極端紫外線（EUV）リソグラフィの市場規模、シェア、成長および世界産業分析：タイプ別・用途別、地域別洞察と予測（2026年～2034年）

極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の成長要因

世界の極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場は、先進的な半導体ノードへの需要増加と集積回路（IC）設計の複雑化により、着実な成長を遂げております。フォーチュン・ビジネス・インサイト社によれば、2025年の世界のEUVリソグラフィー市場規模は121億6,000万米ドルと評価されております。市場規模は2026年の132億7,000万米ドルから2034年までに250億8,000万米ドルへ成長し、予測期間中のCAGRは8.28％と予測されています。欧州は、強力な半導体研究開発（R&D）エコシステムと主要なEUV技術プロバイダーの存在に支えられ、2025年に世界市場の44.71%を占め、市場をリードしました。

EUVリソグラフィは、半導体ウエハー上に極微細なパターンをエッチングするために極端紫外線（EUV）光を使用し、7ナノメートル以下のチップ製造を可能にします。この技術は、現代のプロセッサにおけるトランジスタ密度、性能、エネルギー効率を向上させることで、ムーアの法則を維持するために不可欠です。

生成AIがEUVリソグラフィ市場に与える影響

生成AIは、パターン最適化、欠陥検出、設計自動化の強化を通じて、EUVリソグラフィプロセスの改善に重要な役割を果たしています。過去の製造サイクルから得られた大規模なデータセットを分析することで、AIモデルは欠陥を低減し、歩留まりを向上させ、生産時の試行錯誤を最小限に抑える最適化されたリソグラフィパターンを生成します。これらの進歩はプロセスの精度とスループットを大幅に向上させ、世界のEUVリソグラフィ市場の成長を支えています。

市場力学

市場促進要因

集積回路の複雑化が進むことが、EUVリソグラフィ導入の主要な促進要因です。半導体メーカーが微細化とトランジスタ高密度化を進める中、従来の光学リソグラフィでは解像度要件を満たすことが困難となっています。EUVリソグラフィは高精度なパターニングを可能とし、先進的なロジックチップやメモリチップに不可欠な技術です。人工知能、5G、データセンター、民生電子機器など、様々な分野における高性能チップへの需要拡大が、市場の成長を継続的に後押ししています。

市場抑制要因

その利点にもかかわらず、EUVリソグラフィシステムのコストの高さは依然として大きな障壁となっています。EUV装置は、光源、マスク、ペリクル、フォトレジストなどの複雑な構成部品のため、従来のリソグラフィ装置よりもかなり高価です。さらに、マスク保護や産業規模での導入に関連する技術的課題が実装コストをさらに押し上げ、中小の半導体メーカーにおける採用を制限しています。

市場の機会

データセンターと先進メモリデバイスの急速な拡大は、大きな成長機会をもたらします。EUVリソグラフィは、現代のコンピューティング、クラウドインフラ、エンタープライズストレージに必要な高密度NANDフラッシュおよびDRAMメモリの製造を支えます。高速かつ省エネルギーなメモリへの需要が高まる中、EUV技術はさらなる普及が見込まれます。

EUVリソグラフィ市場の動向

市場を形作る顕著な動向として、特に5nm以下の先進的な半導体ノードに対する需要の増加が挙げられます。サムスンやTSMCなどの主要半導体企業は、次世代チップ生産を支援するためEUVの生産能力を拡大しています。この微細化と性能向上への注力は、持続的な市場進展を牽引する重要な要素です。

セグメント分析

装置タイプ別

光源セグメントは、10ナノメートル以下のパターニングを可能にする上で重要な役割を担っていることから、2026年には41.26%という最大の市場シェアを占めました。継続的な技術革新、半導体研究開発に対する政府の支援、メーカー間の連携が、このセグメントの成長を支えています。

マスクセグメントは、7ナノメートル以下のチップ製造における精度要求の高まりにより、予測期間中に最も高いCAGRを記録すると見込まれています。

エンドユーザー別

統合デバイスメーカー（IDM）セグメントは市場を独占しており、IDMが電力、性能、面積の制限を克服するためにEUVリソグラフィーをますます採用していることから、2026年には53.92%の市場シェアを獲得すると予測されています。

ファウンダリセグメントは、AI、スマートフォン、自動車、高性能コンピューティングアプリケーションで使用される先進半導体の需要増加に牽引され、12.27%という最高CAGRで成長すると予想されます。

地域別見通し

欧州は半導体製造への強力な投資に支えられ、2025年に54億4,000万米ドル、2026年には60億2,000万米ドルの市場規模で首位を維持すると見込まれます。ドイツは2026年に13億9,000万米ドルに達する見込みであり、フランスは2025年に11億1,000万米ドルの市場規模を有しています。

アジア太平洋地域は2番目に大きな市場であり、2026年には37億3,000万米ドルと推定され、中国、台湾、韓国の主要ファウンダリに牽引され、12.34%という最高のCAGRを示しています。

北米市場は、高度なコンピューティングおよび通信機器への需要に支えられ、2026年には18億9,000万米ドルに達すると予測されています。

中東・アフリカ市場は2026年に9億6,000万米ドルに達すると予測され、GCC市場は2025年に2億9,000万米ドルの規模と評価されています。

目次

第1章 イントロダクション

第2章 エグゼクティブサマリー

第3章 市場力学

• マクロおよびミクロ経済指標
• 促進要因、抑制要因、機会、および動向
• 生成AIの影響

第4章 競合情勢

• 主要企業が採用するビジネス戦略
• 主要企業の統合SWOT分析
• 世界EUVリソグラフィ主要企業（上位3～5社）の市場シェア／ランキング（2025年）

第5章 世界の極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場規模推定・予測：セグメント別（2021-2034年）

• 主な調査結果
• 装置別
  • 光源
  • 光学系
  • マスク
  • その他（ミラー等）
• エンドユーザー別
  • 集積デバイスメーカー
  • ファウンダリ
• 地域別
  • 北米
  • 南米
  • 欧州
  • 中東・アフリカ
  • アジア太平洋

第6章 北米の極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場規模の推定・予測（セグメント別、2021-2034年）

• 国別
  • 米国
  • カナダ
  • メキシコ

第7章 南米の極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場規模の推定・予測（セグメント別、2021-2034年）

• 国別
  • ブラジル
  • アルゼンチン
  • その他南米諸国

第8章 欧州の極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場規模の推定・予測（セグメント別、2021-2034年）

• 国別
  • 英国
  • ドイツ
  • フランス
  • イタリア
  • スペイン
  • ロシア
  • ベネルクス
  • 北欧諸国
  • その他欧州諸国

第9章 中東・アフリカの極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場規模の推定・予測（セグメント別、2021-2034年）

• 国別
  • トルコ
  • イスラエル
  • GCC
  • 北アフリカ
  • 南アフリカ
  • その他中東・アフリカ

第10章 アジア太平洋地域の極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場規模の推定・予測（セグメント別、2021-2034年）

• 国別
  • 中国
  • インド
  • 日本
  • 韓国
  • ASEAN
  • オセアニア
  • その他アジア太平洋地域

第11章 主要10社の企業プロファイル

• ASML
• Samsung Groups Co. Ltd.
• Canon Inc.
• NTT Advanced Technology Corporation
• Nikon Corporation
• KLA Corporation
• ADVANTEST CORPORATION
• Ushio Inc.
• TOPPAN PHOTOMASKS
• SUSS MicroTec SE

第12章 主なポイント