric vehicles. These ongoing technological advancements are implemented in various industries, including automotive, healthcare, and communications. In addition, they contribute to the production of high-density and high-performance chips needed for these applications, which is boosting market expansion.
Manufacturers, especially smaller ones, face financial challenges due to the capital-intensive nature of these advanced systems. Limited competition can contribute to higher prices, as manufacturers may have more control over pricing in the absence of extensive alternatives. In addition, the widespread adoption of ongoing technological advancements may be decreased by the industry's cost sensitivity and requirements, which significantly hamper the market's growth.
3D three-dimensional integrated circuits (ICs), with vertically stacked semiconductor layers, demand precise and simultaneous exposure on both sides of wafers. Incorporating machine learning and artificial intelligence into exposure machines can contribute to better alignment accuracy, error detection, and correction. Additionally, these technologies aimed at improving overall productivity, meeting the demands of an evolving electronics industry that increasingly relies on 3D ICs for improved performance and miniaturization, thereby driving market's expansion.
Patent disputes can cause delays in new product development and market launches. The complex technologies involved in these machines make them susceptible to patent disputes and legal challenges. Legal ambiguities affect the market's potential by creating a difficult environment for investors and manufacturers, influencing product pricing, profitability, and potential resistance from regulatory authorities. Furthermore, IP concerns may also decrease industry-player collaboration or acquisitions, which can hinder market expansion.
The market for double-sided exposure machines for semiconductors was adversely affected by the COVID-19 pandemic. Manufacturing processes were impacted by lockdowns and restrictions, disruptions to workforce availability, remote work challenges, and health concerns, which contributed to delays and inefficiencies in the development and deployment of advanced machinery. Additionally, travel restrictions made it more difficult to collaborate and install internationally, and economic challenges prompted some companies to delay or cancel expansion projects, which thereby hampered market growth.
The semi automatic segment is estimated to hold the largest share. It refers to equipment that combines advanced automation features with manual control including automated features to improve accuracy and exposure process efficiency, providing a certain amount of flexibility and human control. As technology advances, these machines continue to evolve, incorporating technologies to enhance precision, speed, and overall performance with cost-effective solutions for semiconductor manufacturers seeking customizable and adaptable processes which are boosting this segment expansion.
The photolithography segment is anticipated to have highest CAGR during the forecast period, due to it deals with devices that are necessary for accurately transferring complex circuit patterns onto semiconductor wafers. Advancements in multiple patterning techniques, such as EUV lithography, high-resolution imaging, and advanced semiconductor devices are essential for a wide range of applications, from telecommunications and electronics to emerging technologies like artificial intelligence and the Internet of Things. In addition, these devices use sophisticated optical methods to simultaneously assure precise alignment and exposure on both sides of the wafer which significantly drive market's growth.
Europe commanded the largest market share during the extrapolated period owing to government laws and regulations that affect the production of semiconductors. The European Union prioritizes research, technology, and innovation, creating an environment that is favorable for advancements in the semiconductor industry. Countries like Germany, the United Kingdom, and the Netherlands are at the forefront of semiconductor technology development. Government programs and collaborations between academic institutions and industry players contribute to the region's leadership in semiconductor innovation and thereby boosting the region's growth.
North America is expected to witness highest CAGR over the projection period, owing to modern semiconductor research and ongoing developments in automation, materials, and precision optics. Some of the major key players including Nikon Corporation, ASML Holding NV, Canon Inc. and Shanghai Micro Electronics Equipment (Group) Co., Ltd. are contributing in developing the region's technological excellence. Strong ecosystem of skilled professionals and research facilities, machines, are meeting the evolving needs of the industry which are propelling the market expansion.
Some of the key players in the Double-Sided Exposure Machine for Semiconductor Market include ORC Manufacturing, Ushio Lighting, Csun, Canon Inc, Orbotech Ltd., Neutronix Quintel, Idonus Sarl, Seimyung Vactron, Adtec Engineering and ASML Holding N.V.
In November 2023, Neutronix-Quintel, Inc., a leading provider of production photolithography equipment, announced the introduction of the NxQ 8000 CT mask aligner to be used for advanced applications.
In October 2023, Canon, a leader in production inkjet presses, announced a technology preview of the Canon varioPRINT iX1700, a new 170 A4 images per minute, sheetfed inkjet press, at Canon Expo in Yokohama, Japan.
In September 2023, Independent visual content provider, EPA Images, announced a five-year partnership with Canon Europe to renew and update its photography and videography equipment to confront the challenges in a changing world.