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市場調査レポート
商品コード
1114984
極端紫外線リソグラフィ装置の世界市場規模、シェア、産業動向分析レポート:装置別(光源(レーザー生成プラズマ、真空スパーク、ガス放電)、ミラー、マスク)、地域別展望と予測、2022年~2028年Global Extreme Ultraviolet Lithography Systems Market Size, Share & Industry Trends Analysis Report By Equipment (Light Source (Laser Produced Plasmas, Vacuum Sparks, and Gas Discharges), Mirrors, Masks), By Regional Outlook and Forecast, 2022 - 2028 |
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極端紫外線リソグラフィ装置の世界市場規模、シェア、産業動向分析レポート:装置別(光源(レーザー生成プラズマ、真空スパーク、ガス放電)、ミラー、マスク)、地域別展望と予測、2022年~2028年 |
出版日: 2022年07月29日
発行: KBV Research
ページ情報: 英文 184 Pages
納期: 即納可能
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極端紫外線露光(EUVL)装置の世界市場規模は、2028年には230億5000万米ドルに達し、予測期間中に21.3%のCAGRで市場成長すると予測されています。
EUVLは他の露光方式に比べ技術的に進んでいるため、今後数年間で市場は大きく発展すると予想されます。また、電子機器の小型化ニーズが高まっていることから、極端紫外線リソグラフィ技術の市場も拡大すると予想されます。また、マイクロエレクトロニクスデバイスの販売台数の増加により、極端紫外線リソグラフィ装置の市場も今後拡大すると予想されています。
EUVフォトマスクは、シリコンとモリブデンを交互に何層にも重ね、光を反射させることにより形成されます。これに対し、従来のフォトマスクは、石英基板上にクロムの単層で光を遮断していました。EUVマスクは、シリコンとモリブデンを交互に40層重ね、多層膜としてブラッグ回折により極端紫外光を反射させるものです。反射率には波長と入射角が大きく影響し、短波長のものは垂直入射から遠ざかり、長波長のものは垂直入射に近い状態で反射します。
COVID-19の影響度分析
サプライチェーンの主要企業に大きな影響を与えたため、COVID-19の発生は極端紫外線露光装置市場の成長に大きな影響を及ぼしました。また、COVID-19の大流行により、有能な労働者の不足、全面的または部分的な閉鎖によるプロジェクトの遅延やキャンセルなど、多くの課題が世界的に発生し、市場に影響を及ぼしました。また、コロナウイルスの感染速度が速く、各国政府の封鎖により半導体産業が全面的に停止する事態も発生しました。産業用オートメーションツールは、企業の効率化や人件費削減を実現するため、多くの企業で活用されています。
市場の成長要因
スマートフォンの普及
スマートサービスの開発には、技術インフラ、提供するサービスが利用できる情報通信技術、エンドユーザーのアクセス、サービスの使い勝手など、さまざまな要素が考慮されなければならないです。また、スマートデバイスの急速な普及、モバイルネットワークの充実、効率的なスマートアプリケーションのニーズの高まりなど、さまざまな理由があります。携帯電話やスマートプラットフォームで情報サービスを提供する際には、スマートガバメントのフレームワークにある基本原則を活用する必要があります。
医薬品産業の成長
新しい技術の導入や、より経済的で効果的な製造技術の導入により、医薬品産業は大きな転換期を迎えています。さらに、この分野への投資の増加も、市場の成長を後押ししています。ロボット工学と人工知能の使用により、製造現場でのダウンタイムが短縮され、製品の廃棄物(AI)が削減されます。さらに、シングルユースの使い捨て製品がこの市場で発売され、従来のオープントランスファ製造方法に取って代わりました。さらに、統合されたインテリジェントでデータ豊富なペーパーレスオペレーションへのパラダイムチェンジが、正確でエラーのないアウトプットを生み出しています。このような継続的な発見により、医薬品の生産が加速されています。
市場の抑制要因
市場全体における代替品の普及率
シリコンウエハなどの基板に塗布された感光性乳剤に画像を投影する光リソグラフィーは、光子を利用したプロセスです。半導体産業では、ナノエレクトロニクスの大量生産にこの光リソグラフィ技術が最も多く使われています。光リソグラフィーの普及は、膨大な量のデータを高速に転送できる並列性の高いアーキテクチャに直接関係しています。例えば、最新鋭のリソグラフィー装置では、40nmの2次元パターン解像度で1時間に150~300mmウエハーを印刷することができ、そのスループットは約1.8Tピクセル/秒となります。
装置の展望
装置別では、極端紫外線露光装置市場は、マスク、光源、ミラー、その他に分類されます。2021年の極端紫外線リソグラフィ装置市場では、ミラー部門が大きな収益シェアを占めました。極端紫外線リソグラフィでは、レンズはないです。ほとんどの材料がEUV光を吸収するため、レンズはシステム内の光を吸収してしまいます。最新のシステムでは、真空チャンバー内に超平滑な多層膜ミラーを使用した新しい光学系を組み込んでいます。
地域別展望
地域別では、極端紫外線露光装置市場は、北米、欧州、アジア太平洋、LAMEAで分析されます。2021年の極端紫外線リソグラフィ市場は、アジア太平洋地域が最も高い収益シェアを占めています。この地域市場の急成長は、同地域の半導体産業が絶えず拡大していることに起因します。特に中国は、アジア太平洋地域の極端紫外線リソグラフィ装置市場において、引き続き有力なプレーヤーとなっています。また、同国の主要企業や政府機関が技術に積極的に投資していることも、この分野の成長を後押ししています。
List of Figures
The Global Extreme Ultraviolet Lithography (EUVL) Systems Market size is expected to reach $23.05 billion by 2028, rising at a market growth of 21.3 % CAGR during the forecast period.
