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市場調査レポート
商品コード
1857119
SiC研磨用消耗品:世界市場シェア・ランキング、総販売および需要予測、2025年~2031年SiC Polishing Consumables - Global Market Share and Ranking, Overall Sales and Demand Forecast 2025-2031 |
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カスタマイズ可能
適宜更新あり
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| SiC研磨用消耗品:世界市場シェア・ランキング、総販売および需要予測、2025年~2031年 |
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出版日: 2025年10月11日
発行: QYResearch
ページ情報: 英文 104 Pages
納期: 2~3営業日
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概要
SiC研磨用消耗品の世界市場は、2024年には1億3,400万米ドル規模と推定され、2031年には4億7,200万米ドルに再調整され、予測期間2025-2031年のCAGRは19.6%と予測されています。
炭化ケイ素(SiC)は、より高い温度、電力レベル、電圧で動作可能なワイドバンドギャップ半導体です。これにより、パワーデバイス、LED照明、通信におけるエネルギー効率の向上が可能になります。SiCはそのユニークな特性から、ハイブリッド電気自動車、パワーエレクトロニクススイッチ、LED照明技術など、多様な用途に選ばれている材料です。
本レポートは、SiC CMPスラリーとSiC CMPパッドを含むSiC研磨用消耗品を調査しています。
SiC研磨用消耗品の世界的な主要企業には、デュポン、エンテグリス、富士見コーポレーション、サンゴバン、Fujibo、Shanghai Xinannaなどが含まれます。2024年には、世界の主要企業4社が売上高で約82%のシェアを占めています。
SiC CMPスラリーの主要プレーヤーには、エンテグリス、富士見コーポレーション、サンゴバン、上海新浪などが含まれます。2024年には、世界の主要企業3社が売上高で約82.4%のシェアを占めています。
SiC CMPパッドの主要プレーヤーには、デュポン、エンテグリス、富士紡などが含まれます。デュポンは世界のSiC CMPパッド市場を独占しており、75%以上のシェアを占めています。
スラリーやパッドを含む炭化ケイ素(SiC)化学機械研磨(CMP)消耗品市場は、SiCウエハー産業自体の急成長を反映し、極めて重要な段階にあります。現在、市場は非常に集中しており、少数の主要プレーヤーがサプライチェーンを支配しています。エンテグリスと富士見コーポレーションは、SiC CMPスラリーのリーダーとして確立されており、材料科学における深い専門知識を活用して、SiC研磨の厳しい要求を満たす独自の配合を開発しています。同様に、デュポンと富士紡はSiC CMPパッド市場で圧倒的な地位を占めています。この限られた数のサプライヤーは、高い品質と性能を保証する一方で、将来の生産能力拡大のボトルネックになる可能性もあります。現在の市場活動の大半は、パワーエレクトロニクスの業界標準となり、自動車やエネルギー分野に不可欠な6インチSiCウエハーに集中しています。しかし、8インチウェーハの需要もまだ始まったばかりだが伸びており、これは規模の経済性を約束するもので、ウエハーやSTマイクロエレクトロニクスなどの大手SiCメーカーにとって重要な焦点となっています。これらの消耗品の性能は、最終的なデバイスの歩留まりと品質に直接影響するため、その開発はSiCエコシステム全体にとって重要な課題となっています。
SiC CMP消耗品市場には、いくつかの強力な動向が追い風となっています。まず第一に、電気自動車(EV)におけるSiCの採用が加速しています。SiCパワーデバイスは、従来のシリコンベースのソリューションに比べて効率、電力密度、熱伝導性に優れているため、EVのインバーター、車載充電器、DC-DCコンバーターにとって極めて重要です。EVの生産が世界的に拡大するにつれて、SiCウエハー、ひいてはそれを研磨するための消耗品の需要も拡大しています。第二に、再生可能エネルギーの世界的な推進が重要な推進力となっています。SiCコンポーネントは、ソーラー・インバータや風力タービン・システムに不可欠であり、エネルギー変換効率の最大化に貢献しています。第3の要因は、6インチ・ウエハーから8インチ・ウエハーへの移行です。この移行は、半導体産業がダイあたりのコスト低減を常に追求していることに起因しています。大手SiCメーカーが8インチ製造ラインに大規模な投資を行うにつれ、これらの大型ウエハーに最適化された高性能CMPスラリーやパッドの需要が急増します。この移行に伴い、消耗品メーカーには、大型基板での研磨の均一性と欠陥に関する新たな技術課題に対処するための大規模な研究開発投資が必要になります。
