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市場調査レポート
商品コード
1933702
ウェーハ処理装置の世界市場レポート 2026年Wafer Processing Equipment Global Market Report 2026 |
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カスタマイズ可能
適宜更新あり
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| ウェーハ処理装置の世界市場レポート 2026年 |
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出版日: 2026年01月27日
発行: The Business Research Company
ページ情報: 英文 250 Pages
納期: 2～10営業日
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概要
ウエハー加工装置の市場規模は近年、著しい成長を遂げております。2025年の1,577億5,000万米ドルから、2026年には1,661億3,000万米ドルへと、CAGR5.3％で拡大する見込みです。過去数年間の成長は、半導体製造の拡大、民生用電子機器生産の増加、集積回路への需要、マイクロエレクトロニクスの進歩、ファブ設備投資の増加に起因しています。
今後数年間において、ウエハー加工装置市場規模は堅調な成長が見込まれます。2030年には2,102億4,000万米ドルに達し、CAGRは6.1％となる見通しです。予測期間における成長は、AIおよびHPCチップの拡大、EV向け半導体需要の増加、MEMSアプリケーションの増加、政府主導の半導体施策、先進ノードの採用拡大などが要因となります。予測期間の主な動向としては、先進フォトリソグラフィシステムの採用、高精度ウエハー製造への需要増加、エピタキシャルおよび堆積技術の拡大、歩留まり向上と欠陥低減への注目の高まり、装置の自動化とプロセス制御の進展などが挙げられます。
消費者向け電子機器の需要増加が、ウエハー加工装置市場の成長を支えると予想されます。電子製品の需要が高まるにつれ、消費者は新製品において性能向上や機能改善をますます期待しています。各種消費者向け電子機器やIDソリューション（識別タグ、スマートカード、RFID対応製品など）は、集積回路製造にウエハーを依存しています。これにより、コンパクトな電子機器へのシームレスな統合を可能にする超平滑表面や薄型ウエハーへの需要が高まっています。例えば、2023年5月に日本電子情報技術産業協会（JEITA）が発表したところによりますと、家電製品の生産額は2億467万米ドル（320億9,900万円）に達し、前年比127％の増加を示しました。したがって、家電製品需要の高まりがウエハー加工装置市場を牽引しております。
ウエハー加工装置市場の主要企業は、チップ生産の歩留まり向上と競争力強化に向け、革新的な技術ソリューションを開発しております。これらの進歩には、デジタルサプライチェーンシステム、ベベル堆積技術、計測ソリューション、強化されたデータ管理・分析などが含まれます。例えば、2023年6月には米国半導体企業ラムリサーチ社が、ウエハー加工歩留まり向上を目的とした世界初のベベル堆積ソリューション「Coronus DX」を発表しました。Coronus DXは精密なウエハーエッジ堆積を実現し、先端半導体製造工程で発生する欠陥や損傷を最小限に抑えます。統合計測機能により、最適なウエハーセンタリング、一貫したプロセス制御、優れた再現性を保証します。
よくあるご質問
目次
第1章 エグゼクティブサマリー
第2章 市場の特徴
- 市場定義と範囲
- 市場セグメンテーション
- 主要製品・サービスの概要
- 世界のウェーハ処理装置市場：魅力度スコアと分析
- 成長可能性分析、競合評価、戦略適合性評価、リスクプロファイル評価
第3章 市場サプライチェーン分析
- サプライチェーンとエコシステムの概要
- 一覧：主要原材料・資源・供給業者
- 一覧：主要な流通業者、チャネルパートナー
- 一覧：主要エンドユーザー
第4章 世界の市場動向と戦略
- 主要技術と将来動向
- 人工知能（AI）と自律型AI
- インダストリー4.0とインテリジェント製造
- デジタル化、クラウド、ビッグデータ、サイバーセキュリティ
- IoT、スマートインフラストラクチャ、コネクテッド・エコシステム
- Eモビリティと交通の電動化
- 主要動向
- 先進フォトリソグラフィシステムの導入
- 高精度ウエハー製造への需要増加
