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市場調査レポート
商品コード
1867480
化学機械研磨装置(CMP)-世界市場シェアと順位、総売上高および需要予測2025-2031年Chemical Mechanical Polishing Machine (CMP) - Global Market Share and Ranking, Overall Sales and Demand Forecast 2025-2031 |
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カスタマイズ可能
適宜更新あり
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| 化学機械研磨装置(CMP)-世界市場シェアと順位、総売上高および需要予測2025-2031年 |
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出版日: 2025年10月21日
発行: QYResearch
ページ情報: 英文 115 Pages
納期: 2~3営業日
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概要
化学機械研磨装置(CMP)の世界市場規模は、2024年に39億5,600万米ドルと推定され、2025年から2031年の予測期間においてCAGR 8.2%で推移し、2031年までに66億5,500万米ドルに拡大すると予測されております。
本報告書は、化学機械研磨装置(CMP)の越境産業フットプリント、資本配分パターン、地域経済の相互依存性、サプライチェーン再構築に関する最近の関税調整と国際的な戦略的対抗措置について包括的な評価を提供します。
化学機械研磨(CMP研磨)は、より一般的にCMP研磨として知られています。これは、反応性化学薬剤に懸濁された研磨粒子を含むスラリーを用いて、ウエハーの表面を研磨するプロセスです。研磨作用は部分的に機械的、部分的に化学的です。プロセスの機械的要素は下向きの圧力を加え、発生する化学反応は材料除去率を向上させます。これは通常、処理対象の材料の種類に合わせて調整されます。
5G、人工知能、モノのインターネット(IoT)といった先端技術の普及は、革新的な半導体ソリューションへの需要をさらに高め、市場を牽引しております。電子機器の小型化動向もまた、極めて精密かつ均一な研磨プロセスを必要としており、化学機械的平坦化(CMP)は現代の製造工程において不可欠な技術となっております。高性能チップに依存する自動車や民生用電子機器などの産業の拡大も、市場需要をさらに牽引しています。環境に優しいスラリーやプロセスの開発など、化学機械平坦化(CMP)材料と技術の革新も、差別化と市場拡大の機会を提供しています。
本レポートは、化学機械研磨装置(CMP)の世界市場について、総販売数量、売上高、価格、主要企業の市場シェアと順位に焦点を当て、地域・国別、タイプ別、用途別の分析を包括的に提示することを目的としています。
化学機械研磨装置(CMP)の市場規模、推定値、予測値は、販売数量(台数)および売上高(百万米ドル)の観点から提供され、2024年を基準年とし、2020年から2031年までの期間における過去データと予測データを含みます。定量的・定性的分析の両面から、読者の皆様がCMPに関する事業戦略・成長戦略の策定、市場競争の評価、現在のマーケットプレースにおける自社の位置付けの分析、情報に基づいた事業判断を行うことを支援します。
市場セグメンテーション
企業別
- Applied Materials
- Ebara Corporation
- KC Tech
- ACCRETECH
- Tianjin Huahaiqingke
- Logitech
- Revasum
- Alpsitec
- Semicore Microelectronics
- Sizone Tech
- Okamoto Machine Tool
タイプ別セグメント
- 300mm研磨機
- 200mm研磨機
- その他
用途別セグメント
- 半導体プラント
- 調査研究所
地域別
- 北米
- 米国
- カナダ
- アジア太平洋
- 中国
- 日本
- 韓国
- 東南アジア
- インド
- オーストラリア
- その他アジア太平洋地域
- 欧州
- ドイツ
- フランス
- 英国
- イタリア
- オランダ
- 北欧諸国
- その他欧州
- ラテンアメリカ
- メキシコ
- ブラジル
- その他ラテンアメリカ
- 中東・アフリカ
- トルコ
- サウジアラビア
- アラブ首長国連邦
- その他中東・アフリカ


