極端紫外線リソグラフィ (EUV) の世界市場の動向分析・競合情勢・予測 (2019年-2031年)：製品・流通チャネル (IDM・ファウンドリ)・地域別

世界の極端紫外線リソグラフィ (EUV) の市場規模は、2024年の113億米ドルから、予測期間中は23.20％のCAGRで推移し、2031年には482億米ドルの規模に成長すると予測されています。

CE製品、自動車、高性能コンピュータなどからの半導体チップの需要の急増が同市場の主な促進要因の一つです。EUVリソグラフィは卓越した拡張性と精度を提供します。EUVリソグラフィのニーズは、半導体業界の急速な技術革新、技術改善、データセンターインフラへの投資増と連動して高まると予想されます。

機会：小型でパワフルなチップへの需要の高まり

半導体製造の進歩に伴い、AI、5G、IoTのような技術をサポートするため、より小さく、より強力で、エネルギー効率の高いチップに対する需要が高まっています。EUVリソグラフィは、より小さなノード (5nmや3nmのプロセッサなど) の高い精度と正確さでの製造を可能にしており、こうした進歩の実現において重要な役割を果たしています。より小さなチップへの需要が高まる中、メーカーや業界各社は、拡大する市場需要に対応するため、生産能力を拡大しています。

光源の部門が市場をリード：

拡大する市場需要に対応するため、TRUMPFなどの大手企業は光源機器の製造に多額の投資を行い、戦略的提携を結んで半導体の研究開発を後押ししています。波長13.5nmのEUV光は、メモリーチップやプロセッサーに使用されるシリコンチップのサイズを数nm縮小するために使用されます。これらの戦略は、予測期間中の市場成長を促進すると予想されています。

アジア太平洋地域が市場を独占：

The Guardianによると、台湾は世界の最先端半導体の90％を製造しています。AppleやNvidiaの主要サプライヤーであるTaiwan Semiconductor Manufacturing Co. LTD. (TSMC) は台湾の半導体産業の最前線にいます。韓国などの他のアジア諸国も、半導体製造業界で大きなシェアを示しています。同地域の企業がEUVリソグラフィなどの高度な製造技術を導入していることから、市場の拡大が見込まれています。

当レポートでは、世界の極端紫外線リソグラフィ (EUV) の市場を調査し、市場概要、市場成長への各種影響因子の分析、技術動向、法規制環境、市場規模の推移・予測、各種区分・地域/主要国別の内訳、競合環境、主要企業のプロファイルなどをまとめています。

目次

第1章 調査の枠組み

第2章 エグゼクティブサマリー

第3章 世界の極端紫外線リソグラフィ (EUV) 市場の洞察

• 産業バリューチェーン分析
• DROC分析
  • 成長促進要因
  • 抑制要因
  • 機会
  • 課題
• 技術の進歩/最近の動向
• 規制の枠組み
• ポーターのファイブフォース分析

第4章 世界の極端紫外線リソグラフィ (EUV) 市場：マーケティング戦略

第5章 世界の極端紫外線リソグラフィ (EUV) 市場：価格分析

第6章 世界の極端紫外線リソグラフィ (EUV) 市場：地域分析

• 地域分析
• 市場の魅力分析

第7章 世界の極端紫外線リソグラフィ (EUV) 市場：概要

• 市場規模・予測
• 市場シェア・予測
  • 製品別
    • 光源
    • オプティクス
    • マスク
    • その他
  • 流通チャネル別
    • IDM
    • ファウンドリ
  • 地域別
    • 北米
    • 欧州
    • アジア太平洋
    • ラテンアメリカ
    • 中東・アフリカ

第8章 北米の極端紫外線リソグラフィ (EUV) 市場

• 市場規模・予測
• 市場シェア・予測
• 米国
• カナダ

第9章 欧州の極端紫外線リソグラフィ (EUV) 市場

• 市場規模・予測
• 市場シェア・予測
• ドイツ
• 英国
• イタリア
• フランス
• スペイン
• ベルギー
• ロシア
• オランダ
• その他

第10章 アジア太平洋の極端紫外線リソグラフィ (EUV) 市場

• 市場規模・予測
• 市場シェア・予測
• 中国
• インド
• 日本
• 韓国
• オーストラリアとニュージーランド
• インドネシア
• マレーシア
• シンガポール
• ベトナム
• その他

第11章 ラテンアメリカの極端紫外線リソグラフィ (EUV) 市場

• 市場規模・予測
• 市場シェア・予測
• ブラジル
• メキシコ
• アルゼンチン
• ペルー
• その他

第12章 中東・アフリカの極端紫外線リソグラフィ (EUV) 市場

• 市場規模・予測
• 市場シェア・予測
• サウジアラビア
• UAE
• カタール
• クウェート
• 南アフリカ
• ナイジェリア
• アルジェリア
• その他

第13章 競合情勢

• 主要企業のリスト・提供製品
• 企業シェア分析
• 競合ベンチマーキング：経営パラメータ別
• 主な戦略的展開 (M&A・提携)

第14章 地政学的緊張の高まりが世界の極端紫外線リソグラフィ (EUV) 市場に与える影響

第15章 企業プロファイル (企業概要・財務マトリックス・競合情勢・主要人材・主な競合相手・連絡先・戦略的展望・SWOT分析)

• ASML Holding NV
• NTT Advanced Technology Corporation
• Canon Inc
• Nikon Corporation
• Intel Corporation
• Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited
• Samsung Electronics Co. Ltd
• Toppan Photomasks Inc
• ZEISS Group
• Ushio, Inc.
• その他の主要企業

第16章 主要な戦略的提言

第17章 調査手法