イオンビームエッチングシステム市場-2024年から2029年までの予測

イオンビームエッチングシステム市場は、2024年の41億4,400万米ドルから予測期間中にCAGR 7.06％で成長し、2029年には58億2,800万米ドルに達すると予測されています。

イオンビームエッチングは、不活性ガスイオンを使用して材料を除去または成形する化学エッチングプロセスです。一般的には、真空チャンバー内の基板にイオンビームを向けることで得られます。このシステムは、一般的に低圧環境において、ビームとイオン束の独立系制御を可能にします。また、制御された異方性エッチングも可能です。

世界のイオンビームエッチングシステム市場の主要な促進要因の一つは、世界的に拡大する医療機器・装置市場です。医療機器では、イオンビームエッチングソリューションによって、ペースメーカーや補聴器のような小型またはマイクロスケールの部品が製造されます。医療機器の生産は世界的に大きく拡大しています。米国は、世界市場における医療機器取引の主要国のひとつです。The Observatory of Economic Complexity（OEC）はその報告書の中で、2022年の米国の医療機器輸入額は約347億米ドルを記録し、2021年の約322億米ドルから増加したと述べています。

イオンビームエッチングシステム市場は大幅に上昇すると予測されています。同市場は、ナノ技術の利用の増加と、多数の組織や企業による継続的な研究プロジェクトによる迅速な市場開拓によって成長しています。半導体産業の拡大を牽引する技術の進歩も、ビームエッチングシステム市場を拡大しています。

イオンビームエッチングシステム市場促進要因

• 半導体需要の増加は、イオンビームエッチング装置の需要を世界的に押し上げると予想されます。

半導体は現代の電子機器の中心であり、より小型で高性能なガジェットを作るために小型化されているため、世界のイオンビームエッチングシステム市場の主要促進要因の一つです。このため、精密なエッチング手順が必要となります。イオンビームエッチングは、高精度、均一性、柔軟性など、従来の方法に比べていくつかの利点があります。イオンビームエッチングシステムは、高精度、均一性、柔軟性を備え、従来の方法に比べてさまざまな利点を記載しています。微小なスケールで材料を退避させることができるため、小型チップ上に複雑な形態を形成することができ、高性能半導体に不可欠なウエハー表面全体の信頼性の高いエッチングを保証します。

さらに、米国半導体工業会（SIA）は、2024年4月までに世界の半導体産業の売上高が約464億米ドルに達すると表明しました。これは、売上高が約401億米ドルを記録した2023年4月と比べて約15.8%の増加です。SIAは米国半導体業界を代表し、売上高の99%を占め、米国以外のチップ企業の約3分の2を占めています。

さらにSIAは、世界半導体貿易統計（WSTS）組織の2024年春の世界半導体売上高予測を支持し、2024年の6,112億米ドルから2025年には記録的な6,874億米ドルに増加し、業界史上最高の年間売上高を記録すると予測しています。半導体産業において、イオンビームエッチングソリューションは、様々な種類の半導体に対して高精度のエッチングと信頼性の高い効果的なエッチングを記載しています。半導体産業が拡大するにつれて、イオンビームエッチングシステムに対する需要はさらに増加すると予想されます。

• オプトエレクトロニクスの利用拡大がイオンビームエッチングシステム市場の成長を後押しすると予測されています。

オプトエレクトロニクスには、光源、識別、制御を行う電子ガジェットの研究と利用が含まれます。イオンビームエッチングの精度と制御は、進歩したオプトエレクトロニクスコンポーネントを製造するための基本です。このエッチングは、レーザー、LED、光検出器などのオプトエレクトロニクス機器の複雑な構造を作るための非常に効果的で均一な戦略であるため、イオンビームエッチングシステムの市場規模を拡大する主要要因となっています。イオンビームエッチングは、高い制御性と一貫性を提供し、より生産的で高性能なコンポーネントの開発を後押しします。イオンビームエッチングは、LEDやレーザーの製造に必要なシリコン以外の多くのマテリアルを扱うことができます。

International Roadmap for Devices and Systems（IRDS）2022報告書によると、オプトエレクトロニクスの世界売上高はコンスタントに増加しており、2021年の479億米ドルから2022年には542億米ドルに増加すると予測されています。さらに、過去10年間、オプトエレクトロニクスは約13％の複合成長率（CGR）で成長してきたことが報告されています。このような部品販売の増加は、より精密で進歩したイオンビームエッチング技術システムを要求し、今後数年間の市場拡大の増加につながります。

イオンビームエッチングシステム市場の地理的展望

• 中国は市場成長に大きく貢献すると予測されます。

中国の半導体産業の成長は、市場需要を増大させている主要な要因のひとつです。このため、製造設備への国内投資が増加する一方、海外半導体への依存度が低下しています。イオンビームエッチング装置は、半導体製造の精度を向上させる重要な側面として必要とされています。そのため、中国での半導体販売も増加しています。例えば、3月の前年同月比売上高は27.4％増となっています。

