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市場調査レポート
商品コード
1871100
先進リソグラフィー向けフォトレジスト化学品市場：機会、成長要因、業界動向分析、2025年～2034年予測Photoresist Chemicals for Advanced Lithography Market Opportunity, Growth Drivers, Industry Trend Analysis, and Forecast 2025 - 2034 |
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カスタマイズ可能
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| 先進リソグラフィー向けフォトレジスト化学品市場：機会、成長要因、業界動向分析、2025年～2034年予測 |
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出版日: 2025年10月24日
発行: Global Market Insights Inc.
ページ情報: 英文 192 Pages
納期: 2～3営業日
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概要
先進リソグラフィー向けグローバルフォトレジスト化学品市場は、2024年に55億米ドルと評価され、2034年までにCAGR11％で成長し、156億米ドルに達すると予測されています。
本市場の成長は、アジア太平洋における投資の増加、高NA EUVシステムの商用化、3Dパッケージング技術の進歩によって推進されています。7nm未満および5nm未満のプロセスノードの採用、EUVリソグラフィの普及拡大、ならびにAI、5G、自動車用途における高性能チップの需要増加が、この変革を牽引しております。13.5nm波長の極端紫外線（EUV）リソグラフィ技術により、5nmの線幅パターニングが可能となり、化学増幅型レジスト（CAR）および金属酸化物系EUVフォトレジストの需要が大幅に増加しています。高NA EUVへの進化、DUVとEUVを組み合わせたハイブリッド露光技術、指向性自己組織化（DSA）技術の発展は、レジストの化学組成を再構築しています。JSR、TOK、Dongjin Semichem、富士フイルムなどの業界リーダー企業は、2nmおよび1.4nmノード対応に向けた製品ロードマップを整備しており、従来のKrF/i.線レジストからEUV中心のプラットフォームへの明確な移行を示しています。
| 市場範囲 | |
|---|---|
| 開始年 | 2024年 |
| 予測年度 | 2025年～2034年 |
| 開始時価値 | 55億米ドル |
| 予測金額 | 156億米ドル |
| CAGR | 11％ |
ポジ型フォトレジスト分野は、2024年に34億米ドルの市場規模を記録し、2034年までに95億米ドルに達すると予測されており、CAGRは10.7％で成長が見込まれます。このセグメントでは化学増感型レジストが主流であり、10nm以下の微細構造に対して高い感度を提供し、精密なプロセス制御を可能にしております。この分野におけるイノベーションは、エッチング耐性の向上、モジュール型フォトレジストの開発、EUVリソグラフィにおける二次電子ぼけの低減に焦点を当てており、いずれも微細化における歩留まり最大化に不可欠な要素です。
半導体デバイス製造分野は、先進的なロジック、メモリ、アナログ、AI向けチップに用いられる高純度・高性能フォトレジストの需要により、2024年には69.5%のシェアを占めました。マルチパターニングの複雑化と高NA EUVの採用が進む中、5nm、3nm、そして間もなく2nmプロセスで製造されるCPU、GPU、SoCなどのロジックデバイスが、フォトレジスト材料の最大の消費分野となっています。
米国の先進リソグラフィー向けフォトレジスト化学品市場は、2024年に8億1,740万米ドルの規模となり、2034年までにCAGR10.8％で成長し、23億米ドルに達すると予測されています。北米の成長は、国内半導体生産を促進する立法を含む半導体振興政策によって牽引されています。主要メーカーによる新規製造施設の設立に伴い、これらの政策は現地調達されたフォトレジストおよび先進リソグラフィ材料の需要を促進しています。
先進リソグラフィー向けフォトレジスト化学品市場の主要企業には、メルクKGaA、ブリュワー・サイエンス社、ダウ社、富士フイルムホールディングス株式会社、インプリア株式会社、東進化学株式会社、エターナルマテリアルズ株式会社、信越化学工業株式会社、JSR株式会社、ケイヤクアドバンストマテリアルズ、東京応化工業株式会社、マイクロレジストテクノロジー社、住友化学株式会社、江蘇ナタ光電子材料有限公司、およびイリジスティブル・マテリアルズ株式会社などが挙げられます。主要企業は、高NA EUVおよび5nm以下のプロセスノードに適した次世代レジスト化学品を開発するため、研究開発に多額の投資を行っています。半導体メーカーとの戦略的提携は、製品革新を商業リソグラフィーの要件に適合させるのに役立ちます。企業は、地域需要の高まりに対応するため、アジア太平洋および北米における生産能力を拡大しています。一部の企業は、ハイブリッド露光ソリューションや指向性自己組織化技術に注力し、製品の適用範囲拡大を図っております。
