半導体CMPフィルター：世界市場シェアとランキング、総売上高および需要予測2025-2031年

半導体CMPフィルターの世界市場規模は、2024年に1億3,000万米ドルと推定され、2025年から2031年の予測期間においてCAGR 6.5％で推移し、2031年までに2億600万米ドルに拡大すると予測されております。

本報告書では、半導体CMPフィルターに関する最近の関税調整と国際的な戦略的対抗措置について、越境的な産業フットプリント、資本配分パターン、地域経済の相互依存性、サプライチェーンの再構築を包括的に評価しております。

CMPとは半導体ウエハー製造工程における研磨プロセスを指します。研磨工具と研磨研磨スラリーを用いてウエハー表面を平滑化します。スラリーには30～200μmの粒子を含み、規格では粒子径を0.5μm未満に制御することが求められます。0.5μmを超える粒子を除去できない場合、ウエハー表面にキズが生じる恐れがあるため、スラリーのろ過は工程において極めて重要な要素となります。

先進的なチップ製造において、CMP（化学機械研磨）プロセスはウエハー表面の品質と平坦性に対して極めて高い要求を課します。CMPスラリーの粒子制御能力は歩留まりを決定する重要な要素です。CMPスラリーは調製や循環中にゲル化や凝集を起こしやすく、大きな粒子を生成します。これらを効果的に濾過しなければ、マイクロキズや欠陥の原因となるだけでなく、ウエハー全体の廃棄につながる可能性があり、生産能力とコストに深刻な影響を及ぼします。

従来の流体ろ過とは異なり、CMPフィルターは末端での大粒子を正確に捕捉するだけでなく、効果的な研磨粒子の通過率を確保し、高い研磨速度と安定した平坦化結果を維持しなければなりません。これにより、フィルターの精度、構造、材料の耐薬品性、安定性に対して大きな課題が生じます。

したがって、CMPフィルターはスラリー製造、ウエハー加工、プロセスループ、エンドオブライン（POU）システムに至る全工程に配置され、LPC（大粒子数）を精密に制御することで、チップ製造の源流から高い歩留まりと一貫性を確保します。

現在、エンテグリス、ポール、3M、コベター、杭州ディーファイン、杭州ダーリー、フィーチャーテックなどの企業は、3D NANDやGAAなどの先進プロセスにおけるより高いろ過性能への需要に応えるため、技術革新を通じてCMPろ過ソリューションの開発を継続的に推進しており、半導体歩留まり向上の重要な支援力となっています。

本レポートは、半導体CMPフィルターの世界市場について、総販売数量、売上高、価格、主要企業の市場シェアおよび順位に焦点を当て、地域・国別、技術別、用途別の分析を包括的に提示することを目的としています。

半導体CMPフィルター市場の規模、推定値、予測値は、販売数量（千台単位）および売上高（百万米ドル単位）で提示され、2024年を基準年とし、2020年から2031年までの期間における過去データと予測データを含みます。定量的・定性的分析の両面から、読者の皆様が半導体CMPフィルターのビジネス／成長戦略の策定、市場競争の評価、現在のマーケットプレースにおける自社の位置付けの分析、そして情報に基づいたビジネス判断を行うお手伝いをいたします。

市場セグメンテーション

企業別

• Entegris
• Pall
• Cobetter
• 3M
• Hangzhou Deefine
• Hangzhou Darlly Filtration Equipment Co.,Ltd
• Ever Pure Applied Materials Co., Ltd
• Membrane Solutions
• Feature-Tec

技術別セグメント

• カプセルフィルター
• カートリッジフィルター

用途別セグメント

• CMPスラリー生産用ろ過
• ウエハー製造
• ループ/機械用POUろ過

地域別

• 北米
  • 米国
  • カナダ
• アジア太平洋
  • 中国
  • 日本
  • 韓国
  • 東南アジア
  • インド
  • オーストラリア
  • その他アジア太平洋地域
• 欧州
  • ドイツ
  • フランス
  • 英国
  • イタリア
  • オランダ
  • 北欧諸国
  • その他欧州
• ラテンアメリカ
  • メキシコ
  • ブラジル
  • その他ラテンアメリカ
• 中東・アフリカ
  • トルコ
  • サウジアラビア
  • アラブ首長国連邦
  • その他中東・アフリカ