イオンビームエッチングシステムの採用を促進するもう一つの要因は、中国におけるナノ技術の急速な進歩です。これらのシステムは、オプトエレクトロニクスやマイクロエレクトロニクスなど、さまざまなハイテクセグメントで必要とされる非常に精密なナノ構造の形成に使用されています。中国では、性能重視の電子機器に対するニーズが高まっており、これが市場を牽引しています。さらに、イオンビームエッチングシステムは、その精度と正確性から、メモリーチップ、センサー、マイクロプロセッサーなどの先端部品の製造に適しています。

さらに、市場参入企業は、特定セグメントにおける国の技術能力を高める製品を製造しており、重要な技術の自給自足も市場を支えています。例えば、中国のメーカーPerfect Opticsは、イオンビーム研磨・エッチング用の高品質高周波イオンビームソースを製造しています。

さらに、2022年2月には、中国の新しい研究機関であるZhejiang Labに、Scia Systemのイオンビームエッチングシステムが提供されました。このシステムは、最大150mmまでの様々な基板サイズに対して、反応性イオンビームエッチングと高均一イオンビームエッチングを実現します。このシステムには、迅速な処理のための1枚基板ロードロックが装備されています。最先端の基礎研究や研究開発用途には、省スペース設計とオプションで壁貫通設置が可能なScia Mill 150が最適です。

イオンビームエッチングシステム主要市場参入企業

• Veeco-Veecoは、世界のハイテク電子デバイスの開発と生産を促進するイオンビームエッチングシステムの開発、製造、販売を行っています。Veeco NEXUSの多くの用途の中でも、IBEシステムは金属膜を精密にエッチングし、さまざまなMRAM、ハードドライブ、モバイル機器、車載機器に必要な磁気センサーを製造しています。
• Scia Systems GmbH-Scia Systemsは、マイクロエレクトロニクス、MEMS、精密光学部品を大量生産と研究開発環境で製造するためのイオンビームとプラズマ処理装置を製造と開発しています。
• Oxford Instruments-Oxford Instrumentsは、産業と研究用の最先端システムとツールのトップサプライヤーです。イオンプラズマ、イオンビームエッチング、蒸着技術を開発、製造しています。

目次

第1章 イントロダクション

• 市場概要
• 市場の定義
• 調査範囲
• 市場セグメンテーション
• 通貨
• 前提条件
• 基準年と予測年のタイムライン
• 利害関係者にとっての主要メリット

第2章 調査手法

• 調査デザイン
• 調査プロセス

第3章 エグゼクティブサマリー

• 主要調査結果

第4章 市場力学

• 市場促進要因
• 市場抑制要因
• ポーターのファイブフォース分析
• 業界バリューチェーン分析
• アナリストビュー

第5章 イオンビームエッチングシステム市場：タイプ別

• イントロダクション
• 小型イオンビームエッチング装置
• シングルウエハー式イオンビームエッチング装置
• バッチ式イオンビームエッチング装置
• その他

第6章 イオンビームエッチングシステム市場：用途別

• イントロダクション
• メムス
• センサー
• 電源装置
• 高周波デバイスと光デバイス
• その他

第7章 イオンビームエッチングシステム市場：地域別

• イントロダクション
• 南北アメリカ
• 欧州、中東・アフリカ
• アジア太平洋

第8章 競合環境と分析

• 主要企業と戦略分析
• 新興参入企業とマーキーの収益性
• 合併、買収、合意とコラボレーション
• 競合ダッシュボード

第9章 企業プロファイル

• Veeco
• SCIA Systems Gmbh
• Hitachi High-Tech Corporation
• Y.A.C. Holdings Co., Ltd.
• Oxford Instruments
• Hakuto Co., Ltd.
• Leica Microsystems
• Intlvac Thin Film Corporation
• Canon Anelva Corporation
• AdNaNoTek Corporation
• Lam Research Corporation
• Plasma-Therm

The ion beam etching system market is projected to grow at a CAGR of 7.06% over the forecast period, from US$4.144 billion in 2024 and is expected to reach US$5.828 billion by 2029.

Ion beam etching is a chemical etching process that uses inert gas ions to remove or shape materials. It is generally obtained by directing the beam of ions at the substrate in a vacuum chamber. This system allows the independent control of beam and ion flux, generally in lower-pressure environments. It also produces controlled anisotropic etching.

