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市場調査レポート

ナノパターニング (ナノパターン形成)

Nanopatterning

発行 Global Industry Analysts, Inc. 商品コード 341961
出版日 ページ情報 英文 139 Pages
納期: 即日から翌営業日
価格
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ナノパターニング (ナノパターン形成) Nanopatterning
出版日: 2016年05月01日 ページ情報: 英文 139 Pages
概要

当レポートでは、ナノパターニング (ナノパターン形成) 技術の世界市場を取り上げ、ナノインプリントリソグラフィー (熱エンボス加工リソグラフィー、UVナノインプリントリソグラフィー、ソフトリソグラフィー、他) 、走査プローブリソグラフィー、およびその他技術などの技術別分析、ならびに半導体・他マイクロエレクトロニクス、およびその他用途の最終用途別分析を行い、2015年から2022年に至る各年の実績/推定および予測を提供するとともに、主要企業およびニッチ企業35社のプロファイルをまとめています。

第1章 イントロダクション、調査方法、製品定義

  • 調査の信頼性とレポートの制約
  • 免責事項
  • データの解釈とレポート作成レベル
    • 定量技法および分析法
  • 製品の定義と調査範囲
    • ナノインプリントリソグラフィー
    • 走査プローブリソグラフィー
    • その他

第2章 エグゼクティブサマリー

  • 産業概要
    • ナノテクノロジー‐前兆
    • ナノ科学‐従来の大きさの壁を破る
    • ナノテクノロジー市場が勢いを集める
    • ナノパターニング (ナノパターン形成) ‐前置き
    • 市場の展望
  • 市場動向、市場発展促進要因
    • ナノインプリントリソグラフィー (NIL) ‐主導的技術
    • NILはフォトニクスのコスト効率の良い生産を実現
    • 広がる用途が市場成長に貢献
    • NILはナノフォトニクス部門にて応用
    • ソフトUV-NIL‐有望な技術
    • ソフトスタンプを備えたNIL
    • マイクロコンタクトプリンティング‐成長中の市場
    • 3Dナノパターニング‐新たな技法
    • ナノスケールにおける素材パターニング用産業プロセスの開発
    • 電子デバイス‐ナノパターニングの主要な市場
    • 生物医学用途におけるナノパターン形成サーフェス (表面) に対する需要
    • 冠動脈疾患の治療におけるNanoGraft技術の利用
    • 生物学的用途におけるナノパターニングの需要拡大
    • マイクロ流体において勢いを増すナノパターニング
    • ナノオプティクスにおける需要がナノパターニング市場を後押し
    • ナノセンサー‐店舗内における機会
  • ナノパターニング技術
    • ナノテクノロジーを使って実現可能な世界の概観
    • 実現技術‐今必要なもの
    • ナノパターニングのイントロダクション
    • ナノパターニング技術
    • ナノインプリントリソグラフィー
      • 用途
      • 機能
      • メリット
      • 課題
      • NILプロセス‐種類
      • NILの応用分野
      • 熱エンボス加工リソグラフィー
      • 紫外線 (UV) ナノインプリントリソグラフィー
      • ソフトリソグラフィー/マイクロコンタクトプリンティング
      • その他
    • 走査プローブリソグラフィー
      • ディップペンナノリソグラフィー
      • 走査トンネル顕微鏡法
      • 原子間力顕微鏡ベースリソグラフィー
      • 走査プローブコンタクトプリンティング
      • ナノグラフティング
      • 局所陽極酸化
      • 構造的ナノリソグラフィー
    • ナノステンシルリソグラフィー
      • 欠点
      • 潜在的用途
    • その他のナノパターニング技術
    • 主要なエンドユース用途
    • 生物学的用途
    • マイクロ流体
    • 電子デバイス
    • 半導体
      • オプトエレクトロニクス
      • 集積回路
    • ナノオプティクス
    • ナノセンサー
  • 技術開発
  • 研究開発イニシアチブ
  • 製品の発表/革新
  • 最新産業動向
  • 主要な参入企業
    • AMO GmbH (ドイツ)
    • Canadian Photonics Fabrication Centre (Canada)
    • EV Group (オーストリア)
    • IMS Chips (ドイツ)
    • Micro Resist Technology GmbH (ドイツ)
    • Molecular Imprints, Inc. (米国)
    • Nanonex Corp. (米国)
    • NanoOpto Corp. (米国)
    • Nano-Terra, Inc. (米国)
    • NIL Technology ApS (Denmark)
    • NTT Advanced Technology Corporation (日本)
    • Obducat AB (スウェーデン)
    • PROFACTOR GmbH (オーストリア)
    • SET Corporation SA (フランス)
    • Sigma-Aldrich Corp. (米国)
    • SUSS MicroTec AG (ドイツ)
    • SVG Optronics Co., Ltd. (中国)
    • Toppan Photomasks, Inc. (米国)
    • Transfer Devices, Inc. (米国)
    • Vistec Electron Beam GmbH (ドイツ)
  • 世界市場の展望

