市場調査レポート
商品コード
1470395
フォトリソグラフィー装置市場:タイプ別、波長別、光源別、エンドユーザー別-2024~2030年の世界予測Photolithography Equipment Market by Type (ArF, ArFi, DUV), Wavelength (270 nm-170 nm, 370 nm-270 nm, 70 nm-1 nm), Light source, End User - Global Forecast 2024-2030 |
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フォトリソグラフィー装置市場:タイプ別、波長別、光源別、エンドユーザー別-2024~2030年の世界予測 |
出版日: 2024年04月17日
発行: 360iResearch
ページ情報: 英文 185 Pages
納期: 即日から翌営業日
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フォトリソグラフィー装置市場規模は、2023年に118億6,000万米ドルと推定され、2024年には129億2,000万米ドル、CAGR 9.55%で2030年には224億7,000万米ドルに達すると予測されています。
フォトリソグラフィー装置は、半導体デバイス製造の重要なステップであるフォトリソグラフィ工程で使用される特殊な機械やツールの数々を指します。この工程では、マスク上の幾何学的形態をシリコンウエハーの表面に転写します。フォトリソグラフィー装置市場は、フォトリソグラフィ工程で使用される機械の製造、流通、販売で構成されます。フォトリソグラフィ工程は、光源を使用して基板上にパターンを転写する半導体製造に不可欠な工程です。フォトリソグラフィー装置に対する潜在的な需要は、世界の半導体製造と、各セグメントにおけるスマート電子機器や小型電子機器の採用の高まりに起因しており、これが市場成長の原動力となっています。また、マイクロウェルやマイクロピラーアレイの製造におけるフォトリソグラフィーの利用が増加していることも、フォトリソグラフィー装置の必要性を高めています。フォトリソグラフィー装置の導入コストの高さ、フォトリソグラフィー装置機能の設計上の制限や性能上の問題は、装置の有効性に影響を与える技術的な課題として根強く残っています。ライフサイエンス産業における微細加工材料へのニーズの高まりと、臓器オンチップの出現と進歩は、装置メーカーに、この進歩するセグメントに対応するソリューションを革新し提供する新たな機会をもたらします。
主要市場の統計 | |
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基準年[2023年] | 118億6,000万米ドル |
予測年[2024年] | 129億2,000万米ドル |
予測年[2030年] | 224億7,000万米ドル |
CAGR(%) | 9.55% |
タイプ:半導体製造におけるArFリソグラフィの大きな嗜好性
フッ化アルゴン(ArF)のフォトリソグラフィー装置は、波長193nmで動作するレーザーを使用します。これらのシステムは、深紫外(DUV)リソグラフィ用に設計されており、通常、90~45ナノメートルのフィーチャーサイズを必要とするアプリケーションで使用されます。ArFi(フッ化アルゴン液浸)リソグラフィ装置は、ArF装置の進化版です。液浸技術を利用し、ウエハーとレンズの間に屈折率の高い液体を入れることで、解像度をさらに向上させる。これにより、さらに小さなフィーチャーのイメージングが可能になり、約65ナノメートル以下のノードの適用範囲となります。先進的なメモリーやロジック・デバイスなど、極めて微細なパターンが必要な場合に特に好まれています。DUVリソグラフィは、ArFやKrFを含む、深紫外域で動作するフォトリソグラフィ・システムを包含します。これらのシステムは、250nm以下の形態を形成するのに理想的です。EUV(極端紫外線リソグラフィ)は、わずか13.5nmという極めて短い波長を使用するフォトリソグラフィー装置の最先端クラスです。10nm以下の微細加工が可能で、DUVリソグラフィの限界を超えた集積回路の微細化が可能です。
I線リソグラフィ装置は、波長365nmの水銀ランプを使用します。DUVやEUVの解像度には劣るもの、I-Lineは特定の用途ではコスト効率が高く、成熟した半導体プロセスや、一般的に350ナノメートル以上の単純な形態に使用されることが多いです。フッ化クリプトン(KrF)フォトリソグラフィ装置は、波長248nmで動作し、およそ130~150ナノメートルまでのフィーチャのパターニングに適しています。KrF装置は、中間の解像度を必要とする場合に選択され、より大きなフィーチャーサイズの回路を製造する場合、ArF装置よりも優れたスループットとコスト効率を記載しています。解像度の点では、EUVとArFi技術がこのセグメントをリードしており、最先端の半導体ノード向けに最小のフィーチャーサイズを提供しています。EUVは、特に5nm以下のノードで支持を集めているが、コストと複雑性が高いため、ArFiは、やや先進的でないノードに好ましい選択肢となっています。ArFとKrFを含むDUV技術は、依然として市場の大部分を占める最先端でない半導体プロセスにとって重要です。比較的低コストでスループットが高いため、多くのメーカーに適した選択肢となっています。i-Lineは、これらの技術の中でも最も古く、最もコストが低く、最高レベルの解像度が不要な非重要層や大きな形態に最適です。
