EUVマスク欠陥検査装置：世界市場シェアとランキング、総売上高および需要予測2025-2031年

EUVマスク欠陥検査装置の世界市場規模は、2024年に18億6,400万米ドルと推定され、2025年から2031年の予測期間においてCAGR 12.5％で成長し、2031年までに38億4,600万米ドルに拡大すると予測されております。

本報告書は、EUVマスク欠陥検査装置に関する最近の関税調整と国際的な戦略的対抗措置について、越境的な産業フットプリント、資本配分パターン、地域経済の相互依存性、サプライチェーンの再構築を包括的に評価します。

マスク（フォトマスクまたはレチクルとも呼ばれます）は、マイクロエレクトロニクス加工技術で一般的に使用されるリソグラフィプロセスにおけるグラフィックマスターです。グラフィック情報の担体として、マスクは露光プロセスを通じてグラフィックを基材に転写し、グラフィックの転写を実現します。

マスク欠陥検査は、半導体リソグラフィ工程における重要な工程であり、マスクを点検し、その欠陥を特定・修復することを目的としています。リソグラフィ工程の重要な構成要素として、マスクは回路パターンをウエハーに正確に転写する役割を担っており、その品質はウエハーパターンの精度や最終デバイスの性能に直接影響します。欠陥には様々な種類があり、粒子汚染、パターン破損、ブリッジング問題、マスク材料自体の欠陥などが含まれます。

EUVマスク欠陥検出装置は、先端半導体プロセス技術において重要な役割を担う特殊装置です。EUVリソグラフィ技術が要求する高精度を考慮すると、マスク上の微小な欠陥でさえウエハー上の回路パターンの品質に重大な影響を与え、チップの性能や歩留まりに悪影響を及ぼす可能性があります。したがって、特殊検出装置を用いてEUVマスクを厳格に検査することは、半導体製造の品質を確保する上で不可欠な重要工程です。

現在、半導体検査技術においては光学検査が主流となっております。半導体光学検査の種類には、パターン欠陥検査、非パターン検査、マスク検査が含まれます。このうちパターン欠陥検査は、明視野検査と暗視野検査に分類されます。いずれも光学信号を通じて分析されますが、明視野は垂直反射光信号であるのに対し、暗視野は散乱光信号である点が異なります。

半導体リソグラフィ工程では、異なるマスクに応じて対応する光源を使用する必要があります。マスクの用途は大きく異なり、一般にバイナリマスク、位相シフトマスク、EUVマスクに分類されます。EUVマスクは、EUV（極端紫外線）リソグラフィ技術専用に設計された新型マスクです。EUVの波長が極めて短く、様々な材料に吸収されやすいため、レンズなどの従来の屈折素子は使用できません。代わりに、ブラッグの法則に基づき、多層（ML）構造による光ビームの反射を実現します（EUVとは異なり、DUVは透過光を使用します）。この種のマスクは、7nm、5nm、3nm、2nm（TSMCは2025年に量産化を計画）といった先端製造プロセスで広く採用されています。

現在、マスク検査技術は主に光学検査とSEM検査です。このうち、光学検査装置メーカーは主にLasertec社とKLA社、SEM検査装置はアドバンテスト社が手がけております。下流工程の応用面から見ると、マスクにペリクルが使用されている場合、EUVマスク検査装置が必要となります（言い換えれば、EUV露光装置が導入されている限り、EUV検査装置の使用が必須となります）。ただし現時点では、下流のエンドメーカーが使用するEUVマスクの全てにペリクルが採用されているわけではありません。

DUV露光や光学マスク技術においては、ペリクルが重要な役割を果たします。マスク検査装置は193nmの露光波長で動作し、このフィルム層を通して検査が行われます。ウエハー工場にとっては、これは直接的で効率的なプロセスです。しかし、極端紫外線（EUV）露光技術では、マスクの製造プロセスは専用のマスク工場で行う必要があります。この段階では、高解像度システムを必要とするため、マスクの検査はより複雑になります。ウエハー製造環境において理想的な状況は、ペリクルの層を用いてマスクを粒子汚染から保護しつつ、検査システムがこのペリクル層を通して動作できるようにすることです。欠陥がなければ工程を継続でき、欠陥が検出された場合はペリクルを除去し、マスクをマスクワークショップへ送って洗浄する必要があります。

EUVマスク欠陥検出装置は、主にマスクショップとファブで使用されます。ファブには、マスク製造ラインとウエハー製造ラインが含まれます。ファブにおけるEUVマスク欠陥検出装置採用の主な理由は二つあります。第一に、ペリクルがマスクに貼付されると、EUV検出装置以外の装置（電子線やDUV装置など）では高感度検出が困難となります。ペリクルの存在がこれらの装置の検出能力を妨げ、微小な欠陥を正確に識別できなくなるためです。次に、EUV検出装置は検出精度が高く、従来のDUVマスク検出法では捕捉できない欠陥や粒子を検出可能です。マスクショップは従来から比較的大きなシェアを占めており、2023年には約61％に達しました。しかし、より微細な先進プロセスノードの商用化が加速する中、ファブのシェアは2030年までに42％に達すると予測されています。

現在、EUVマスク欠陥検査装置市場は主にKLA社とLasertec社が独占しております。EUVマスク欠陥検査装置は高精度かつ高度な装置であり、納期が長いのが特徴です。例えばLasertec社の納期は2年です。今後数年間は、これら2社の主要企業がEUVマスク欠陥検査市場において独占状態を維持すると見込まれます。

本レポートは、EUVマスク欠陥検査装置の世界市場について、総販売数量、売上高、価格、主要企業の市場シェアおよび順位に焦点を当て、地域・国別、タイプ別、用途別の分析を包括的に提示することを目的としています。

EUVマスク欠陥検査装置の市場規模、推定値、予測値は、販売数量（台数）および売上高（百万米ドル）で提示され、2024年を基準年とし、2020年から2031年までの期間における過去データと予測データを含みます。定量的・定性的分析の両面から、読者の皆様がEUVマスク欠陥検査装置に関する事業戦略・成長戦略の策定、市場競争の評価、現在のマーケットプレースにおける自社の位置付けの分析、情報に基づいた事業判断を行うお手伝いをいたします。

市場セグメンテーション

企業別

• Lasertec
• KLA-Tencor
• Advantest
• Applied Materials
• NuFlare

タイプ別セグメント

• 5-7nmプロセス
• 3nm以下プロセス

用途別セグメント

• マスクショップ
• ファブ

地域別

• 北米
  • 米国
  • カナダ
• アジア太平洋
  • 中国
  • 日本
  • 韓国
  • 東南アジア
  • インド
  • オーストラリア
  • その他アジア太平洋地域
• 欧州
  • ドイツ
  • フランス
  • 英国
  • イタリア
  • オランダ
  • 北欧諸国
  • その他欧州
• ラテンアメリカ
  • メキシコ
  • ブラジル
  • その他ラテンアメリカ
• 中東・アフリカ
  • トルコ
  • サウジアラビア
  • アラブ首長国連邦
  • その他中東・アフリカ