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目次
Product Code: MCP-1532

This report analyzes the Global market for Nanopatterning in US$ Thousand by the following Technology Types - Nanoimprint Lithography (Hot Embossing Lithography, UV Nanoimprint Lithography, Soft Lithography, & Others), Scanning Probe Lithography, and Others. The Global market is further analyzed by the following End-Use Applications: Semiconductor & Other Microelectronics, and Others. Annual estimates and forecasts are provided for the period 2015 through 2022. Also, a six-year historic analysis is provided for this market. Market data and analytics are derived from primary and secondary research. Company profiles are primarily based on public domain information including company URLs. The report profiles 35 companies including many key and niche players such as -

AMO GmbH
Canadian Photonics Fabrication Centre
EV Group
IMS Chips
Micro Resist Technology GmbH

Table of Contents

I. INTRODUCTION, METHODOLOGY & PRODUCT DEFINITIONS

  • Study Reliability and Reporting Limitations
  • Disclaimers
  • Data Interpretation & Reporting Level
    • Quantitative Techniques & Analytics
  • Product Definitions and Scope of Study
    • Nanoimprint Lithography
      • Hot Embossing
      • UV Nanoimprint Lithography
      • Soft Lithography
      • Others
    • Scanning Probe Nanolithography
    • Others

II. EXECUTIVE SUMMARY

1. INDUSTRY OVERVIEW

  • Nanotechnology - A Curtain Raiser
  • Nanoscience - Breaking Conventional Size Barriers
  • Nanotechnology Market Gathering Momentum
  • Nanopatterning - A Prelude
  • Market Outlook

2. MARKET TRENDS & GROWTH DRIVERS

  • Nanoimprint Lithography (NIL) - The Dominant Technology
  • NIL Enables Cost-Effective Production of Photonics
  • Expanding Applications Benefit Market Growth
  • NIL Find Applications in the Nanophotonics Sector
  • Soft UV-NIL - A Promising Technology
  • NIL with a Soft Stamp
  • Microcontact Printing - A Growing Market
  • 3D Nanopatterning - An Emerging Technique
  • Development of Industrial Processes for Patterning Materials on Nanoscale
  • Electronic Devices - A Major Market for Nanopatterning
  • Demand for Nanopatterned Surfaces in Biomedical Applications
  • Use of NanoGraft Technologies in Treatment of Coronary Artery Disease
  • Growing Demand for Nanopatterning in Biological Applications
  • Nanopatterning Gains Traction in Microfluidics
  • Demand from Nano-optics Boosts Nanopatterning Market
  • Nanosensors - Opportunities in Store