エンドユーザー:大量生産の主流に対応するため、ファウンドリで最先端のフォトリソグラフィー装置の使用が増加
半導体製造工場(ファブ)としても知られるファウンドリは、シリコンウェーハを製造し、さまざまな顧客によって集積回路に加工されます。これらの顧客は、自社でウエハーを製造するために多くの手段を必要とするか、外注の費用対効果を好むため、ファウンドリーに外注することが多いです。集積デバイスメーカー(IDM)は、半導体製品の設計、製造、販売をひとつ屋根の下で行います。IDMは、大量生産で成熟した製品ラインからニッチな最先端技術まで幅広く事業を展開しているため、性能とコストのバランスが取れたフォトリソグラフィー装置を明確に好みます。フォトリソグラフィー装置に関するファウンドリとIDMの主要違いは、カスタマイズと技術リーダーシップの必要性にあります。ファウンドリは、様々な顧客に対して競合を維持するために、最新かつ最高のものを要求することが多いです。一方、IDMは、幅広い製品に対応できる汎用性の高い装置を必要とし、よりコスト効率が高く、垂直統合型の自社事業に適した成熟した技術を採用することもあります。
地域別洞察
南北アメリカ、特に北米におけるフォトリソグラフィー装置の需要は、老舗半導体メーカーと先端エレクトロニクスに投資するハイテク大手の存在によって牽引されています。この地域では、研究開発への一貫した投資が行われており、ハイテク業界のフォトリソグラフィー装置需要は堅調に推移しています。しかし、南米では半導体製造工場の存在が限定的であり、他の産業セグメントに重点を置いているため、需要は比較的低いです。欧州は、自動車、産業、先端製造業におけるリーダーシップにより、ハイエンド・フォトリソグラフィシステムを必要とする強い需要を維持しています。中東は半導体セグメントで急成長しているが、ハイテク産業とフリーゾーンへの投資で成長の可能性を示しています。アフリカは新興市場であり、同地域の技術インフラが発展するにつれて、長期的な成長機会がもたらされる可能性があります。アジア太平洋は、特に台湾、韓国、中国、日本などの国々に半導体生産が集中しているため、フォトリソグラフィー装置の需要が大きいです。この地域の需要は、政府の優遇措置、膨大なコンシューマー・エレクトロニクス部門、多数の半導体ファウンドリーの設立によって支えられています。アジア太平洋諸国が半導体の自給自足と高度な製造能力に多額の投資を行っているため、需要の加速は今後も続くと考えられます。
FPNVポジショニングマトリックス
FPNVポジショニングマトリックスはフォトリソグラフィー装置市場の評価において極めて重要です。事業戦略と製品満足度に関連する主要指標を調査し、ベンダーの包括的な評価を記載しています。この綿密な分析により、ユーザーは各自の要件に沿った十分な情報に基づいた意思決定を行うことができます。評価に基づき、ベンダーは成功の度合いが異なる4つの象限に分類されます。フォアフロント(F)、パスファインダー(P)、ニッチ(N)、バイタル(V)です。
市場シェア分析
市場シェア分析は、フォトリソグラフィー装置市場におけるベンダーの現状について、洞察に満ちた詳細な調査を提供する包括的なツールです。全体的な収益、顧客基盤、その他の主要指標についてベンダーの貢献度を綿密に比較・分析することで、企業の業績や市場シェア争いの際に直面する課題について理解を深めることができます。さらに、この分析により、調査対象基準年に観察された累積、断片化の優位性、合併の特徴などの要因を含む、このセグメントの競合特性に関する貴重な考察が得られます。このような詳細レベルの拡大により、ベンダーはより多くの情報に基づいた意思決定を行い、市場で競争優位に立つための効果的な戦略を考案することができます。
1.市場の浸透度:主要企業が提供する市場に関する包括的な情報を提示しています。
2.市場の開拓度:有利な新興市場を深く掘り下げ、成熟市場セグメントにおける浸透度を分析しています。
3.市場の多様化:新製品の発売、未開拓の地域、最近の開発、投資に関する詳細な情報を記載しています。
4.競合の評価と情報:市場シェア、戦略、製品、認証、規制状況、特許状況、主要企業の製造能力などを網羅的に評価します。
5.製品開発とイノベーション:将来の技術、研究開発活動、画期的な製品開発に関する知的洞察を記載しています。
1.フォトリソグラフィー装置市場の市場規模と予測は?