One of the major driving factors for the global ion beam etching system market can be the global expanding medical device and equipment market. In medical devices, the ion beam etching solutions create small or micro-scale components, like pacemakers and hearing aids. Medical device production is expanding significantly worldwide. The USA is among the leading nations in the trade of medical instruments in the global market. The Observatory of Economic Complexity (OEC) stated in its report that in 2022, the medical instrument import of the US was recorded at about US$34.7 billion, which grew from about US$32.2 billion in 2021.

The ion beam etching system market is projected to rise significantly. The market is growing due to the increasing use of nanotechnology and its quick development due to ongoing research projects carried out by numerous organizations and businesses. Technological advancements driving the semiconductor industry's expansion are also expanding the market for beam etching systems.

ION BEAM ETCHING SYSTEM MARKET DRIVERS:

• Increasing demand for semiconductors is anticipated to boost the demand for ion beam etching systems globally.

Semiconductors are one of the major drivers for the global ion beam etching system market as they are the center of modern electronic devices, which are miniaturized to make smaller, more powerful gadgets. This requires precise etching procedures. Ion beam etching offers several advantages over traditional methods, incorporating high accuracy, uniformity, and flexibility. The ion beam etching system provides various benefits over traditional procedures, incorporating high accuracy, uniformity, and flexibility. It can evacuate material at a tiny scale, creating intricate features on small-sized chips and ensuring reliable etching across the wafer surface essential for high-performance semiconductors.

Moreover, the Semiconductor Industry Association (SIA) expressed that the global semiconductor industry sales reached around US$46.4 billion by April 2024. This represented an increment of approximately 15.8% compared to April 2023, when the sales were recorded at around US$40.1 billion. SIA represents the U.S. semiconductor industry, accounting for 99% of revenue and about two-thirds of non-U.S. chip firms.

Further, SIA endorsed the World Semiconductor Trade Statistics (WSTS) organization's spring 2024 worldwide semiconductor sales estimate, anticipating an increment from $611.2 billion in 2024 to a record $687.4 billion in 2025, marking the industry's highest-ever yearly sales total. In the semiconductor industry, ion beam etching solution provides high-precision etching and dependable and effective etching for different types of semiconductors. As the semiconductor industry expands, the demand for the ion beam itching system is additionally anticipated to increase.

• Rising utilization of optoelectronics is predicted to bolster the ion beam itching system market growth.

Optoelectronics includes studying and utilizing electronic gadgets that source, identify, and control light. The accuracy and control of ion beam etching are fundamental for manufacturing progressed optoelectronic components. This is a major factor leading to the growing market size of the ion beam etching system, as this etching is a highly effective and uniform strategy for making complicated structures in optoelectronic gadgets such as lasers, LEDs, and photodetectors. It offers high control and consistency, empowering the advancement of more productive and high-performance components. Ion beam etching can handle many materials beyond silicon, which are required to manufacture LEDs and lasers.

The International Roadmap for Devices and Systems (IRDS) 2022 report stated a constant rise in the global sales of optoelectronics, which was forecasted to rise from $47.9 billion in 2021 to $54.2 billion in 2022. Moreover, it was reported that for the last 10 years, optoelectronics has been growing at about 13% Compound Growth Rate (CGR). This rise in component sales would demand a more precise and progressed ion beam etching techniques system, leading to an increment in the market expansion in the coming years.

Ion Beam Etching System Market Geographical Outlook

• China is predicted to contribute at a substantial pace to market growth.

China's growth in the semiconductor industry is one major factor that is increasing the market demand. This has led to increased domestic investments in manufacturing facilities while reducing reliance on international semiconductors. Ion beam etching systems are required as a critical aspect of semiconductor production to improve its accuracy. This has also increased the sales of semiconductors in China. For instance, the year-over-year sales in March rose by 27.4%.

Another factor driving the adoption of ion beam etching systems is rapid advancements in nanotechnology in China. These systems are used to form very precise nanostructures required in different hi-tech sectors, such as optoelectronics and microelectronics. In China, there is a rise in the need for performance-oriented electronic devices, which is leading the market. Moreover, due to their accuracy and precision, ion beam etching systems are suitable for creating advanced components such as memory chips, sensors, and microprocessors.

Further, market players manufacture products that increase a country's technological capacity in a particular area, and self-sufficiency in crucial technologies also supports the market. For instance, the Chinese manufacturer Perfect Optics produces a high-quality radio frequency ion beam source for ion beam polishing and etching.

Moreover, in February 2022, Zhejiang Lab, a new research institute in China, was provided with an Ion Beam Etching System from Scia System. The system will accomplish reactive ion beam etching and high uniform ion beam etching on varying substrate sizes up to 150 mm. It is fitted with a single substrate load lock for quicker processing. Cutting-edge and fundamental research, as well as R&D applications, are best served by the Scia Mill 150 because of its space-saving design and optional through-the-wall installation.

