極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場：装置別（露光システム、光源、光学系・ミラー、マスク関連システム）、技術別（標準EUV/NXE、高NA EUV/EXE）、用途別（ファウンダリ、メモリ、IDM） - 2036年までの世界予測

世界のEUVリソグラフィ市場は、予測期間（2026年～2036年）においてCAGR8.4％で成長し、2026年の119億3,000万米ドルから2036年には約268億1,000万米ドルに達すると見込まれております。

本レポートでは、5つの主要地域における世界のEUVリソグラフィ市場の詳細な分析を提供し、現在の市場動向、市場規模、最近の動向、および2036年までの予測に重点を置いています。広範な2次調査と1次調査、ならびに市場シナリオの詳細な分析を経て、主要な業界の促進要因、抑制要因、機会、課題の影響分析を実施しています。

EUVリソグラフィ市場の成長を牽引する主な要因としては、先進的な半導体微細化技術への世界の注目の高まり、および高性能コンピューティングと人工知能アプリケーションの急速な拡大が挙げられます。さらに、高NA EUV技術の導入拡大、先進的なファウンダリ施設における高信頼性パターニングの需要増加、デジタル製造との統合が進むことで、EUVリソグラフィ市場で事業を展開する企業にとって大きな成長機会が創出されると予想されます。

市場セグメンテーション

目次

第1章 イントロダクション

第2章 エグゼクティブサマリー

第3章 市場概要

• 市場力学
  • 促進要因
  • 抑制要因
  • 機会
  • 課題
• 高NAおよびAIがEUVリソグラフィに与える影響
• 規制状況と半導体規格
• ポーターのファイブフォース分析

第4章 世界の極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場：装置別

• 露光システム（ステッパー／スキャナー）
  • NXEシリーズ（標準EUV）
  • EXEシリーズ（高NA EUV）
• 光源（LPP／DPP）
• 光学系・ミラー
• マスク関連システム
  • マスク検査（露光用／非露光用）
  • マスクブランクおよびペリクル
• その他（計測・検査）

第5章 世界の極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場：技術別

• 標準EUV（NXE）
• 高NA EUV（EXE）

第6章 世界の極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場：用途別

• ファウンダリ
• メモリ（DRAM／NAND）
• IDM（集積デバイスメーカー）

第7章 世界の極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場：地域別

• 北米
  • 米国
  • カナダ
• 欧州
  • ドイツ
  • フランス
  • 英国
  • イタリア
  • スペイン
  • オランダ
  • その他欧州
• アジア太平洋
  • 中国
  • インド
  • 日本
  • 韓国
  • 東南アジア
  • オーストラリア
  • その他アジア太平洋地域
• ラテンアメリカ
  • ブラジル
  • メキシコ
  • その他ラテンアメリカ
• 中東・アフリカ
  • サウジアラビア
  • アラブ首長国連邦
  • 南アフリカ
  • その他中東とアフリカ

第8章 競合情勢

• 主要成長戦略
• 競合ベンチマーキング
• 競合ダッシュボード
  • 業界リーダー
  • 市場における差別化要因
  • 先駆企業
  • 新興企業
• 主要企業の市場ランキング／ポジショニング分析（2025年）

第9章 企業プロファイル（製造業者および提供業者）

• ASML Holding N.V.
• ZEISS SMT
• Lasertec Corporation
• KLA Corporation
• Applied Materials, Inc.
• Ushio Inc.
• Gigaphoton Inc.
• Tokyo Electron Limited
• Toppan Holdings Inc.
• HOYA Corporation
• JSR Corporation
• Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

第10章 付録