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市場調査レポート
商品コード
1734908
ALD(原子層堆積 )市場の2032年までの予測:製品タイプ、用途、エンドユーザー、地域別の世界分析Atomic Layer Deposition Market Forecasts to 2032 - Global Analysis By Product (Catalytic, Metal, Aluminum Oxide and Other Products), Type, Application, End User and By Geography |
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カスタマイズ可能
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ALD(原子層堆積 )市場の2032年までの予測:製品タイプ、用途、エンドユーザー、地域別の世界分析 |
出版日: 2025年05月03日
発行: Stratistics Market Research Consulting
ページ情報: 英文 200+ Pages
納期: 2~3営業日
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Stratistics MRCによると、ALD(原子層堆積 )の世界市場は2025年に29億米ドルを占め、予測期間中のCAGRは14.3%で成長し、2032年には73億米ドルに達する見込みです。
ALD(原子層堆積 )は、原子レベルで極めて精密かつ均一な材料層を形成するために用いられる薄膜蒸着技術です。ALDは、2種類以上のガス状前駆体に基板を交互に暴露するもので、前駆体は自己限定的に基板表面で反応し、一度に1つの原子層を形成します。このサイクルを繰り返すことで、目的の膜厚が形成されます。ALDは、卓越した適合性、均一性、膜厚制御で成膜する能力が評価され、半導体製造、ナノテクノロジー、さまざまなコーティング工程での応用に不可欠となっています。
シスコによると、2030年までに約5,000億台のデバイスがインターネットに接続されるといいます。
電子機器の小型化需要の増加
エレクトロニクスの小型化需要の増加は、ALD(原子層堆積 )市場を大きく押し上げます。重要な薄膜蒸着技術であるALDは、原子スケールの厚みを正確に制御できるため、より小型で高性能な電子部品の製造に最適です。スマートフォン、ウェアラブル端末、マイクロチップなどのデバイスが小型化するにつれて、先進的な材料やコーティングの必要性が高まっています。超薄膜で均一な層を形成するALDの能力は、性能とエネルギー効率の向上をサポートし、各業界での採用を促進し、市場成長を加速させています。
装置の高コスト
ALD(原子層堆積 )装置の高コストが、特に中小メーカーの間で市場成長の大きな妨げとなっています。高額な初期投資とメンテナンス費用が、コストに敏感な産業での採用を制限しています。このような経済的障壁が技術進歩を制限し、新規市場参入を阻んでいます。さらに、投資収益率(ROI)の遅さがALDシステムの魅力を低下させ、半導体やナノテクノロジー・アプリケーションにおける精度と性能の利点にもかかわらず、その普及を抑制しています。
高性能コーティングの需要
高性能コーティングへの需要の高まりが、ALD(原子層堆積 )市場を大きく牽引しています。ALDは、特に航空宇宙、エレクトロニクス、エネルギーなどの産業において、高度なコーティングの厳しい要件を満たす薄く高品質な膜を成膜するためにますます使用されるようになっています。これらのコーティングは耐久性、耐食性、熱安定性を向上させるために不可欠であるため、先端材料に対するニーズの高まりがALD技術の採用を後押しし、技術革新を促進し、さまざまな分野でALDの市場機会を拡大しています。
遅い成膜速度
ALD(原子層堆積 )プロセスでは蒸着速度が遅いため、スループットが制限され、生産時間が長くなることで、市場の成長が著しく阻害されます。この非効率性により、ALDは大量生産、特にコスト重視の産業には不向きです。その結果、大規模な半導体やディスプレイ製造のような特定の分野での採用が抑制されています。さらに、長時間の処理は運用コストの上昇につながり、メーカーがALDを生産ワークフローに完全に組み込むことを躊躇させています。
COVID-19の影響
COVID-19の大流行は市場を大きく混乱させ、サプライチェーンの中断、労働力不足、世界の操業停止によるプロジェクトの遅延を引き起こしました。これらの課題は、2020年の生産量の減少と成長の鈍化につながりました。しかし、産業界が遠隔操作やデジタルツールで適応するにつれて、市場は回復し始めました。パンデミックは半導体製造におけるALDの重要性を浮き彫りにし、新たな投資とサプライチェーンの回復力への注力を促しました。
予測期間中、プリカーサータイプのセグメントが最大になる見込み
有機金属化合物などの前駆体は、膜厚と均一性を正確に制御して高品質のコーティングを製造するALDの能力に大きく貢献しているため、プリカーサータイプのセグメントが予測期間中に最大の市場シェアを占めると予想されます。半導体、先端エレクトロニクス、エネルギー効率の高いデバイスへの需要の高まりは、高性能ALDプロセスへのニーズを後押しし、成膜速度、均一性、スケーラビリティの向上を可能にする前駆体配合の革新が恩恵をもたらします。
予測期間中、ヘルスケア分野のCAGRが最も高くなる見込み
ALDは医療機器、ドラッグデリバリーシステム、診断用の先端材料の開発に広く使用されているため、予測期間中、ヘルスケア分野が最も高い成長率を示すと予測されています。ALDは薄膜形成の精度が高いため、高機能材料の作成が可能になり、デバイスの効率と性能が向上します。小型化され、より効率的な医療機器への需要の高まりが、ALD技術の採用をさらに後押しし、ヘルスケア分野での市場成長を後押ししています。
