エピタキシー堆積市場：予測（2025年～2030年）

世界のエピタキシー堆積の市場規模は、2025年の14億1,800万米ドルから、CAGR5.72％で、2030年までに18億7,300万米ドルへと拡大する見込みです。

半導体需要の急増と自動車・エレクトロニクス分野の進歩により、世界のエピタキシー堆積市場は着実な成長が見込まれます。高純度結晶層を成長させるプロセスであるエピタキシー堆積は、半導体およびナノテクノロジー製造において極めて重要であり、先進的な電子部品の精密な製造を可能にします。この市場は、電子機器、電気自動車（EV）、再生可能エネルギーシステムの普及に後押しされた半導体エピタキシャルウエハーニーズの需要増加によって推進されています。アジア太平洋、特に日本は、堅調な電子産業とパワーエレクトロニクス分野における戦略的なイノベーションにより、成長を主導すると予想されます。

市場促進要因

半導体需要の増加

世界的な半導体需要の急増が主要な市場促進要因であり、エピタキシー堆積技術は半導体製造向け高品質結晶層の形成において極めて重要な役割を担っています。半導体産業協会（SIA）の報告によれば、2024年7月の世界半導体売上高は513億米ドルに達し、前年同月の432億米ドルから18.7％増加しました。地域別では、南北アメリカが前年比40.1％増でトップとなり、中国（19.5％増）、アジア太平洋・その他地域（16.7％増）が続きました。この成長は、民生用電子機器、IoTデバイス、高度なコンピューティングシステムへの需要に牽引されており、高性能半導体部品の製造におけるエピタキシー堆積の必要性を浮き彫りにしています。これにより、2030年まで市場拡大が促進される見込みです。

半導体エピタキシャルウエハーの需要

高度化・高速化・低コスト化が進む電子システムへの需要増大に伴い、微細化における精度確保のためにエピタキシー堆積技術に依存する半導体エピタキシャルウエハーの需要が高まっています。シリコンの供給量増加と製造技術の向上により、マイクロエレクトロニクスや集積回路へのエピタキシャルウエハーの統合が可能となりました。2023年5月にNavitas Semiconductorが実施した、AIXTRON G10-SiCリアクター（6インチおよび8インチウエハー対応）を用いた炭化ケイ素（SiC）エピタキシー成長プラントの設立に向けた2,000万米ドル規模の投資など、大規模な投資は、コスト効率に優れた高性能ソリューションへの取り組みを浮き彫りにしています。これらの進展は、パワーエレクトロニクスや産業用途における需要の高まりに対応し、市場のさらなる成長を促進することが期待されています。

地域別見通し

アジア太平洋は、活況を呈するエレクトロニクス産業と電気自動車導入に対する政府支援を背景に、大幅な成長が見込まれています。 電子機器の世界的リーダーである日本では、電子情報技術産業協会（JEITA）の発表によると、2024年5月の電子機器生産額は前年同月比111.8％増の8,626億5,100万円に達しました。このうち電子部品・デバイスは5,944億400万円、ディスクリート半導体は793億7,300万円を占めています。パワーエレクトロニクス、高周波デバイス、産業用途向けの化合物半導体への注力に加え、インバーターやモーターコントローラーといったEV関連技術革新が、同地域を市場リーダーとしての地位に押し上げています。太陽光や風力などの再生可能エネルギー源への移行は、効率的な電力変換システムにおけるエピタキシー堆積材料の需要をさらに拡大させています。

競合情勢

ノベルクリスタルテクノロジー株式会社、太陽日本三社株式会社などの主要企業は、戦略的提携を通じて技術革新を推進しています。これらの取り組みは、ハロゲン化物気相エピタキシー（HVPE）などのエピタキシー堆積技術の高度化に焦点を当て、EVなどの次世代用途におけるコスト削減とエネルギー効率の向上を目指しています。

市場見通し

エピタキシー堆積市場は、半導体需要とアジア太平洋の産業発展を原動力として、2030年まで持続的な成長が見込まれます。利害関係者は、研究開発と協業によるイノベーションを活用し、コスト課題に対処するとともに、EV、再生可能エネルギー、マイクロエレクトロニクス分野の機会を捉え、競争が激しく技術主導型の環境下で拡張性を確保する必要があります。

本レポートの主な利点：

• 洞察に富む分析：主要地域および新興地域を網羅した詳細な市場洞察を得られます。顧客セグメント、政府政策・社会経済的要因、消費者嗜好、産業分野、その他のサブセグメントに焦点を当てています。
• 競合情勢：主要企業が世界的に展開する戦略的動きを理解し、適切な戦略による市場参入の可能性を把握できます。
• 市場の促進要因と将来動向：市場を形作る動的要因と重要な動向、およびそれらが将来の市場開拓に与える影響を探ります。
• 実践的な提言：これらの洞察を活用し、戦略的な意思決定を行い、変化の激しい環境において新たなビジネス機会と収益源を開拓します。
• 幅広い読者層に対応：スタートアップ、研究機関、コンサルタント、中小企業、大企業にとって有益かつ費用対効果の高い内容です。

レポートの主な活用方法

業界・市場分析、機会評価、製品需要予測、市場参入戦略、地域拡大、資本投資判断、規制枠組みと影響、新製品開発、競合情報

レポートのカバー範囲：

• 2022年～2024年の実績データと2025年～2030年の予測データ
• 成長機会、課題、サプライチェーンの展望、規制枠組み、動向分析
• 競合のポジショニング、戦略、市場シェア分析
• セグメントと各国を含む地域の収益成長と予測評価
• 企業プロファイル（主に戦略、製品、財務情報、主な発展など）

目次

第1章 エグゼクティブサマリー

第2章 市場の概要

• 市場概要
• 市場の定義
• 調査範囲
• 市場セグメンテーション

第3章 ビジネス情勢

• 市場促進要因
• 市場抑制要因
• 市場機会
• ポーターのファイブフォース分析
• 業界バリューチェーン分析
• 政策と規制
• 戦略的提言

第4章 技術展望

第5章 世界のエピタキシー堆積市場：タイプ別

• イントロダクション
• ホモエピタキシー
• ヘテロエピタキシー

第6章 世界のエピタキシー堆積市場：方法別

• イントロダクション
• 固相エピタキシー
• 液体ベースエピタキシー
• 分子線エピタキシー
• その他

第7章 世界のエピタキシー堆積市場：材料別

• イントロダクション
• シリコン
• ゲルマニウム
• ガリウムヒ素

第8章 世界のエピタキシー堆積市場：地域別

• イントロダクション
• 南北アメリカ
  • 米国
• 欧州・中東・アフリカ
  • ドイツ
  • フランス
  • オランダ
  • その他
• アジア太平洋
  • 中国
  • インド
  • 日本
  • 韓国
  • 台湾
  • その他

第9章 競合環境と分析

• 主要企業と戦略分析
• 市場シェア分析
• 合併・買収・協定・協業
• 競合ダッシュボード

第10章 企業プロファイル

• Riber S.A
• Episil-Precision Inc.
• Alfa Chemistry
• ASM International N.V.
• Infenion Technologies
• SVT Associates Inc.
• Applied Materials Inc.
• Thermco Systems Limited
• MKS Instruments
• Tokyo Electron Ltd.
• k-Space. Incorporated
• Veeco Instruments Inc
• CVD Equipment Corporation

第11章 付録

• 通貨
• 前提条件
• 基準年および予測年のタイムライン
• 利害関係者にとっての主なメリット
• 調査手法
• 略語