|
市場調査レポート
商品コード
1933464
フォトリソグラフィ装置の世界市場レポート 2026年Photolithography Equipment Global Market Report 2026 |
||||||
カスタマイズ可能
適宜更新あり
|
|||||||
| フォトリソグラフィ装置の世界市場レポート 2026年 |
|
出版日: 2026年01月27日
発行: The Business Research Company
ページ情報: 英文 250 Pages
納期: 2～10営業日
|
概要
フォトリソグラフィ装置市場規模は近年、著しい成長を遂げております。2025年の135億7,000万米ドルから2026年には147億8,000万米ドルへと、CAGR9.0％で拡大する見込みです。過去数年間の成長は、半導体デバイスの微細化進展、民生用電子機器製造の拡大、高性能チップ需要の増加、ウエハー製造工場への投資拡大、フォトマスク技術の進歩などが要因とされています。
フォトリソグラフィ装置市場規模は今後数年間で力強い成長が見込まれます。2030年には212億8,000万米ドルに達し、CAGRは9.5％となる見込みです。予測期間における成長は、AIおよび高性能コンピューティングチップの需要拡大、電気自動車向け半導体需要の拡大、先進ファブへの投資増加、EUVプロセスの採用拡大、次世代ロジックおよびメモリデバイスへの需要に起因すると考えられます。予測期間における主な動向としては、極端紫外線（EUV）露光システムの採用拡大、先進ノード半導体製造の需要増加、精度とオーバーレイ精度の重視、フロントエンドのウエハー製造能力の拡大、高スループット露光装置への投資増加などが挙げられます。
成長を続ける半導体産業は、今後フォトリソグラフィ装置市場の成長を牽引すると予想されます。半導体産業は、トランジスタや集積回路などの半導体および半導体デバイスの設計・製造を包含する重要な分野です。フォトリソグラフィ装置は、半導体ウエハー上に複雑な回路パターンを形成するために使用され、これらは集積回路の製造に用いられます。また、高精度なパターンの形成を可能にし、半導体デバイスが正確な寸法と性能特性で製造されることを保証します。例えば、米国半導体産業協会（SIA）の発表によれば、2023年9月の世界半導体売上高は、2023年8月と比較して1.9％増加しました。さらに、2023年第3四半期の世界半導体売上高は1,347億米ドルに達し、第2四半期比で6.3％の増加となりました。したがって、成長を続ける半導体産業がフォトリソグラフィ装置市場の成長を牽引しています。
フォトリソグラフィ装置市場の主要企業は、3D半導体製造における課題解決と市場での競争優位性獲得に向け、液浸リソグラフィ装置などの先端システム開発に注力しております。液浸リソグラフィ装置とは、露光時に投影レンズとウエハーの間に液体（通常は水）を光学媒体として用いる半導体製造装置です。例えば、2023年12月には、光学機器の製造・販売を手掛ける日本のメーカーであるニコン株式会社が、半導体製造における重要層向けに設計された最先端の液浸露光システム「NSR-S636E ArF液浸スキャナー」を発表しました。このスキャナーは優れたオーバーレイ精度と超高スループットを提供し、3D半導体デバイスを含む多様な構造に最適です。高度なウエハー測定・補正機能を備えた強化型インラインアライメントステーション（iAS）を搭載し、3D半導体製造における課題を解決。生産性を損なうことなく、高精度かつ改善されたオーバーレイ性能を保証します。
よくあるご質問
目次
第1章 エグゼクティブサマリー
第2章 市場の特徴
- 市場定義と範囲
- 市場セグメンテーション
- 主要製品・サービスの概要
- 世界のフォトリソグラフィ装置市場：魅力度スコアと分析
- 成長可能性分析、競合評価、戦略適合性評価、リスクプロファイル評価
第3章 市場サプライチェーン分析
- サプライチェーンとエコシステムの概要
- 一覧：主要原材料・資源・供給業者
- 一覧：主要な流通業者、チャネルパートナー
- 一覧：主要エンドユーザー
第4章 世界の市場動向と戦略
- 主要技術と将来動向
- 人工知能（AI）と自律型AI
- インダストリー4.0とインテリジェント製造
- デジタル化、クラウド、ビッグデータ、サイバーセキュリティ