Ion Beam Etching System Key Market Players:

• Veeco - Veeco develops, produces, and sells ion beam etching systems that facilitate global high-tech electronic device development and production. Among the many uses for the Veeco NEXUS, IBE systems are precisely etching metallic films to produce the magnetic sensors needed for a wide range of MRAM, hard drives, mobile, and automotive devices.
• Scia Systems GmbH- Scia Systems manufactures and develops ion beam and plasma processing equipment for producing microelectronics, MEMS, and precision optical components in high-volume and R&D environments. Multiple vacuum process chambers can be combined into cluster or in-line solutions, depending on the customer's needs, because of their flexible and modular design.
• Oxford Instruments - Oxford Instruments is a top supplier of cutting-edge systems and tools for industry and research. It creates and produces technologies for ion plasma and ion beam etching and deposition.

Market Segmentation:

The Ion Beam Etching System Market is segmented and analyzed as below:

By Type

• Compact ion beam etching machine
• Single wafer type ion beam etching machine
• Batch-type ion beam etching machine
• Others

By Application

• MEMS
• Sensors
• Power devices
• High-frequency devices and optical devices
• Others

By Geography

• Americas
• USA
• Canada
• Others
• Europe, the Middle East, and Africa
• Germany
• France
• United Kingdom
• Others
• Asia Pacific
• China
• Japan
• India
• South Korea
• Taiwan
• Others

TABLE OF CONTENTS

1. INTRODUCTION

• 1.1. Market Overview
• 1.2. Market Definition
• 1.3. Scope of the Study
• 1.4. Market Segmentation
• 1.5. Currency
• 1.6. Assumptions
• 1.7. Base and Forecast Years Timeline
• 1.8. Key benefits for the stakeholders

2. RESEARCH METHODOLOGY

• 2.1. Research Design
• 2.2. Research Process

3. EXECUTIVE SUMMARY

• 3.1. Key Findings

4. MARKET DYNAMICS

• 4.1. Market Drivers
• 4.2. Market Restraints
• 4.3. Porter's Five Forces Analysis
  • 4.3.1. Bargaining Power of Suppliers
  • 4.3.2. Bargaining Power of Buyers
  • 4.3.3. Threat of New Entrants
  • 4.3.4. Threat of Substitutes
  • 4.3.5. Competitive Rivalry in the Industry
• 4.4. Industry Value Chain Analysis
• 4.5. Analyst view

5. ION BEAM ETCHING SYSTEM MARKET BY TYPE

• 5.1. Introduction
• 5.2. Compact ion beam etching machine
• 5.3. Single wafer type ion beam etching machine
• 5.4. Batch-type ion beam etching machine
• 5.5. Others

6. ION BEAM ETCHING SYSTEM MARKET BY APPLICATION

• 6.1. Introduction
• 6.2. MEMS
• 6.3. Sensors
• 6.4. Power devices
• 6.5. High-frequency devices and optical devices
• 6.6. Others

7. ION BEAM ETCHING SYSTEM MARKET BY GEOGRAPHY

• 7.1. Introduction
• 7.2. Americas
  • 7.2.1. By Type
  • 7.2.2. By Application
  • 7.2.3. By Country
    • 7.2.3.1. USA
    • 7.2.3.2. Canada
    • 7.2.3.3. Others
• 7.3. Europe, the Middle East, and Africa
  • 7.3.1. By Type
  • 7.3.2. By Application
  • 7.3.3. By Country
    • 7.3.3.1. Germany
    • 7.3.3.2. France
    • 7.3.3.3. United Kingdom
    • 7.3.3.4. Others
• 7.4. Asia Pacific
  • 7.4.1. By Type
  • 7.4.2. By Application
  • 7.4.3. By Country
    • 7.4.3.1. China
    • 7.4.3.2. Japan
    • 7.4.3.3. India
    • 7.4.3.4. South Korea
    • 7.4.3.5. Taiwan
    • 7.4.3.6. Others

8. COMPETITIVE ENVIRONMENT AND ANALYSIS

• 8.1. Major Players and Strategy Analysis
• 8.2. Emerging Players and Markey Lucrativeness
• 8.3. Mergers, Acquisitions, Agreements, and Collaborations
• 8.4. Competitive Dashboard

9. COMPANY PROFILES

• 9.1. Veeco
• 9.2. SCIA Systems Gmbh
• 9.3. Hitachi High-Tech Corporation
• 9.4. Y.A.C. Holdings Co., Ltd.
• 9.5. Oxford Instruments
• 9.6. Hakuto Co., Ltd.
• 9.7. Leica Microsystems
• 9.8. Intlvac Thin Film Corporation
• 9.9. Canon Anelva Corporation
• 9.10. AdNaNoTek Corporation
• 9.11. Lam Research Corporation
• 9.12. Plasma-Therm