堅調な促進要因にもかかわらず、SiC CMP消耗品業界は大きな課題に直面しています。主な障害は、SiCの極めて高い硬度と化学的不活性であり、そのため研磨は本質的に困難で時間のかかるプロセスとなっています。そのため、効果的で費用対効果の高い研磨スラリーと耐久性のあるパッドを使用する必要があります。表面欠陥を最小限に抑えながら、より高い材料除去率(MRR)を達成できる新しい配合を開発することは、依然として大きな技術的ハードルとなっています。第二の大きな課題は、原材料、特にスラリーに使用される特殊な研磨剤と化学物質のコストが高く、供給量が限られていることです。市場の集中的な性質も、主要サプライヤーが生産上の問題に直面した場合、潜在的なサプライチェーンの脆弱性につながる可能性があり、懸念点となりうる。さらに、異なるSiCデバイス・メーカー間で標準化された研磨工程がないため、複雑さが増しています。各メーカーは独自のレシピを持っているため、消耗品サプライヤーは幅広い製品を開発するか、個々の顧客と緊密に連携してオーダーメイドのソリューションを開発する必要があります。このような断片化は、業界全体の成熟を遅らせ、普遍的で歩留まりの高い研磨プロセスの開発を妨げる可能性があります。
本レポートは、SiC研磨用消耗品の世界市場を包括的に紹介することを目的としており、地域別・国別、タイプ別、ウエハーサイズ別の分析とともに、総売上収益、主要企業シェア、ランキングに焦点を当てています。
SiC研磨用消耗品の市場規模・推定・予測は、2024年を基準年として、2020年から2031年までの履歴データと予測データを売上収益(百万米ドル)で提供しています。定量分析および定性分析により、読者がビジネス/成長戦略を策定し、市場競合状況を評価し、現在のマーケットプレースにおける自社のポジションを分析し、SiC研磨用消耗品に関する十分な情報に基づいたビジネス上の意思決定を行えるよう支援します。
よくあるご質問
目次
第1章 市場概要
- SiC研磨用消耗品の製品イントロダクション
- SiC研磨用消耗品の世界市場規模予測(2020-2031年)
- SiC研磨用消耗品の市場動向と促進要因
- 前提条件と制約
- 調査目的
- 考察年数
第2章 企業別競合分析
- 世界のSiC研磨用消耗品の企業収益ランキング(2024年)
- 世界のSiC研磨用消耗品の企業別収益(2020-2025年)
- 主要メーカーのSiC研磨用消耗品の製造拠点分布および本社
- 主要メーカーのSiC研磨用消耗品の製品提供
- 主要メーカーのSiC研磨用消耗品の量産開始時期
- SiC研磨用消耗品市場の競合分析
- M&A、拡大
第3章 タイプ別セグメンテーション
- タイプ別イントロダクション
- SiC CMPパッド
- SiC CMPスラリー
- 世界のSiC研磨用消耗品のタイプ別販売額
第4章 ウェハーサイズ別セグメント
- ウエハーサイズ別イントロダクション
- 8インチSiCウエハー
- 6インチSiCウエハー
- 4インチSiCウエハー
- ウェハーサイズ別SiC研磨用消耗品の世界販売金額
- ウェハーサイズ別SiC研磨用消耗品の世界販売額(2020年VS 2024年VS 2031年)
- ウェハーサイズ別SiC研磨用消耗品の世界販売額(2020年~2031年)
- ウエハーサイズ別SiC研磨用消耗品の世界販売額(%)(2020-2031年)
第5章 地域別セグメンテーション
- SiC研磨用消耗品の地域別世界販売額
- 北米
- 欧州
- アジア太平洋
- 南米
- 中東・アフリカ
第6章 主要国/地域別セグメント
- 主要国・地域別SiC研磨用消耗品の販売額成長動向、2020年VS2024年VS2031年
- 主要国・地域別SiC研磨用消耗品の販売額、2020-2031年
- 米国
- 欧州
- 中国
- 日本
- 韓国
- 東南アジア
- インド
第7章 企業プロファイル
- DuPont
- Fujibo Group
- Entegris(CMC Materials)
- Saint-Gobain
- Fujimi Corporation
- Shanghai Xinanna Electronic Technology
- Vibrantz(Ferro)
- Beijing Hangtian Saide
- Beijing Grish Hitech
- Tianjin Helen
- CHUANYAN
- Engis Corporation


