リソグラフィ計測機器市場：機器タイプ別、技術別、用途別、波長別－2025-2032年世界予測

リソグラフィ計測機器市場は、2032年までにCAGR7.69％で77億5,000万米ドル規模に成長すると予測されております。

主な市場の統計
基準年2024	42億8,000万米ドル
推定年2025	46億1,000万米ドル
予測年2032	77億5,000万米ドル
CAGR（%）	7.69%

リソグラフィ計測装置が、先進的な半導体ファブにおける歩留まり性能、プロセス制御、戦略的な資本投資判断において中心的な役割を果たす理由を説明する文脈的概要

半導体エコシステムは、ますます高度化するノードにおけるパターニングの検証に精密計測技術に依存しており、リソグラフィ計測装置はイノベーション、スループット、プロセス制御の要に位置しています。本導入部では、ウエハー製造および先進パッケージング全体で使用される計測ツールの調達および研究開発の優先順位を総合的に形作る、技術的促進要因、サプライチェーンの動向、規制の影響、およびアプリケーション固有の要求事項を体系的に評価するための基盤を築きます。

新たなプロセスウィンドウの出現と微細化が進むクリティカルディメンションにより、検査・測定ソリューションの重要性は高まっています。高感度化、高速データ処理、シームレスなソフトウェア統合が、計測ソリューションの大規模導入可否を決定づける要素となりました。同時に、モデルベース解析や機械学習といった計算手法の統合が進み、計測機器のアーキテクチャや、OEMメーカーとファブが合意するサービスモデルの在り方が再構築されています。

本節では、変革的なシフト、関税の影響、セグメンテーションの洞察、地域別動向、ベンダー戦略、推奨される行動に関する後続の詳細分析に向けた基礎的な文脈を確立します。経営幹部が計測技術を周辺的なコストセンターではなく、歩留まり、歩留まり達成までの時間、ノード移行リスクに影響を与える戦略的手段として扱うべき理由を明確にします。課題と機会を事前に整理することで、意思決定者は急速に進化する装置情勢において、資本配分とパートナーシップ選択の優先順位付けをより適切に行うことが可能となります。

リソグラフィ測定システムにおける検査、スループット、協業の優先順位を再定義する、技術・ソフトウェア・運用面での収束的変化の分析

リソグラフィ計測装置の情勢は、漸進的ではなく変革的な複数の同時変化を経験しており、ファブとサプライヤーが投資を優先する方法を根本的に変えています。第一に、高解像度パターニングと多パラメータプロセスウィンドウの融合により、物理プローブ測定と光学・X線技術を組み合わせたハイブリッド計測手法への需要が高まっています。この移行に伴い、OEMメーカーは複数の測定モードをより緊密なワークフローに統合し、検査と是正措置間の引き継ぎや遅延を削減しています。

第二に、計算計測技術は実験的な追加機能から、計測装置の設計原理を規定する基盤へと進化しました。モデルベース散乱測定法、逆問題ソルバー、機械学習強化データパイプラインにより、光学システムの高精度化が実現されると同時に、高価な破壊測定の必要性が低減されています。その結果、ソフトウェア定義機能とサブスクリプション型解析サービスがベンダーの核心的な差別化要素となりつつあります。

第三に、精度要求と並行してスループットへの期待が高まっています。特にウエハーあたりの測定予算が制約される大量生産ファブでは、サイクルタイムと感度を両立させるツールが優先されています。こうした需要に応えるため、ベンダー各社は自動化、インライン統合、予知保全を優先し、競合の舞台を純粋な計測能力からシステムレベルの調整と稼働時間保証へと移行させています。

最後に、エコシステム連携が深化しています。ファウンダリ、IDM、装置サプライヤーは、測定レシピ、データスキーマ、プロセス制御ループを整合させる計測戦略を共同開発する傾向が強まっています。この協業モデルは統合摩擦を低減し検証期間を短縮しますが、同時にクロスサプライヤー間の相互運用性と標準準拠のハードルも高めています。これらの変革的変化を総合すると、経営陣は競争力を維持するため、調達基準、サプライヤーパートナーシップ、社内能力の再評価が求められます。

