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市場調査レポート
商品コード
1794792
ガラス基板のブレークスルー:CoWoSとCPOイノベーションの推進力Glass Substrate Breakthroughs: Driving CoWoS and CPO Innovation |
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ガラス基板のブレークスルー:CoWoSとCPOイノベーションの推進力 |
出版日: 2025年07月07日
発行: TrendForce
ページ情報: 英文 16 Pages
納期: 即日から翌営業日
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ガラス基板は、ガラス貫通電極(TGV)技術の最近のブレークスルーにより、先進半導体パッケージングにおいて非常に有望なソリューションとして浮上しています。ガラス基板は、CoWoS、CPO、FOPLP技術の革新を推進する態勢を整えています。優れた高周波性能、低熱膨張係数(CTE)、優れた寸法安定性を活かし、ガラス基板はI/O密度とシグナルインテグリティを大幅に向上させます。このため、大型インターポーザ、多層積層、高周波RFアプリケーションに特に適しています。Intel、Samsung、TSMCなどの大手企業がガラス基板の開発と採用に積極的に投資しているように、TGV技術が広く応用されることで、最先端パッケージング技術の進歩が大きく加速されることになるでしょう。
Glass substrates are emerging as a highly promising solution in advanced semiconductor packaging with recent breakthroughs in Through-Glass Via (TGV) technology. They are poised to drive innovation in CoWoS, CPO, and FOPLP technologies. Leveraging superior high-frequency performance, low coefficient of thermal expansion (CTE), and excellent dimensional stability, glass substrates significantly enhance I/O density and signal integrity. This makes them particularly well-suited for large interposers, multi-layer stacking, and high-frequency RF applications. As major players such as Intel, Samsung and TSMC actively invest in the development and adoption of glass substrates, the widespread application of TGV technology is set to profoundly accelerate the advancement of cutting-edge packaging technologies.