EUVフォトレジスト- 世界市場シェアとランキング、全体売上高および需要予測2025-2031年

EUVフォトレジストの世界市場規模は、2024年に1億7,600万米ドルと推定され、2025年から2031年の予測期間においてCAGR24.2％で拡大し、2031年までに8億2,200万米ドルに再調整される見込みです。

本報告書では、EUVフォトレジストに関する最近の関税調整と国際的な戦略的対抗措置について、越境的な産業フットプリント、資本配分パターン、地域経済の相互依存性、サプライチェーンの再構築といった観点から包括的な評価を提供します。

EUVフォトレジストは、極端紫外線（EUV）リソグラフィを用いた半導体デバイス製造において極めて重要な構成要素です。EUVリソグラフィは、波長約13.5ナノメートルのEUV光を用いて半導体ウエハー上に極微細な微細構造を形成する先進的な半導体製造技術です。フォトレジストは感光性材料であり、EUV光に曝露されると化学変化を起こし、ウエハー上に複雑な構造をパターン形成することを可能にします。

2024年、世界のEUVフォトレジスト生産量は約97千ガロンに達し、世界平均市場価格は1ガロンあたり約1,800米ドルでした。

世界のEUVフォトレジスト主要メーカーには、東機（TOK）、JSR、信越化学工業（Shin-Etsu Chemical）が含まれます。上位3社で市場の約90％を占めています。アジア太平洋は世界最大のEUVフォトレジスト市場であり、約82％のシェアを有しています。次いで北米と欧州がそれぞれ約8％のシェアを占めています。製品タイプ別では、EUV（化学）が最大のセグメントであり、市場シェアの約67％を占めています。用途別では、ロジックICが最大のダウンストリームセグメントであり、市場の約38％を占めています。

本レポートは、EUVフォトレジストの世界市場について、総販売数量、売上高、価格、主要企業の市場シェアおよび順位に焦点を当て、地域・国別、タイプ別、用途別の分析を包括的に提示することを目的としています。

EUVフォトレジスト市場の規模、推定・予測は、販売量（千ガロン）および売上高（百万米ドル）で提示され、2024年を基準年とし、2020年から2031年までの期間における過去データと予測データを含みます。定量的・定性的分析の両面から、読者の皆様がEUVフォトレジストに関する事業戦略・成長戦略の策定、市場競争の評価、現在のマーケットプレースにおける自社の位置付けの分析、情報に基づいた事業判断を行うことを支援いたします。

市場セグメンテーション

企業別

• TOK
• JSR
• Shin-Etsu Chemical
• Fujifilm
• Sumitomo Chemical
• Dongjin Semichem
• DuPont
• Lam Research

タイプ別セグメント

• EUV（化学系）
• EUV（非化学系）

用途別セグメント

• ロジックIC
• メモリ
• その他

地域別

• 北米
  • 米国
  • カナダ
• アジア太平洋
  • 中国
  • 日本
  • 韓国
  • 東南アジア
  • インド
  • オーストラリア
  • その他アジア太平洋地域
• 欧州
  • ドイツ
  • フランス
  • 英国
  • イタリア
  • オランダ
  • 北欧諸国
  • その他欧州
• ラテンアメリカ
  • メキシコ
  • ブラジル
  • その他ラテンアメリカ
• 中東・アフリカ
  • トルコ
  • サウジアラビア
  • アラブ首長国連邦
  • その他中東・アフリカ