3. NANOPATTERNING TECHNOLOGIES

  • A Peek into the World of Possibilities with Nanotechnology
  • Enabling Technologies - Need of the Hour
  • Introduction to Nanopatterning
  • Nanopatterning Technologies
  • Nanoimprint Lithography
    • Applications
    • Functionalities
    • Advantages of Nanoimprint Lithography
      • Elimination of Residual Coatings
      • Effects of Proximity
      • Unique 3D Patterning Ability
    • Challenges
      • Overlay Capability
      • Defect Management
      • Template Patterning
      • Wearing of Imprint Templates
    • NIL Processes - Types
    • Application Areas for NIL
    • Hot Embossing Lithography
      • Potential Industry Requirements for Hot Embossing Lithography
    • Ultraviolet Nanoimprint Lithography
      • Step-and-Repeat Nanoimprint Lithography
      • Step-and-Stamp Imprint Lithography
      • Step-and-Flash Imprint Lithography
      • Potential Industry Requirements for UV-NIL
    • Soft Lithography / Microcontact Printing
      • Types of Microcontact Printing (mCP)
      • High-Speed mCP
      • Submerged mCP
      • Edge-Transfer Lithography
      • Positive mCP
      • Microdisplacement mCP
      • Applications of Microcontact Printing
      • DNA Patterning
      • Cells Patterning
      • Protein Patterning
      • Micromachining
    • Others
      • Soft-UV NIL
      • Photolithography
      • Historical Background
      • Fundamentals of Photolithography Procedure
      • Combined Nanoimprint and Photolithography
      • Advantages
      • Limitations
  • Scanning Probe Nanolithography
    • Dip-Pen Nanolithography
      • Applications of Dip-Pen Nanolithography
      • Advantages and Disadvantages of Dip-Pen Nanolithography
    • Scanning Tunneling Microscopy
    • Atomic Force Microscope-based Lithography
    • Scanning Probe Contact Printing
    • Nanografting
      • First Method: Nanoshaving
      • Second Method: Nanopen Reader and Writer
      • Third Method: Vesicle Fusion
      • Fourth Method: Meniscus Force Nanografting
      • Fifth Method: Cathodic Electrografting
    • Local Anodic Oxidation
    • Constructive Nanolithography
  • Nanostencil Lithography
    • Drawbacks
    • Potential Applications
  • Other Nanopatterning Technologies
    • Self-Assembled Monolayers
    • Nanopatterning through Phase Separation of Polymers
    • Laser-based Particle Deposition
    • Sputtering
    • Roller Nanoimprint Lithography
  • Select End-Use Applications
  • Biological Applications
  • Microfluidics
  • Electronic Devices
  • Semiconductors
    • Optoelectronics
    • Integrated Circuits
  • Nano-optics
  • Nanosensors

4. TECHNOLOGY DEVELOPMENTS

  • New NIL Technique to Improve Ordering in Periodic Arrays from BCPs
  • NIL Makes Solar Cells with Higher Conversion Efficiency
  • Hair Coloring with Nanopatterning
  • High-Speed Roll-to-Roll Technology for Imprinting
  • Rolith Develops New Nanopatterning Technology
  • ALD - An Enabling Technology in Advanced Nanopatterning
  • Nanopatterned Surfaces for Highly Selective Adhesion, Separation and Sensing
  • Resist-Free Direct Thermal NIL Process
  • 3D Nanoparticle Patterning via Direct Incident Beam Lithography - A Technology to Reckon with
  • Fabrication of Single Crystal Oxide Surface using Focused-Ion-Beam System - A Novel Approach in Nanopatterning
  • Thermal Dip Pen Lithography for Depositing Nanoparticles
  • Nanopatterning Using Phase Separation of Polymers
  • Innovations in Surface Wrinkling Drive the Nanopatterning Market

5. RESEARCH & DEVELOPMENT INITIATIVES

  • The Emerging Nanopatterning Methods (NAPA) Project
  • NILCom
  • International Technology Roadmap for Semiconductors
  • Sematech Nanoimprint Lithography Program

