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市場調査レポート
商品コード
1914635

フォトリソグラフィ装置市場- 世界の産業規模、シェア、動向、機会、および予測：タイプ別、DUVタイプ別、波長別、デバイス波長別、最終用途別、アプリケーション別、地域別および競合状況、2021-2031年

Photolithography Equipment Market - Global Industry Size, Share, Trends, Opportunity, and Forecast, Segmented By Type, By DUV Type (ArFi ), By Wavelength, By Device Wavelength, By End-Use, By Application, By Region & Competition, 2021-2031F

出版日
ページ情報
英文 185 Pages
納期
2～3営業日
カスタマイズ可能
フォトリソグラフィ装置市場- 世界の産業規模、シェア、動向、機会、および予測：タイプ別、DUVタイプ別、波長別、デバイス波長別、最終用途別、アプリケーション別、地域別および競合状況、2021-2031年
出版日: 2026年01月19日
発行: TechSci Research
ページ情報: 英文 185 Pages
納期: 2～3営業日
GIIご利用のメリット

  • 概要

世界のフォトリソグラフィ装置市場は、2025年の149億1,000万米ドルから2031年までに233億1,000万米ドルへ拡大し、CAGR 7.73％を記録すると予測されております。

この装置カテゴリーは、半導体製造工程において、感光性化学フォトレジストで処理された基板上にフォトマスクから幾何学的パターンを転写するために使用される光学システムで構成されております。市場の成長は主に、高性能コンピューティングにおける微細化された集積回路の需要増加と、大量のチップ生産を必要とする自動車用電子機器の大きな需要によって推進されています。SEMIによれば、フォトリソグラフィ分野を含むウエハー製造装置セグメントは、メモリおよびロジックデバイスへの投資を背景に、2024年には1,010億米ドルに達すると予測されていました。

市場概要
予測期間 2027-2031
市場規模：2025年 149億1,000万米ドル
市場規模：2031年 233億1,000万米ドル
CAGR：2026年～2031年 7.73％
最も成長が速いセグメント EUV
最大の市場 北米

こうした前向きな見通しにもかかわらず、先進的な極端紫外線（EUV）システムに必要な膨大な設備投資により、市場は大きな障壁に直面しております。この財務上のハードルは、中小のファウンダリ企業の市場参入を制限し、3nm以下のプロセスノードを追求できるメーカー数を制限する要因となっております。結果として、高い参入コストと、先進ノードにおける歩留まり率を維持するための技術的複雑さが相まって、市場のより広範な拡大を妨げる可能性があります。

市場促進要因

極端紫外線（EUV）および高NAリソグラフィシステムの採用拡大は、先進ノードにおけるロジックチップおよびメモリチップの生産を可能にする主要な成長要因として機能しております。半導体メーカーが人工知能（AI）や高性能コンピューティング（HPC）アプリケーション向けに2nm以下のアーキテクチャを目標とする中、これらの高解像度システムへの依存度は高まり続けております。この技術的転換は、主要装置メーカーによる多額の資本投資によって顕著に示されています。例えばASMLは2024年7月発表の「2024年第2四半期決算報告」において、四半期純受注高が56億ユーロに達し、うち25億ユーロがEUV装置の受注であったと報告しています。この堅調な受注状況は、業界全体の景気循環にもかかわらず、次世代リソグラフィ装置がトランジスタの微細化継続に不可欠な役割を担っていることを裏付けています。

同時に、国内半導体製造の自立化を目指す政府の戦略的インセンティブが、様々な地域におけるフォトリソグラフィ装置の調達を促進しています。各国は、現地サプライチェーンの確保と地政学的リスクの低減を目的に、新規製造施設の建設に対して積極的に補助金を支給しています。2024年4月に米国商務省が発表した「バイデン・ハリス政権、TSMCとの暫定合意を発表」において指摘されている通り、政府はアリゾナ州における3つの新規製造工場を支援するため、最大66億米ドルの直接資金提供を提案しました。こうした大規模な公的投資は、施設拡張に伴う財政的負担を軽減し、直接的に装置受注の増加につながっています。SEMIは2024年、このインフラ需要に対応するため世界の半導体製造能力が6％増加すると予測し、国家主導の製造イニシアチブと装置市場規模の関連性を強調しました。

市場の課題

先進的な極端紫外線（EUV）露光装置に必要な巨額の設備投資は、世界のフォトリソグラフィ装置市場の成長を阻害する重大な財務的障壁となっています。この法外な高コストにより、次世代リソグラフィ技術の採用は豊富な資金力を有する一部の半導体メーカーに限定され、中小ファウンダリが3nm以下のプロセスノードへ移行するのを阻んでいます。結果として、市場は顧客基盤の集中化に苦しみ、競争環境の多様化によって生み出される潜在的な販売数量が制限され、先進製造分野への新規参入が事実上阻まれています。

このような膨大な資金支出の必要性は、業界全体の参加を阻害し市場支配力を集中させる堅固な参入障壁を形成します。この極めて高い資本集約性は、最近の投資データからも明らかです。SEMIによれば、2025年第2四半期の世界半導体製造装置受注額は330億7,000万米ドルに達しました。この膨大な数字は、先進ノードでの操業を維持するために必要な資源の規模の大きさを示しており、最も支配的な業界プレイヤーの投資能力によってのみ拡大が制約される市場構造を強化しています。

