半導体用高周波発生装置：世界市場シェアとランキング、総売上高および需要予測2025-2031年

RF Generator for Semiconductor - Global Market Share and Ranking, Overall Sales and Demand Forecast 2025-2031

出版日: 2025年10月20日
発行: QYResearch
ページ情報: 英文 168 Pages
納期: 2～3営業日

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概要

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半導体用高周波発生器の世界市場規模は、2024年に10億1,400万米ドルと推定され、2025年から2031年の予測期間においてCAGR 7.2％で成長し、2031年までに17億2,700万米ドルに拡大すると予測されております。

本レポートでは、半導体用高周波発生器に関する最近の関税調整と国際的な戦略的対抗措置について、越境的な産業フットプリント、資本配分パターン、地域経済の相互依存性、サプライチェーンの再構築といった観点から包括的な評価を提供します。

RFジェネレーター（RF電源とも呼ばれます）は、半導体製造において極めて重要な特殊電源です。通常、マッチングデバイスと一体となったシステム（プラズマRF電源システム）を構成します。RF電源の主流周波数帯域は、一般的に400kHz、2MHz、13.56MHz、27.12MHz、60MHzです。その中核的な機能は、高周波電場を発生させ、ウエハー反応チャンバー内の特定プロセスガスをイオン化することで、高活性・高エネルギーのプラズマを生成・維持することにあります。このプラズマの特性を活用することで、薄膜成膜、エッチング、イオン注入、洗浄・ストリッピング、ボンディングといった複雑な半導体プロセスを実現します。

RF電源の性能は、薄膜成膜やエッチング工程におけるプラズマの組成、濃度、均一性、安定性に直接影響を及ぼします。薄膜の成膜厚さ、密度、応力、成膜速度、ならびにエッチングの選択性、指向性、速度、品質を決定する上で極めて重要です。これはひいては、ウェーハ製造プロセスの能力、歩留まり、効率に影響を与えます。RF電源システムは、半導体製造の基幹装置において中核的な位置を占めています。

世界のRFジェネレータ主要メーカーには、Wan Advanced Energy, Wanji Instruments, Comed, DAIHEN Corporation, TRUMPF, Adtec Plasma Technology, Kyosan Manufacturing, XP Power, Aifak, Shenzhen Hengyunchang Vacuum Technology Co., Ltd., Sichuan Yingjie Electric, Beijing Huacheng Electronicsなどが挙げられます。製品面では、各社が異なる市場や装置周波数を対象としており、半導体装置分野では2MHz、13.56MHz、27.12MHzが最も広く使用される細分化製品であり、2024年にはこれら3つの市場シェアが60％を超える見込みです。

半導体用高周波発生装置は、その応用分野の一つに過ぎませんが、高周波発生装置に対する需要が最も大きい応用シナリオでもあります。高周波発生装置のその他の応用分野には、太陽光発電、ディスプレイパネル、医療、高周波センシングなどが含まれます。

高周波発生器は、エッチング、薄膜成膜（CVDおよびPVD）、イオン注入、洗浄・脱ガム処理など、様々な半導体プロセスで広く使用されています。装置の一つには、単一キャビティ内に高周波電源1台と低周波バイアス電源1/2台が装備されています。高周波電源をソースとして使用する場合の利点は、プラズマ中の粒子をより多くの回数衝突させることができ、高密度の粒子を得られることです。一方、低周波電源をバイアス源として使用すると、粒子により高い速度と運動エネルギーを与えやすくなり、イオンの衝突能力を強化できます。

本レポートは、半導体用高周波発生装置の世界市場について、総販売数量、売上高、価格、主要企業の市場シェアおよび順位に焦点を当て、地域・国別、タイプ別、用途別の分析を包括的に提示することを目的としています。

半導体用RFジェネレータ市場の規模、推定・予測は、販売数量（台数）および売上高（百万米ドル）で提供され、2024年を基準年とし、2020年から2031年までの期間における過去データと予測データを含みます。定量的・定性的分析の両面から、読者の皆様が半導体用RFジェネレータに関する事業戦略・成長戦略の策定、市場競争の評価、現在のマーケットプレースにおける自社の位置付けの分析、情報に基づいたビジネス判断を行うことを支援いたします。

市場セグメンテーション

企業別