市場調査レポート
商品コード
1466389
原子層蒸着装置市場:成膜方法、膜タイプ、用途別-2024-2030年の世界予測Atomic Layer Deposition Equipment Market by Deposition Method (Plasma-Enhanced ALD, Powder ALD, Roll-to-Roll ALD), Film Type (Fluoride Films, Metal Films, Nitride Films), Application - Global Forecast 2024-2030 |
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原子層蒸着装置市場:成膜方法、膜タイプ、用途別-2024-2030年の世界予測 |
出版日: 2024年04月17日
発行: 360iResearch
ページ情報: 英文 188 Pages
納期: 即日から翌営業日
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原子層蒸着装置市場規模は、2023年に44億1,000万米ドルと推定され、2024年には48億5,000万米ドルに達し、CAGR 10.63%で2030年には89億4,000万米ドルに達すると予測されています。
原子層堆積(ALD)装置市場は、原子層堆積装置の生産、流通、使用に関わる幅広いエコシステム利害関係者によって定義されます。これらの高度に専門化されたツールは、主に半導体およびエレクトロニクス産業における様々な用途の薄膜合成に使用されます。マイクロエレクトロニクスの利用の高まりと電子部品の小型化が、原子層堆積(ALD)装置の市場需要を牽引しています。また、医療機器への原子層蒸着コーティングの採用が増加していることも、市場成長に寄与しています。しかし、ALD装置の取り扱いの難しさや熟練技術者の不足が、市場でのALD装置の採用を制限する可能性があります。また、技術的な制約や膜厚の制限も市場成長の懸念材料となっています。さらに、原子層蒸着装置とAI/ML技術の統合における継続的な進歩が、市場に魅力的な機会を生み出しています。ALD施設とシステムへの拡張と投資は、市場に大きな成長の可能性をもたらすと期待されています。
主な市場の統計 | |
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基準年[2023] | 44億1,000万米ドル |
予測年[2024] | 48億5,000万米ドル |
予測年 [2030] | 89億4,000万米ドル |
CAGR(%) | 10.63% |
成膜方法:プラズマエンハンストALDの重要性の高まり
プラズマエンハンストALDは、高い熱入力を必要とせずに室温で薄膜を成膜できるため、好まれています。粉末原子層堆積法には、費用対効果やスケーラビリティの容易さなど独自の利点があり、大規模な産業用途に最適です。ロール・ツー・ロール原子層堆積法は、ALD膜の連続大量生産を可能にし、フレキシブル・エレクトロニクスやエネルギー貯蔵分野のニーズを満たすために、生産時間とコストを削減します。空間ALDは迅速な成膜速度を誇り、ディスプレイ技術産業のような短納期を必要とする分野に適しています。熱ALDは、その高品質フィルムと原子レベルの精度により、マイクロエレクトロニクスや光学分野で広く採用されています。
膜の種類フッ化物膜への嗜好の高まり
フッ化物膜は、その低屈折率、耐食性、過酷な環境下で使用できる耐高温性により、光学用途で重要な役割を果たしています。金属膜は、高い導電性と優れた熱特性で知られ、電気・電子産業で主に必要とされ、効率的な電子信号伝送の実現に役立っています。窒化物膜は、高い硬度と優れた熱安定性を持ち、切削工具、エンジン、耐摩耗用途などの産業で好まれています。酸化物膜は、安定した非反応性と優れた絶縁性が評価され、電気絶縁や腐食防止用途に広く使用されています。硫化物膜は、その卓越した光学特性と電気的特性により、光学デバイス、半導体、センサーなど様々な用途に利用されています。
応用:医療分野におけるALD装置の利用増加
原子層蒸着(ALD)装置は、ナノスケールで膜厚を精密に制御できる比類のない利点を提供するため、コーティングサービスにおいて極めて重要な役割を果たしており、生物活性表面からエネルギー貯蔵、半導体に至るまで、幅広い用途に利用されています。従来の光学分野では、ALD装置が、レンズ、フィルター、ミラーの製造工程を、原子スケールの正確な連続蒸着層で洗練させることを証明しています。エネルギー分野では、ALD装置に対するニーズが高まっており、特に薄膜太陽電池の製造に使用される太陽光発電産業では、そのニーズが高まっています。ALD技術は、インプラントのコーティング、ドラッグデリバリーの強化、抗菌表面など、医療分野のプロセスに革命をもたらしています。
地域別の洞察
南北アメリカ地域では、米国、カナダ、ブラジルなどの主要国が、技術の進歩、主要技術機関や主要企業の強い存在感により、原子層蒸着(ALD)装置に対する大きな需要を有しています。欧州諸国は、高い技術投資と広範な研究開発活動により、ALD装置がより顕著に使用されています。ドイツ、英国、イタリアなどの主要国では、政府による奨励措置がEMEA地域のALD装置市場の需要をさらに高めています。アジア太平洋地域は、主にエレクトロニクスと半導体産業によってALD装置へのニーズが高まっています。主要な技術拠点として、中国、日本、インドがアジア太平洋地域のALD市場を牽引しており、技術成長を維持するためにALD装置への強い嗜好を示しています。
FPNVポジショニング・マトリックス
FPNVポジショニングマトリックスは、原子層蒸着装置市場を評価する上で極めて重要です。事業戦略や製品満足度に関連する主要指標を調査し、ベンダーの包括的な評価を提供します。この綿密な分析により、ユーザーは各自の要件に沿った十分な情報に基づいた意思決定を行うことができます。評価に基づき、ベンダーは成功の度合いが異なる4つの象限に分類されます:フォアフロント(F)、パスファインダー(P)、ニッチ(N)、バイタル(V)です。
市場シェア分析
市場シェア分析は、原子層蒸着装置市場におけるベンダーの現状について、洞察に満ちた詳細な調査を提供する包括的なツールです。全体的な収益、顧客基盤、その他の主要指標についてベンダーの貢献度を綿密に比較・分析することで、企業の業績や市場シェア争いの際に直面する課題について理解を深めることができます。さらに、この分析により、調査対象基準年に観察された累積、断片化の優位性、合併の特徴などの要因を含む、この分野の競合特性に関する貴重な考察が得られます。このような詳細レベルの拡大により、ベンダーはより多くの情報に基づいた意思決定を行い、市場で競争優位に立つための効果的な戦略を考案することができます。