- エピタキシャルおよび堆積技術の拡大
- 歩留まり向上と欠陥低減への注目の高まり
- 装置の自動化とプロセス制御の進展
第5章 最終用途産業の市場分析
- 半導体製造工場
- 電子機器製造会社
- 医療機器メーカー
- 太陽電池メーカー
- 産業用マイクロエレクトロニクスメーカー
第6章 市場：金利、インフレ、地政学、貿易戦争と関税の影響、関税戦争と貿易保護主義によるサプライチェーンへの影響、コロナ禍が市場に与える影響を含むマクロ経済シナリオ
第7章 世界の戦略分析フレームワーク、現在の市場規模、市場比較および成長率分析
- 世界のウェーハ処理装置市場：PESTEL分析（政治、社会、技術、環境、法的要因、促進要因と抑制要因）
- 世界のウェーハ処理装置市場規模、比較、成長率分析
- 世界のウェーハ処理装置市場の実績：規模と成長, 2020-2025
- 世界のウェーハ処理装置市場の予測：規模と成長, 2025-2030, 2035F
第8章 市場における世界の総潜在市場規模（TAM）
第9章 市場セグメンテーション
- 機器別
- 酸化システム、拡散システム、エピタキシャル反応炉、フォトリソグラフィ装置、その他の装置タイプ
- 用途別
- MEMS、RFID、CMOSイメージセンサー、その他の用途
- 最終用途別
- 医療、軍事、太陽光、産業、その他の最終用途
- サブセグメンテーション、タイプ別：酸化システム
- 乾式酸化装置、湿式酸化装置
- サブセグメンテーション、タイプ別：拡散システム
- バッチ式拡散装置、シングルウエハー拡散装置
- サブセグメンテーション、タイプ別：エピタキシャルリアクター
- 垂直エピタキシャルリアクター、水平エピタキシャルリアクター
- サブセグメンテーション、タイプ別：フォトリソグラフィ装置
- マスクアライナー、ステップアンドリピートシステム、ステッパーシステム、スキャナー
- サブセグメンテーション、タイプ別：その他の装置タイプ
- 化学気相成長（CVD）装置、物理気相成長（PVD）装置、エッチング装置、イオン注入装置
第10章 地域別・国別分析
- 世界のウェーハ処理装置市場：地域別、実績と予測, 2020-2025, 2025-2030F, 2035F
- 世界のウェーハ処理装置市場：国別、実績と予測, 2020-2025, 2025-2030F, 2035F
第11章 アジア太平洋市場
第12章 中国市場
第13章 インド市場
第14章 日本市場
第15章 オーストラリア市場
第16章 インドネシア市場
第17章 韓国市場
第18章 台湾市場
第19章 東南アジア市場
第20章 西欧市場
第21章 英国市場
第22章 ドイツ市場
第23章 フランス市場
第24章 イタリア市場
第25章 スペイン市場
第26章 東欧市場
第27章 ロシア市場
第28章 北米市場
第29章 米国市場
第30章 カナダ市場
第31章 南米市場
第32章 ブラジル市場
第33章 中東市場
第34章 アフリカ市場
第35章 市場規制状況と投資環境
第36章 競合情勢と企業プロファイル
- ウェーハ処理装置市場：競合情勢と市場シェア、2024年
- ウェーハ処理装置市場：企業評価マトリクス
- ウェーハ処理装置市場：企業プロファイル
- Lam Research Corporation
- Tokyo Electron Limited
- Applied Materials Inc.
- SPTS Technologies Limited
- Plasma-Therm LLC
第37章 その他の大手企業と革新的企業
- Disco Corporation, Tokyo Seimitsu Co. Ltd., KLA Corporation, Hitachi Kokusai Electronic Inc., Kokusai Electric Corp., Nikon Corporation, SCREEN Semiconductor Solutions Co. Ltd., Screen Holdings Co. Ltd., EV Group, ASML Holding NV, Canon Inc., Axcelis Technologies Inc., ASM International NV, Onto Innovation Inc., Veeco Instruments Inc.
第38章 世界の市場競合ベンチマーキングとダッシュボード
第39章 主要な合併と買収
第40章 市場の潜在力が高い国、セグメント、戦略
- ウェーハ処理装置市場2030：新たな機会を提供する国
- ウェーハ処理装置市場2030：新たな機会を提供するセグメント
- ウェーハ処理装置市場2030：成長戦略
- 市場動向に基づく戦略
- 競合の戦略