2.フォトリソグラフィー装置市場の予測期間中に投資を検討すべき製品、用途は何か?
3.フォトリソグラフィー装置市場の技術動向と規制枠組みは?
4.フォトリソグラフィー装置市場における主要ベンダーの市場シェアは?
5.フォトリソグラフィー装置市場への参入に適した形態や戦略的手段は?
[185 Pages Report] The Photolithography Equipment Market size was estimated at USD 11.86 billion in 2023 and expected to reach USD 12.92 billion in 2024, at a CAGR 9.55% to reach USD 22.47 billion by 2030.
Photolithography equipment refers to the array of specialized machines and tools used in the photolithography process, which is a critical step in semiconductor device fabrication. This process involves transferring geometric shapes on a mask to the surface of a silicon wafer. The photolithography equipment market comprises the manufacturing, distribution, and sales of machinery used in the photolithography process, an essential step in semiconductor fabrication where patterns are transferred onto a substrate using a light source. Potential demand for photolithography equipment attributed to global semiconductor manufacturing and the rising adoption of smart and miniature electronic devices across sectors are driving market growth. Increasing utilization of photolithography in producing microwells and micropillar arrays is also propelling the need for photolithography equipment. The high deployment cost of photolithography equipment and design limitations and performance issues of photolithography equipment features pose persistent technological challenges that impact equipment efficacy. The increasing need for microfabricated materials in the life sciences industry and the emergence and advancements in organs-on-chip present new opportunities for equipment makers to innovate and provide solutions that cater to this advancing field.
KEY MARKET STATISTICS | |
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Base Year [2023] | USD 11.86 billion |
Estimated Year [2024] | USD 12.92 billion |
Forecast Year [2030] | USD 22.47 billion |
CAGR (%) | 9.55% |
Type: Significant preference for ArF lithography for semiconductor manufacturing
Argon fluoride (ArF) photolithography equipment uses a laser that operates at a wavelength of 193 nm. These systems are designed for deep ultraviolet (DUV) lithography and are typically used in applications requiring 90 to 45 nanometers feature sizes. ArFi, or argon fluoride immersion, lithography equipment is an advanced version of ArF tools. They utilize immersion techniques to increase the resolution further by having a liquid with a higher refractive index between the wafer and the lens. This enables imaging of even smaller features, with an application range for nodes approximately 65 nanometers or below. It is particularly favored when extremely fine patterns are necessary, such as in advanced memory and logic devices. DUV lithography encompasses photolithography systems, including ArF and KrF, that operate within the deep ultraviolet spectrum. These systems are ideal for forming geometries that are 250 nm or smaller. EUV (extreme ultraviolet lithography) represents the cutting-edge class of photolithography equipment using an extremely short wavelength of just 13.5 nm. It enables integrated circuit scaling beyond the limits of DUV lithography by enabling patterning of sub-10 nm features.
I-Line lithography equipment uses a mercury lamp emitting a wavelength of 365 nm. Though it lacks the resolution capabilities of DUV or EUV systems, I-Line is cost-effective for certain applications and is often used for mature semiconductor processes or simpler geometries typically above 350 nanometers. Krypton fluoride (KrF) photolithography tools operate at a wavelength of 248 nm and are suited for patterning features down to roughly 130 to 150 nanometers. KrF systems are chosen for intermediate resolution needs, providing better throughput and cost efficiency than ArF systems when manufacturing circuits with larger feature sizes. In terms of resolution, EUV and ArFi technologies lead the field, offering the smallest feature sizes for the most advanced semiconductor nodes. While EUV has been gaining traction, especially in the 5nm and below nodes, its higher cost and complexity make ArFi the preferred choice for slightly less advanced nodes. DUV technologies, including ArF and KrF, remain critical for less advanced semiconductor processes that still comprise a large portion of the market. Their relatively lower cost and high throughput make them suitable choices for many manufacturers. I-Line, among the oldest of these technologies, is the least costly and is ideal for non-critical layers or larger geometries where top-tier resolution is unnecessary.