1.市場の浸透度:主要企業が提供する市場に関する包括的な情報を提示しています。
2.市場の開拓度:有利な新興市場を深く掘り下げ、成熟市場セグメントにおける浸透度を分析しています。
3.市場の多様化:新製品の発売、未開拓の地域、最近の開発、投資に関する詳細な情報を提供します。
4.競合の評価と情報:市場シェア、戦略、製品、認証、規制状況、特許状況、主要企業の製造能力について徹底的な評価を行います。
5.製品開発およびイノベーション:将来の技術、研究開発活動、画期的な製品開発に関する知的洞察を提供します。
1.原子層蒸着装置市場の市場規模および予測は?
2.原子層蒸着装置市場の予測期間中に投資を検討すべき製品、セグメント、用途、分野は何か?
3.原子層蒸着装置市場の技術動向と規制枠組みは?
4.原子層蒸着装置市場における主要ベンダーの市場シェアは?
5.原子層蒸着装置市場への参入に適した形態や戦略的手段は?
[188 Pages Report] The Atomic Layer Deposition Equipment Market size was estimated at USD 4.41 billion in 2023 and expected to reach USD 4.85 billion in 2024, at a CAGR 10.63% to reach USD 8.94 billion by 2030.
The atomic layer deposition (ALD) equipment market is defined by the broad ecosystem stakeholders involved in the production, distribution, and use of atomic layer deposition systems. These highly specialized tools are used to synthesize thin films for a variety of applications, primarily in the semiconductor and electronics industries. The rising utilization of microelectronics and miniaturized electronic components are driving the market demand for the atomic layer deposition (ALD) equipment. The increasing adoption of atomic layer deposition coatings for medical devices also contributes to the market growth. However, the difficulties in handling ALD machinery and the lack of skilled technical personnel may limit the adoption of ALD equipment in the market. The technical constraints and limited film thickness are also concerning factors for the market growth. Moreover, ongoing advancements in atomic layer deposition equipment and integration of AI/ML technologies are generating attractive opportunities in the market. The expansion and investments in ALD facilities and systems are expected to create tremendous growth potential for the market.
KEY MARKET STATISTICS | |
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Base Year [2023] | USD 4.41 billion |
Estimated Year [2024] | USD 4.85 billion |
Forecast Year [2030] | USD 8.94 billion |
CAGR (%) | 10.63% |
Deposition Method: Rising significance of plasma-enhanced ALD
Plasma-enhanced ALD is preferred due to the ability to deposit thin films at room temperature without the need for high thermal input. Powder atomic layer deposition comes with unique advantages including cost-effectiveness and ease of scalability, making it ideal for large-scale industrial applications. Roll-to-roll atomic layer deposition allows continuous and mass production of ALD films, reducing the production time and cost to fulfill the needs of flexible electronics and energy storage sectors. Spatial ALD boasts rapid deposition rates, making it desirable for sectors requiring quick turn-around times such as the display technology industry. Thermal ALD is widely adopted in microelectronics and optics fields due to its high-quality film and atomic-level precision.