市場動向

先進パッケージング技術とヘテロジニアス集積技術の普及は、装置要件を根本的に変革しています。これにより、より大型の基板を処理可能で、チップレット構造における高いオーバーレイ精度を確保できるリソグラフィ装置が求められるようになりました。業界が物理的微細化の限界に近づく中、メーカーは異なるダイ間の精密な相互接続を実現する特殊なバックエンドリソグラフィシステムを必要とする3D積層技術へ軸足を移しています。この変化は、トランジスタ微細化に重点を置く前工程とは異なり、再配線層に必要な広視野能力と解像度を両立させる装置の需要を牽引しています。例えば、インテルは2024年1月の「ニューメキシコ製造拠点開設」プレスリリースにおいて、先進的な半導体パッケージング技術、特に3D積層技術Foverosの量産化を支援するため、35億米ドルを投じて設備を整備したと発表しました。

同時に、リソグラフィプロセス制御への人工知能の統合は、逆リソグラフィ技術やマスク合成に伴う計算複雑性の急激な増加を管理する重要な動向として台頭しています。半導体製造メーカーは、従来は正確なフォトマスクパターン計算に膨大なCPU時間を要していた計算リソグラフィワークロードを劇的に加速させるため、生成AIアルゴリズムを活用しています。この技術統合により、複雑な計算を高速化プラットフォームにオフロードすることで、ウエハースループットが向上し、エネルギー消費が最適化されます。NVIDIAが2024年3月に発表した「NVIDIA、半導体製造向け生成AIの本格導入を発表」によれば、cuLithoプラットフォームによりファウンダリは従来手法比最大40倍の速度でフォトマスクを処理可能となり、先進ノードの開発サイクルを大幅に短縮できます。

よくあるご質問

  • 世界のフォトリソグラフィ装置市場の市場規模はどのように予測されていますか？
  • フォトリソグラフィ装置市場のCAGRはどのように予測されていますか？
  • フォトリソグラフィ装置市場で最も成長が速いセグメントは何ですか？
  • フォトリソグラフィ装置市場で最大の市場はどこですか？
  • フォトリソグラフィ装置市場の成長を促進する要因は何ですか？
  • フォトリソグラフィ装置市場の課題は何ですか？
  • フォトリソグラフィ装置市場の動向は何ですか？
  • フォトリソグラフィ装置市場に参入している主要企業はどこですか？

目次

第1章 概要

第2章 調査手法

第3章 エグゼクティブサマリー

第4章 顧客の声

第5章 世界のフォトリソグラフィ装置市場展望

  • 市場規模・予測
    • 金額別
  • 市場シェア・予測
    • タイプ別（EUV（極端紫外線）、DUV（深紫外線））
    • DUVタイプ別（ArF（アルゴンフッ化物液浸）、KrF（クリプトンフッ化物）、ArF（アルゴンフッ化物）、I線）
    • 波長別（1nm-170nm、170nm-270nm、270nm-370nm）
    • デバイス波長別（水銀ランプ、フッ素ランプ、エキシマレーザー、レーザー生成プラズマ）
    • エンドユーザー別（IDM（集積デバイスメーカー）、ファウンダリ）
    • 用途別（バックエンド、フロントエンド）
    • 地域別
    • 企業別（2025）
  • 市場マップ

第6章 北米のフォトリソグラフィ装置市場展望

  • 市場規模・予測
  • 市場シェア・予測
  • 北米：国別分析
    • 米国
    • カナダ
    • メキシコ

第7章 欧州のフォトリソグラフィ装置市場展望

  • 市場規模・予測
  • 市場シェア・予測
  • 欧州：国別分析
    • ドイツ
    • フランス
    • 英国
    • イタリア
    • スペイン

第8章 アジア太平洋地域のフォトリソグラフィ装置市場展望

  • 市場規模・予測
  • 市場シェア・予測
  • アジア太平洋地域：国別分析
    • 中国
    • インド
    • 日本
    • 韓国
    • オーストラリア

第9章 中東・アフリカのフォトリソグラフィ装置市場展望

  • 市場規模・予測
  • 市場シェア・予測
  • 中東・アフリカ：国別分析
    • サウジアラビア
    • アラブ首長国連邦
    • 南アフリカ

第10章 南米のフォトリソグラフィ装置市場展望

  • 市場規模・予測
  • 市場シェア・予測
  • 南米：国別分析
    • ブラジル
    • コロンビア
    • アルゼンチン

第11章 市場力学

  • 促進要因
  • 課題

第12章 市場動向と発展

  • 合併・買収
  • 製品上市
  • 最近の動向

第13章 世界のフォトリソグラフィ装置市場：SWOT分析

第14章 ポーターのファイブフォース分析

  • 業界内の競合
  • 新規参入の可能性
  • サプライヤーの力
  • 顧客の力
  • 代替品の脅威

第15章 競合情勢

  • ASML Holding N.V.
  • Canon Inc.
  • EV Group
  • GlobalFoundries Inc.
  • Nikon Corporation
  • Veeco Instruments Inc.
  • SUSS MicroTec SE
  • Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited
  • Eulitha AG
  • NuFlare Technology Inc.

第16章 戦略的提言

第17章 調査会社について・免責事項