- Eモビリティと交通の電動化
- IoT、スマートインフラストラクチャ、コネクテッド・エコシステム
- 主要動向
- 極端紫外線リソグラフィシステムの採用拡大
- 先進ノード半導体製造への需要増加
- 精度とオーバーレイ精度の重要性への注目の高まり
- フロントエンド・ウエハー製造能力の拡大
- 高スループット露光装置への投資増加
第5章 最終用途産業の市場分析
- 集積回路メーカー
- 半導体ファウンダリ
- メモリチップメーカー
- ロジックチップメーカー
- 半導体組立・試験会社
第6章 市場：金利、インフレ、地政学、貿易戦争と関税の影響、関税戦争と貿易保護主義によるサプライチェーンへの影響、コロナ禍が市場に与える影響を含むマクロ経済シナリオ
第7章 世界の戦略分析フレームワーク、現在の市場規模、市場比較および成長率分析
- 世界のフォトリソグラフィ装置市場：PESTEL分析（政治、社会、技術、環境、法的要因、促進要因と抑制要因）
- 世界のフォトリソグラフィ装置市場規模、比較、成長率分析
- 世界のフォトリソグラフィ装置市場の実績：規模と成長, 2020-2025
- 世界のフォトリソグラフィ装置市場の予測：規模と成長, 2025-2030, 2035F
第8章 市場における世界の総潜在市場規模（TAM）
第9章 市場セグメンテーション
- プロセス別
- 深紫外線（DUV）、極端紫外線（EUV）、I線
- 波長別
- 370 nm-270 nm、270 nm-170 nm、70 nm-1 nm
- 光源別
- 水銀ランプ、エキシマレーザー、レーザー生成プラズマ
- 用途別
- フロントエンド、バックエンド
- エンドユーザー別
- 集積デバイスメーカー（IDM）、ファウンダリ
第10章 地域別・国別分析
- 世界のフォトリソグラフィ装置市場：地域別、実績と予測, 2020-2025, 2025-2030F, 2035F
- 世界のフォトリソグラフィ装置市場：国別、実績と予測, 2020-2025, 2025-2030F, 2035F
第11章 アジア太平洋市場
第12章 中国市場
第13章 インド市場
第14章 日本市場
第15章 オーストラリア市場
第16章 インドネシア市場
第17章 韓国市場
第18章 台湾市場
第19章 東南アジア市場
第20章 西欧市場
第21章 英国市場
第22章 ドイツ市場
第23章 フランス市場
第24章 イタリア市場
第25章 スペイン市場
第26章 東欧市場
第27章 ロシア市場
第28章 北米市場
第29章 米国市場
第30章 カナダ市場
第31章 南米市場
第32章 ブラジル市場
第33章 中東市場
第34章 アフリカ市場
第35章 市場規制状況と投資環境
第36章 競合情勢と企業プロファイル
- フォトリソグラフィ装置市場：競合情勢と市場シェア、2024年
- フォトリソグラフィ装置市場：企業評価マトリクス
- フォトリソグラフィ装置市場：企業プロファイル
- Canon Inc.
- Applied Materials Inc.
- ASML Holding NV
- ZEISS Group
- KLA Corporation
第37章 その他の大手企業と革新的企業
- Nikon Corporation, JEOL Ltd., Onto Innovation Inc., Vecco Instruments Inc., NuFlare Technology Inc., EV Group, NIL Technology ApS, Holmarc Opto-Mechatronics Pvt Ltd., Orthogonal Inc., Microfab Service GmbH, microfab Service GmbH, S-Cubed Inc., Eulitha AG, Osiris International GmbH
第38章 世界の市場競合ベンチマーキングとダッシュボード
第39章 主要な合併と買収
第40章 市場の潜在力が高い国、セグメント、戦略
- フォトリソグラフィ装置市場2030：新たな機会を提供する国
- フォトリソグラフィ装置市場2030：新たな機会を提供するセグメント
- フォトリソグラフィ装置市場2030：成長戦略
- 市場動向に基づく戦略
- 競合の戦略