Film Type: Increasing preference for fluoride films
Fluoride films play a significant role in optical applications due to their low refractive index, anti-corrosive properties, and high-temperature resistance for use in environments with extreme conditions. Metal films, known for their high conductivity and excellent thermal properties, find their primary need in the electrical and electronics industry and help attain efficient electronic signal transmission. Nitride films, possessing high hardness and excellent thermal stability, are preferred in industries such as cutting tools, engines, and wear-resistant applications. Oxide films, appreciated for their stable, non-reactive nature and good insulating properties, are extensively used in electrical insulation and corrosion-protection applications. Sulfide films are utilized in a range of applications, including optical devices, semiconductors, and sensors owing to their exceptional optical properties and electrical characteristics.
Application: Increasing utilization of ALD equipment in medical sector
Atomic Layer Deposition (ALD) equipment plays a pivotal role in coating services as it offers an unparalleled advantage of precisely controlling film thicknesses at the nanoscale, facilitating a broad range of uses, from bioactive surfaces to energy storage to semiconductors. In conventional optics, ALD equipment is proving precise sequential layers of atomic-scale deposition refine the lens, filter, and mirror production process. The energy sector is experiencing an escalating need for ALD equipment, particularly in the photovoltaic industry, where the equipment is used in the production of thin-film solar cells. ALD technology is revolutionizing processes in the medical sector, including coating of implants, enhancement of drug delivery, and antimicrobial surfaces.
Regional Insights
In the Americas region, major countries such as the United States, Canada, and Brazil have significant demand for Atomic Layer Deposition (ALD) equipment due to technological advances and strong presence of major technical institutions and key companies in the region. European countries exhibit a more prominent use of ALD equipment due to high technology investments, and extensive R&D activities. Incentive initiatives by governing bodies in major countries such as Germany, United Kingdom, and Italy further bolster the market demand for ALD equipment in the EMEA region. The Asia Pacific region shows a rising need for ALD equipment, mainly driven by electronics and semiconductor industries. As major technological hubs, China, Japan, and India are driving the ALD market in the Asia Pacific region, showing a strong preference for ALD equipment to sustain technology growth.
FPNV Positioning Matrix
The FPNV Positioning Matrix is pivotal in evaluating the Atomic Layer Deposition Equipment Market. It offers a comprehensive assessment of vendors, examining key metrics related to Business Strategy and Product Satisfaction. This in-depth analysis empowers users to make well-informed decisions aligned with their requirements. Based on the evaluation, the vendors are then categorized into four distinct quadrants representing varying levels of success: Forefront (F), Pathfinder (P), Niche (N), or Vital (V).
Market Share Analysis
The Market Share Analysis is a comprehensive tool that provides an insightful and in-depth examination of the current state of vendors in the Atomic Layer Deposition Equipment Market. By meticulously comparing and analyzing vendor contributions in terms of overall revenue, customer base, and other key metrics, we can offer companies a greater understanding of their performance and the challenges they face when competing for market share. Additionally, this analysis provides valuable insights into the competitive nature of the sector, including factors such as accumulation, fragmentation dominance, and amalgamation traits observed over the base year period studied. With this expanded level of detail, vendors can make more informed decisions and devise effective strategies to gain a competitive edge in the market.
Key Company Profiles
The report delves into recent significant developments in the Atomic Layer Deposition Equipment Market, highlighting leading vendors and their innovative profiles. These include Applied Materials, Inc., ASM International N.V., Beneq Oy, CVD Equipment Corporation, Encapsulix SAS, Eugenus, Inc., Forge Nano Inc., Kurt J. Lesker Company, Kyndryl Inc., Lam Research Corporation, Lotus Applied Technology, NANO-MASTER, Inc., NCD Co., Ltd., Optorun Co., Ltd., Oxford Instruments PLC, PHOTONEXPOR, Picosun, SENTECH Instruments GmbH, ST Instruments B.V., Tokyo Electron Limited, Veeco Instruments Inc., and Wonik IPS Co., Ltd..
Market Segmentation & Coverage
1. Market Penetration: It presents comprehensive information on the market provided by key players.
2. Market Development: It delves deep into lucrative emerging markets and analyzes the penetration across mature market segments.
3. Market Diversification: It provides detailed information on new product launches, untapped geographic regions, recent developments, and investments.
4. Competitive Assessment & Intelligence: It conducts an exhaustive assessment of market shares, strategies, products, certifications, regulatory approvals, patent landscape, and manufacturing capabilities of the leading players.
5. Product Development & Innovation: It offers intelligent insights on future technologies, R&D activities, and breakthrough product developments.
1. What is the market size and forecast of the Atomic Layer Deposition Equipment Market?
2. Which products, segments, applications, and areas should one consider investing in over the forecast period in the Atomic Layer Deposition Equipment Market?
3. What are the technology trends and regulatory frameworks in the Atomic Layer Deposition Equipment Market?
4. What is the market share of the leading vendors in the Atomic Layer Deposition Equipment Market?
5. Which modes and strategic moves are suitable for entering the Atomic Layer Deposition Equipment Market?