よくあるご質問
目次
第1章 調査手法と範囲
第2章 エグゼクティブサマリー
第3章 業界考察
- エコシステム分析
- サプライヤーの情勢
- 利益率
- 各段階における付加価値
- バリューチェーンに影響を与える要因
- ディスラプション
- 業界への影響要因
- 促進要因
- 業界の潜在的リスク＆課題
- 市場機会
- 成長可能性分析
- 規制情勢
- 北米
- 欧州
- アジア太平洋
- ラテンアメリカ
- 中東・アフリカ
- ポーター分析
- PESTEL分析
- 価格動向
- 地域別
- タイプ別
- 将来の市場動向
- 技術とイノベーションの情勢
- 現在の技術動向
- 新興技術
- 特許情勢
- 貿易統計（注：貿易統計は主要国のみ提供されます）
- 主要輸入国
- 主要輸出国
- 持続可能性と環境的側面
- 持続可能な実践
- 廃棄物削減戦略
- 生産におけるエネルギー効率
- 環境に配慮した取り組み
- カーボンフットプリントに関する考慮事項
第4章 競合情勢
- イントロダクション
- 企業の市場シェア分析
- 地域別
- 北米
- 欧州
- アジア太平洋
- ラテンアメリカ
- 中東・アフリカ
- 地域別
- 企業マトリクス分析
- 主要市場企業の競合分析
- 競合ポジショニングマトリックス
- 主な発展
- 合併・買収
- 提携・協力関係
- 新製品の発売
- 事業拡大計画
第5章 市場推計・予測：タイプ別、2021年～2034年
- 主要動向
- ポジ型フォトレジスト
- アクリレート系フォトレジスト
- ノボラック系（dnq）システム
- ポリ（メチルメタクリレート）（PMMA）
- ネガ型フォトレジスト
- エポキシ系
- シリコン含有レジスト
- 金属系レジスト
第6章 市場推計・予測：リソグラフィ技術別、2021年～2034年
- 主要動向
- DUVリソグラフィー
- 248nm KRFリソグラフィー
- 193nmドライリソグラフィー
- 193nm液浸露光（ARFI）
- 極端紫外線（EUV）リソグラフィー
- EUV@13.5 nm
- 高ナトリウムEUV
- I線リソグラフィ（365nm）
- ナノインプリントリソグラフィー（NIL）
- 電子線リソグラフィー
第7章 市場推計・予測：最終用途別、2021年～2034年
- 主要動向
- 半導体デバイス製造
- ロジックデバイス
- メモリデバイス
- エッジデバイス
- イメージセンサー
- MEMSデバイス
- 自動車用MEMS
- 民生用電子機器向けMEMS
- 産業・医療用MEMS
- ディスプレイ電子機器アプリケーション
- 液晶ディスプレイ製造
- 有機ELディスプレイ製造
- 次世代ディスプレイ
- 先進パッケージング応用
- 3Dパッケージング
- システム・イン・パッケージ（SIP）
- ウェーハレベルパッケージング（WLP）
- フォトマスク製造
- EUVマスク
- DUVマスク
第8章 市場推計・予測：地域別、2021年～2034年
- 主要動向
- 北米
- 米国
- カナダ
- 欧州
- ドイツ
- 英国
- フランス
- スペイン
- イタリア
- その他欧州
- アジア太平洋
- 中国
- インド
- 日本
- オーストラリア
- 韓国
- その他アジア太平洋
- ラテンアメリカ
- ブラジル
- メキシコ
- アルゼンチン
- その他ラテンアメリカ
- 中東・アフリカ
- サウジアラビア
- 南アフリカ
- アラブ首長国連邦
- その他中東・アフリカ
第9章 企業プロファイル
- Brewer Science, Inc.
- Dongjin Semichem Co., Ltd.
- Dow
- Eternal Materials Co., Ltd.
- Fujifilm Holdings Corporation
- Inpria Corporation
- Irresistible Materials Ltd.
- Jiangsu Nata Opto-electronic Material Co., Ltd.
- JSR Corporation
- Kayaku Advanced Materials
- Merck KGaA
- Micro Resist Technology GmbH
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Sumitomo Chemical Company
- Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.
- Others