予測期間中、アジア太平洋地域が最大の市場シェアを占めると予想されます。これは、エレクトロニクスとクリーンエネルギーインフラへの投資が増加しているためで、ALDはデバイスの効率と耐久性を高める超薄膜コーティングを可能にします。この精密さ主導の技術は、アジア太平洋地域の急速な技術革新をサポートし、材料の使用量を増やすことで環境への影響を低減し、産業競争力を高める。
予測期間中、北米地域が最も高いCAGRを示すと予測されます。大容量バッテリーや高機能マイクロチップは、この開発の恩恵を受ける次世代技術の一例です。さらにALDは、長寿命部品やエネルギー効率の高い製造技術を促進することで、持続可能性を促進します。その結果、この市場はこの地域の環境責任、経済開拓、技術的リーダーシップに良い影響を与えています。
Note: Tables for North America, Europe, APAC, South America, and Middle East & Africa Regions are also represented in the same manner as above.
According to Stratistics MRC, the Global Atomic Layer Deposition Market is accounted for $2.9 billion in 2025 and is expected to reach $7.3 billion by 2032 growing at a CAGR of 14.3% during the forecast period. Atomic Layer Deposition (ALD) is a thin-film deposition technique used to create extremely precise and uniform layers of material at the atomic level. It involves alternating exposures of a substrate to two or more gaseous precursors, which react on the surface in a self-limiting manner, forming one atomic layer at a time. This cycle is repeated to build up the desired film thickness. ALD is valued for its ability to deposit films with exceptional conformality, uniformity, and control over thickness, making it essential for applications in semiconductor manufacturing, nanotechnology, and various coating processes.
According to Cisco, around 500 billion devices will be connected to the Internet by 2030.
Increasing Demand for Miniaturization in Electronics
The increasing demand for miniaturization in electronics significantly boosts the Atomic Layer Deposition (ALD) market. ALD, a critical thin-film deposition technique, enables precise control over atomic-scale thickness, making it ideal for fabricating smaller, more powerful electronic components. As devices like smartphones, wearables, and microchips shrink, the need for advanced materials and coatings rises. ALD's ability to create ultra-thin, uniform layers supports enhanced performance and energy efficiency, driving its adoption across industries and accelerating market growth.
High Cost of Equipment
The high cost of atomic layer deposition (ALD) equipment significantly hinders market growth, especially among small and medium-sized manufacturers. Expensive initial investments and maintenance costs limit adoption in cost-sensitive industries. This financial barrier restricts technological advancements and deters new market entrants. Moreover, the slow return on investment (ROI) reduces the appeal of ALD systems, curbing their widespread implementation despite their precision and performance benefits in semiconductor and nanotechnology applications.