Extreme ultraviolet lithography, or EUVL, is one of the leading next-generation lithography (NGL) techniques used to print lines as thin as 30 nm and create microprocessors and microchips. This novel and advanced technology are significantly being employed to design microcircuits. Strong ultraviolet laser beams that are reflected off of a silicon wafer are burned into the silicon wafer by the EUVL technology. A further extremely short wavelength solution that can be used up to the 10nm node is extreme UV lithography systems.
Extreme ultraviolet lithography is an optical lithography process that creates patterns by exposing reflective photomask to UV light, which is reflected onto a substrate covered in the photoresist. This process uses a range of extreme ultraviolet wavelengths, approximately encompassing a 2% FWHM bandwidth of about 13.5 nm. It is frequently used in the process of creating semiconductor devices.
Because EUVL systems are more advanced technologically than other lithography methods, the market for them is anticipated to develop significantly throughout the coming years. Additionally, the market for extreme-ultraviolet lithography technologies is anticipated to rise due to the imminent need for smaller electronic devices. Additionally, an increase in microelectronics device sales is anticipated to fuel the market for extreme-ultraviolet lithography equipment in the coming years.
By reflecting light, several alternating layers of silicon and molybdenum are used to create EUV photomasks. In contrast, traditional photomasks block the light using a single layer of chromium on a quartz substrate. A EUV mask is made up of 40 layers of silicon and molybdenum that alternate, acting as a multilayer to reflect the extreme ultraviolet light via Bragg diffraction. The wavelength and incident angle have a significant impact on the reflectance, with shorter wavelengths reflecting away from normal incidence and longer wavelengths reflecting near-normal incidence.
COVID-19 Impact Analysis
Due to a major impact on key companies in the supply chain, the COVID-19 outbreak had a significant impact on the growth of the extreme ultraviolet lithography systems market. In addition, the COVID-19 pandemic caused a number of challenges for the market, including a shortage of competent workers and delays or cancellations of projects due to full or partial lockdown, globally. Moreover, the transmission of coronavirus was rapid, and the semiconductor industry was been shut down entirely due to the lockdown imposed by governments of various countries. Because industrial automation tools boost corporate efficiency and cut labor expenses, many businesses use them in their operations.
Market Growth Factors
Rising Utilization Of Smartphones
The technological infrastructure, information and communication technologies available to the service to be offered, the access of the end-users to the service, and the service's usability are only a few of the factors that need to be considered while developing smart services. Additionally, there are other reasons that are readily available, such as the quick expansion of smart devices, the excellence of mobile networks, and the rising need for highly effective smart applications. The essential principles in the framework for smart government must be used when providing information services via mobile phones and smart platforms.
Increasing Growth Of The Pharmaceuticals Industry
With the introduction of new technology as well as more economical and effective manufacturing techniques, the pharmaceutical industry has experienced a significant transition. Additionally, the market growth has been positively driven by rising investment flow in this sector. The use of robotics and artificial intelligence reduces downtime on the manufacturing floor and the production of product waste (AI). Additionally, single-use disposable products have been launched in this market, replacing traditional open transfer manufacturing methods. Additionally, the paradigm change towards integrated, intelligent, and data-rich paperless operations has produced accurate and error-free output. Such continuous discoveries have accelerated the production of drugs.
Market Restraining Factors
Prevalence Of Alternatives Across The Market
An image is projected into a photosensitive emulsion that has been put on a substrate, such as a silicon wafer, in the process of optical lithography, a photon-based process. The semiconductor industry uses this optical lithography technique the most for producing Nano-electronics in large quantities. The widespread usage of optical lithography is directly related to the technology's extremely parallel architecture, which enables the quick transport of enormous volumes of data. For instance, cutting-edge lithography equipment today can print 150-300 mm wafers per hour with a 40-nm two-dimensional pattern resolution, which results in a throughput of about 1.8T pixels/s.
Equipment Outlook
By the Equipment, the Extreme Ultraviolet Lithography Systems Market is segregated into Mask, Light Source, Mirrors, and Others. In 2021, the mirrors segment witnessed a substantial revenue share of the extreme ultraviolet lithography systems market. For extreme ultraviolet lithography, there are no lenses. The lenses would absorb the light in the system because most materials absorb EUV light. In modern systems, manufacturers are integrating a new optical system that utilizes multilayer mirrors that are ultra-smooth in a vacuum chamber.
Regional Outlook
Region-Wise, the Extreme Ultraviolet Lithography Systems Market is analyzed across North America, Europe, Asia-Pacific, and LAMEA. In 2021, Asia Pacific accounted for the highest revenue share of the extreme ultraviolet lithography market. The surging growth of the regional market is attributed to the constantly expanding semiconductor industry of the region. China in particular continues to be a prominent player in the market for extreme-ultraviolet lithography systems in Asia-Pacific. Major businesses and government agencies in the nation are heavily investing in technology, which is also a major factor driving the growth of the segment.
The market research report covers the analysis of key stake holders of the market. Key companies profiled in the report include Intel Corporation, Samsung Electronics Co., Ltd. (Samsung Group), Toshiba Corporation, Carl Zeiss AG, Nikon Corporation, ASML Holding N.V., Canon, Inc., Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited, Toppan Inc., and NTT Advanced Technology Corporation (Nippon Telegraph and Telephone Corporation).
Market Segments covered in the Report:
By Equipment
By Geography
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