End User: Rising use of cutting-edge photolithography equipment for foundries to cater the high volume mainstream production
Foundries, also known as semiconductor fabrication plants or fabs, manufacture silicon wafers, which are then processed into integrated circuits by various clients. These clients often outsource to foundries as they either need more means to produce these wafers themselves or prefer the cost-effectiveness of outsourcing. Integrated device manufacturers (IDM) design, manufacture, and sell semiconductor products under one roof. They have a distinct preference for photolithography equipment that balances performance and cost, as their operations often span high-volume, mature product lines to niche, cutting-edge technologies. The primary difference between foundries and IDMs in terms of photolithography equipment lies in their need for customization and technology leadership. Foundries often demand the latest and greatest to stay competitive for various clients. IDMs, on the other hand, require versatile equipment that can handle a wide range of products, sometimes yielding to matured technology that is more cost-effective and suitable for their in-house, vertically integrated operations.
Regional Insights
The demand for photolithography equipment in the Americas, particularly North America, is driven by well-established semiconductor manufacturers and the presence of tech giants investing in advanced electronics. The region sees consistent investment in research and development, keeping the tech industry's demand for photolithography equipment robust. However, South America's demand is relatively low due to the limited presence of semiconductor fabrication plants and a focus on other industrial sectors. Europe maintains a strong demand aligned with its leadership in automotive, industrial, and advanced manufacturing sectors, necessitating high-end photolithography systems. The Middle East, while burgeoning in the semiconductor sector, shows potential for growth with investments in high-tech industries and free zones. Africa is an emerging market that potentially offers long-term growth opportunities as the technological infrastructure evolves in the region. The Asia-Pacific region has a significant demand for photolithography equipment due to the high concentration of semiconductor production, particularly in countries such as Taiwan, South Korea, China, and Japan. This region's demand is bolstered by government incentives, a vast consumer electronics sector, and the establishment of numerous semiconductor foundries. The accelerated demand is likely to continue as APAC countries invest heavily in semiconductor self-sufficiency and advanced manufacturing capabilities.
FPNV Positioning Matrix
The FPNV Positioning Matrix is pivotal in evaluating the Photolithography Equipment Market. It offers a comprehensive assessment of vendors, examining key metrics related to Business Strategy and Product Satisfaction. This in-depth analysis empowers users to make well-informed decisions aligned with their requirements. Based on the evaluation, the vendors are then categorized into four distinct quadrants representing varying levels of success: Forefront (F), Pathfinder (P), Niche (N), or Vital (V).
Market Share Analysis
The Market Share Analysis is a comprehensive tool that provides an insightful and in-depth examination of the current state of vendors in the Photolithography Equipment Market. By meticulously comparing and analyzing vendor contributions in terms of overall revenue, customer base, and other key metrics, we can offer companies a greater understanding of their performance and the challenges they face when competing for market share. Additionally, this analysis provides valuable insights into the competitive nature of the sector, including factors such as accumulation, fragmentation dominance, and amalgamation traits observed over the base year period studied. With this expanded level of detail, vendors can make more informed decisions and devise effective strategies to gain a competitive edge in the market.
Key Company Profiles
The report delves into recent significant developments in the Photolithography Equipment Market, highlighting leading vendors and their innovative profiles. These include Applied Materials, Inc., ASML Holding N.V., Canon Inc., Carl Zeiss AG, Eulitha AG, EV Group, Holmarc Opto-Mechatronics Ltd., HORIBA Group, JEOL Ltd., KLA Corporation, Lam Research Corporation, Micro Electronics Equipment (Group) Co., Ltd., Neutronix Quintel, Inc., Newport Corporation, Nikon Corporation, NuFlare Technology, Inc., Omega Optical, LLC, Onto Innovation Inc., Osiris International GmbH, Samsung Electronics Co., Ltd., Service Support Specialties, Inc., SUSS MicroTec SE, Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited, and Veeco Instruments Inc..
Market Segmentation & Coverage
1. Market Penetration: It presents comprehensive information on the market provided by key players.
2. Market Development: It delves deep into lucrative emerging markets and analyzes the penetration across mature market segments.
3. Market Diversification: It provides detailed information on new product launches, untapped geographic regions, recent developments, and investments.
4. Competitive Assessment & Intelligence: It conducts an exhaustive assessment of market shares, strategies, products, certifications, regulatory approvals, patent landscape, and manufacturing capabilities of the leading players.
5. Product Development & Innovation: It offers intelligent insights on future technologies, R&D activities, and breakthrough product developments.
1. What is the market size and forecast of the Photolithography Equipment Market?
2. Which products, segments, applications, and areas should one consider investing in over the forecast period in the Photolithography Equipment Market?
3. What are the technology trends and regulatory frameworks in the Photolithography Equipment Market?
4. What is the market share of the leading vendors in the Photolithography Equipment Market?
5. Which modes and strategic moves are suitable for entering the Photolithography Equipment Market?