2025年に施行された関税措置が、測定装置の調達戦略、サプライヤーの多様化、および国境を越えたサプライチェーンの経済性にどのような影響を与えたかの評価

2025年に米国で実施された関税措置の累積的影響は、リソグラフィ計測機器の調達およびサプライチェーン計画にさらなる複雑性を加えました。関税義務は、部品調達戦略、資本設備のコスト構造、サービスおよびスペアパーツ在庫の立地判断に影響を及ぼしました。関税により完成品の輸入と現地でのサブコンポーネント調達との相対的な経済性が変化したため、調達チームはサプライヤー選定基準を拡大し、総着陸コストの検討を再評価する必要がありました。

運用面では、関税により供給基盤における地理的多様化の重要性が増しました。バイヤーは、複数地域に製造拠点を有するサプライヤー、あるいは強靭な物流体制と現地付加価値組立能力を実証できるサプライヤーを優先し始めました。この転換は、代替供給源が限られ認定サイクルが長期化する高付加価値部品（精密光学系、特殊検出器、真空サブシステムなど）を供給するベンダーにおいて特に顕著でした。

さらに、関税はデュアルソーシング、戦略的在庫バッファリング、長期サービス契約に関する議論を加速させました。調達組織は、リードタイムの長期化に対応し、国境を越えた保証・校正サポートを確保するため、契約の柔軟性を積極的に高めました。同時に、メーカーは代替供給拠点での製造可能性を考慮した部品設計の再構築を強化し、測定性能を維持しつつ関税リスクを低減しました。

要するに、2025年の関税環境は単なる追加コストをもたらしただけでなく、サプライヤーのレジリエンス、調達のアジリティ、国境を越えたアフターセールスサポートといった戦略的課題の再構築を促しました。意思決定者はこれに対し、サプライヤーリスク評価の強化、資本調達方針の更新、上流部品の調達経路や製造拠点に関する透明性の深化を追求することで対応しました。

機器タイプ、測定技術、応用分野、波長戦略を実運用・調達上の影響と結びつける包括的なセグメンテーションフレームワーク

セグメンテーションを明確に理解することは、製品ロードマップや調達戦略を測定タスクの具体的なニーズに整合させる上で不可欠です。装置タイプに基づく分類では、AFM（原子間力顕微鏡）、CD-SEM（走査型走査電子顕微鏡）、散乱計、X線計測装置が主要なツール群となります。AFMはさらに接触式AFM、非接触式AFM、タッピングモードAFMに、散乱計は角度分解散乱計と分光散乱計に、X線計測装置はX線回折とX線反射率測定に細分化されます。各装置ファミリーは、横方向分解能、深さ感度、スループット、試料への影響においてそれぞれ異なるバランスを持ち、これがプロセスフロー内での最適な導入シナリオと統合ポイントを決定します。

よくあるご質問

• リソグラフィ計測機器市場の市場規模はどのように予測されていますか？
  • 2024年に42億8,000万米ドル、2025年には46億1,000万米ドル、2032年までには77億5,000万米ドルに達すると予測されています。CAGRは7.69%です。
• リソグラフィ計測装置が半導体ファブにおいて中心的な役割を果たす理由は何ですか？
  • 半導体エコシステムは、パターニングの検証に精密計測技術に依存しており、リソグラフィ計測装置はイノベーション、スループット、プロセス制御の要に位置しています。
• リソグラフィ計測装置の情勢における変革的な変化は何ですか？
  • 高解像度パターニングと多パラメータプロセスウィンドウの融合により、ハイブリッド計測手法への需要が高まっています。
• 2025年に施行された関税措置は測定装置の調達戦略にどのような影響を与えましたか？
  • 関税義務は部品調達戦略、資本設備のコスト構造、サービスおよびスペアパーツ在庫の立地判断に影響を及ぼしました。
• 関税がサプライヤーの多様化に与えた影響は何ですか？
  • 関税により供給基盤における地理的多様化の重要性が増し、バイヤーは複数地域に製造拠点を有するサプライヤーを優先し始めました。
• リソグラフィ計測機器市場の機器タイプにはどのようなものがありますか？
  • AFM（原子間力顕微鏡）、CD-SEM（走査型走査電子顕微鏡）、散乱計、X線計測装置が主要なツール群です。
• リソグラフィ計測機器市場の用途にはどのようなものがありますか？
  • データストレージ、フラットパネルディスプレイ、MEMS、半導体があります。
• リソグラフィ計測機器市場の技術にはどのようなものがありますか？
  • 原子間力顕微鏡法、電子ビーム計測、光学計測、X線計測があります。
• リソグラフィ計測機器市場に参入している主要企業はどこですか？
  • KLA Corporation、Applied Materials, Inc.、Onto Innovation Inc.、Nanometrics Incorporated、Carl Zeiss AG、Nikon Corporation、Canon Inc.、Hitachi High-Technologies Corporation、Bruker Corporation、Veeco Instruments Inc.です。