6. PRODUCT LAUNCHES / INNOVATIONS

  • Leti and EVG Unveil INSPIRE Lithography Program
  • EVG Launches New Hercules Lithography System
  • Obducat Unveils Sindre G2 Nano-Imprint Litho System
  • EVG Launches EVG 570R2R Roll-to-Roll NIL Tool
  • EVG Unveils EVG720 Automated UV-NIL System
  • EVG Launches EVG PHABLE(tm) Exposure System

7. RECENT INDUSTRY ACTIVITY

  • DNP to Establish New Nanoimprint-Based Ultra-Micro Machining Business
  • Canon to Develop Next Generation Lithography System
  • Toshiba Partners with SK hynix for NIL Systems
  • SUSS MicroTec Inks with Singh Center for Nanotechnology for NIL
  • Canon Takes Over Molecular Imprints
  • EVG Establishes NILPhotonics Competence Center
  • EV Group Launches New SmartNIL

8. FOCUS ON SELECT PLAYERS

  • AMO GmbH (Germany)
  • Canadian Photonics Fabrication Centre (Canada)
  • EV Group (Austria)
  • IMS Chips (Germany)
  • Micro Resist Technology GmbH (Germany)
  • Molecular Imprints, Inc. (US)
  • Nanonex Corp. (US)
  • NanoOpto Corp. (US)
  • Nano-Terra, Inc. (US)
  • NIL Technology ApS (Denmark)
  • NTT Advanced Technology Corporation (Japan)
  • Obducat AB (Sweden)
  • PROFACTOR GmbH (Austria)
  • SET Corporation SA (France)
  • Sigma-Aldrich Corp. (US)
  • SUSS MicroTec AG (Germany)
  • SVG Optronics Co., Ltd. (China)
  • Toppan Photomasks, Inc. (US)
  • Transfer Devices, Inc. (US)
  • Vistec Electron Beam GmbH (Germany)

9. GLOBAL MARKET PERSPECTIVE

    • Table 1: World Recent Past, Current & Future Analysis for Nanopatterning by Technology Type - Nanoimprint Lithography (Hot Embossing Lithography, UV Nanoimprint Lithography, Soft Lithography, and Others), Scanning Probe Lithography, and Other Technologies Markets Independently Analyzed with Annual Sales in US$ Thousands for Years 2014 through 2020 (includes corresponding Graph/Chart)
    • Table 2: World Historic Review for Nanopatterning by Technology Type - Nanoimprint Lithography (Hot Embossing Lithography, UV Nanoimprint Lithography, Soft Lithography, and Others), Scanning Probe Lithography, and Other Technologies Markets Independently Analyzed with Annual Sales in US$ Thousands for Years 2007 through 2013 (includes corresponding Graph/Chart)
    • Table 3: World 14-Year Perspective for Nanopatterning by Technology Type - Percentage Share Breakdown of Dollar Sales for Nanoimprint Lithography (Hot Embossing Lithography, UV Nanoimprint Lithography, Soft Lithography, and Others), Scanning Probe Lithography, and Other Technologies Markets for Years 2007, 2015, and 2020 (includes corresponding Graph/Chart)
    • Table 4: World Recent Past, Current & Future Analysis for Nanopatterning by End-Use Application - Semiconductor & Other Microelectronics, and Other End-Use Application Markets Independently Analyzed with Annual Sales in US$ Thousands for Years 2014 through 2020 (includes corresponding Graph/Chart)
    • Table 5: World Historic Review for Nanopatterning by End-Use Application - Semiconductor & Other Microelectronics, and Other End-Use Application Markets Independently Analyzed with Annual Sales in US$ Thousands for Years 2007 through 2013 (includes corresponding Graph/Chart)
    • Table 6: World 14-Year Perspective for Nanopatterning by End-Use Application - Percentage Breakdown of Dollar Sales for Semiconductor & Other Microelectronics, and Other End-Use Application Markets for Years 2007, 2015, and 2020 (includes corresponding Graph/Chart)

COMPETITIVE LANDSCAPE

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