Demand for High-Performance Coatings
The growing demand for high-performance coatings is significantly driving the Atomic Layer Deposition (ALD) market. ALD is increasingly used for depositing thin, high-quality films that meet the stringent requirements of advanced coatings, particularly in industries like aerospace, electronics, and energy. As these coatings are essential for improving durability, corrosion resistance, and thermal stability, the rising need for advanced materials pushes the adoption of ALD technology, fostering innovation and expanding market opportunities for ALD in various sectors.
Slow Deposition Rates
Slow deposition rates in Atomic Layer Deposition (ALD) processes significantly hinder market growth by limiting throughput and increasing production times. This inefficiency makes ALD less suitable for high-volume manufacturing, especially in cost-sensitive industries. As a result, adoption in certain sectors like large-scale semiconductor and display production is restrained. Additionally, prolonged processing leads to higher operational costs, deterring manufacturers from fully integrating ALD into their production workflows.
Covid-19 Impact
The COVID-19 pandemic significantly disrupted the market, causing supply chain interruptions, labor shortages, and project delays due to global lockdowns. These challenges led to decreased production and slowed growth in 2020. However, as industries adapted with remote operations and digital tools, the market began recovering. The pandemic underscored ALD's importance in semiconductor manufacturing, prompting renewed investments and a focus on supply chain resilience, positioning the market for robust post-pandemic growth.
The precursor type segment is expected to be the largest during the forecast period
The precursor type segment is expected to account for the largest market share during the forecast period, as Precursors, such as metal-organic compounds, contribute significantly to ALD's ability to fabricate high-quality coatings with precise control over film thickness and uniformity. The increasing demand for semiconductors, advanced electronics, and energy-efficient devices drives the need for high-performance ALD processes, benefiting from innovations in precursor formulations that enable improved deposition rates, uniformity, and scalability.
The healthcare segment is expected to have the highest CAGR during the forecast period
Over the forecast period, the healthcare segment is predicted to witness the highest growth rate, because ALD is widely used in the development of advanced materials for medical devices, drug delivery systems, and diagnostics. Its precision in thin-film deposition allows for the creation of highly functional materials, improving device efficiency and performance. The increasing demand for miniaturized, more efficient medical devices further drives the adoption of ALD technology, boosting its market growth in the healthcare sector.
During the forecast period, the Asia Pacific region is expected to hold the largest market share due to growing investments in electronics and clean energy infrastructure, ALD enables ultra-thin film coatings that boost device efficiency and durability. This precision-driven technology supports the region's rapid technological innovation, reduces environmental impact by enhancing material usage, and drives industrial competitiveness-making it a crucial pillar in Asia-Pacific's shift toward high-performance, sustainable manufacturing.
Over the forecast period, the North America region is anticipated to exhibit the highest CAGR, because it improves the efficiency and performance of the product. High-capacity batteries and sophisticated microchips are examples of next-generation technologies that benefit from this development. Furthermore, ALD promotes sustainability by facilitating longer-lasting components and energy-efficient manufacturing techniques. Consequently, the market is having a good effect on environmental responsibility, economic development, and technological leadership in the region.
Key players in the market
Some of the key players profiled in the Atomic Layer Deposition Market include ASM International, Tokyo Electron Limited, Applied Materials, Inc., Lam Research Corporation, Beneq Oy, Veeco Instruments Inc., Oxford Instruments plc, Kurt J. Lesker Company, Aixtron SE, SENTECH Instruments GmbH, CVD Equipment Corporation, Arradiance LLC, ALD Nanosolutions, Lotus Applied Technology, Jusung Engineering Co., Ltd., Denton Vacuum LLC, Forge Nano Inc. and Beneq GmbH.
In May 2025, Nanexa AB and Applied Materials, Inc. have mutually agreed to terminate their collaboration, effective immediately. The partnership, initiated in 2020, focused on scaling up Nanexa's PharmaShell(R) drug delivery process using Atomic Layer Deposition (ALD) technology.
In April 2025, Applied Materials has announced a strategic investment in BE Semiconductor Industries N.V. (BESI), acquiring a 9% stake in the Dutch company. This move makes Applied Materials the largest shareholder of BESI, surpassing BlackRock Institutional Trust.