目次

第1章 序文

第2章 調査手法

第3章 エグゼクティブサマリー

第4章 市場の概要

第5章 市場洞察

• 高スループットEUV計測のためのAI駆動型欠陥検出およびパターン認識の採用
• リアルタイムハイパースペクトルイメージングと散乱測定技術の統合によるナノスケール重要寸法管理
• 高NA EUVオーバーレイ計測装置の導入によるサブ3nm技術ノードの歩留まり向上支援
• 集中型リソグラフィ測定知見のためのクラウドネイティブデータ分析プラットフォームの導入
• ナノスケールオーバーレイ精度向上のためのインラインプラズモニック散乱測定技術の開発
• マルチパターニング露光プロセス計測における機械学習ベースのプロセス制御フィードバックループの拡大
• 欠陥分類のための深層ニューラルネットワークを活用した自動化されたウェーハレベルフォトマスク検査ソリューションの拡充

第6章 米国の関税の累積的な影響, 2025

第7章 AIの累積的影響, 2025

第8章 リソグラフィ計測機器市場：機器別

• AFM
  • 接触型AFM
  • 非接触AFM
  • タッピングモードAFM
• CD-SEM
• 散乱測定法
  • 角度分解散乱測定法
  • 分光散乱測定
• X線計測
  • X線回折
  • X線反射測定

第9章 リソグラフィ計測機器市場：技術別

• 原子間力顕微鏡法
• 電子ビーム計測
• 光学計測
• X線計測

第10章 リソグラフィ計測機器市場：用途別

• データストレージ
• フラットパネルディスプレイ
• MEMS
• 半導体

第11章 リソグラフィ計測機器市場：波長別

• 深紫外線
  • 157 nm
  • 193 nm
  • 248 nm
• 極端紫外線
• 赤外線
  • 遠赤外線
  • 中赤外線
  • 近赤外線
• 可視光

第12章 リソグラフィ計測機器市場：地域別

• 南北アメリカ
  • 北米
  • ラテンアメリカ
• 欧州・中東・アフリカ
  • 欧州
  • 中東
  • アフリカ
• アジア太平洋地域

第13章 リソグラフィ計測機器市場：グループ別

• ASEAN
• GCC
• EU
• BRICS
• G7
• NATO

第14章 リソグラフィ計測機器市場：国別

• 米国
• カナダ
• メキシコ
• ブラジル
• 英国
• ドイツ
• フランス
• ロシア
• イタリア
• スペイン
• 中国
• インド
• 日本
• オーストラリア
• 韓国

第15章 競合情勢

• 市場シェア分析, 2024
• FPNVポジショニングマトリックス, 2024
• 競合分析
  • KLA Corporation
  • Applied Materials, Inc.
  • Onto Innovation Inc.
  • Nanometrics Incorporated
  • Carl Zeiss AG
  • Nikon Corporation
  • Canon Inc.
  • Hitachi High-Technologies Corporation
  • Bruker Corporation
  • Veeco Instruments Inc.