化学蒸着の世界市場

世界の化学気相成長（CVD）市場は2030年までに813億米ドルに達する見込み

世界の化学気相成長（CVD）市場は、2024年に507億米ドルと推定されており、2024年から2030年の分析期間においてCAGR 8.2％で成長し、2030年までに813億米ドルに達すると予測されています。本レポートで分析対象となったセグメントの一つであるCVD材料は、8.5%のCAGRを記録し、分析期間終了時までに438億米ドルに達すると予測されています。CVD装置セグメントの成長率は、分析期間において7.7%のCAGRと推定されています。

米国市場は131億米ドルと推定される一方、中国は11.0%のCAGRで成長すると予測されています

米国における化学気相成長（CVD）市場は、2024年に131億米ドルと推定されています。世界第2位の経済大国である中国は、2024年から2030年の分析期間においてCAGR11.0%で推移し、2030年までに180億米ドルの市場規模に達すると予測されています。その他の注目すべき地域市場としては、日本とカナダが挙げられ、それぞれ分析期間中に5.4％、6.5％のCAGRで成長すると予測されています。欧州では、ドイツが約6.2％のCAGRで成長すると予測されています。

世界の化学気相成長（CVD）市場- 主な市場動向と促進要因の概要

化学気相成長（CVD）が先進製造において重要な理由とは？

化学気相成長（CVD）は、半導体、航空宇宙、光学、ナノテクノロジーなどの産業において重要な役割を果たす、先進的製造の基盤技術となりました。では、CVDが現代の生産プロセスにおいてこれほど不可欠である理由は何か？CVDは、基板を一つ以上の揮発性前駆体に曝露し、表面で反応または分解させて高品質な固体材料層を形成する技術です。この手法により、堆積物の厚さ、組成、構造を精密に制御することが可能となり、厳密な仕様が求められる用途において極めて重要です。例えば半導体産業では、集積回路やマイクロエレクトロニクス製造に不可欠なシリコン、タングステン、窒化チタンなどの材料を堆積させるためにCVDが用いられます。極めて均一で純度の高い薄膜を製造できる特性から、CVDは先進的な電子デバイスの製造において最適な手法となっています。さらに、航空宇宙や光学などの産業においても、過酷な環境に曝される工具、レンズ、その他の部品の性能向上のために、耐久性・耐摩耗性に優れたコーティングが求められる場面でCVDは高く評価されています。優れた特性を備えた材料の製造を可能にするCVDは、現代の製造技術が達成できる限界を押し広げる上で不可欠な技術となっています。

CVDが他の成膜技術と異なる点とは？

化学気相成長法（CVD）は、複雑な表面形状に極めて均一でコンフォーマルなコーティングを形成できる点において、他の薄膜成膜技術と一線を画しています。これは代替手法では達成が困難な利点です。では、CVDの具体的な特長は何でしょうか？一つの重要な要素は、成膜可能な材料の幅広さです。物理的蒸着法（PVD）が通常、金属や化合物など限定された材料に制約されるのに対し、CVDは金属、絶縁体、半導体など、より多様な材料の成膜が可能です。この汎用性により、半導体、太陽電池パネル、高度な光学デバイスの製造など、異なる材料特性を必要とする産業に最適です。CVDのもう一つの特徴は、複雑な形状を持つ表面へのコーティング能力です。前駆体が気体であるため、到達困難な領域にも浸透し、均一で安定したコーティングを実現します。これは表面均一性が極めて重要なマイクロエレクトロニクス分野において特に重要です。さらにCVDは、プロセス条件に応じて結晶性および非晶質の薄膜の両方を形成可能であり、特定の性能要件に合わせて材料特性を柔軟に調整できます。スパッタリングや蒸着などの他技術と比較して、CVDは優れた段差被覆性と薄膜均一性を実現でき、高性能用途において極めて重要です。CVDによる生産のスケールアップ能力も大きな利点であり、品質を損なうことなく大規模製造プロセスに統合できます。タービンブレードのコーティング、耐摩耗工具の製造、次世代エレクトロニクスの開発など、CVDの汎用性と精密性は、最高水準の材料性能を要求する産業にとって優れた選択肢となります。

化学気相成長技術はどのように進化しているのでしょうか？

化学気相成長（CVD）の分野は急速に進化しており、技術革新によって効率性、精度、応用範囲の多様性が大幅に向上しています。では、これらの革新はCVDの未来をどのように形作っているのでしょうか？主要な動向の一つは、プラズマ強化化学気相成長法（PECVD）の開発です。これはプラズマを用いて化学反応を促進し、より低い温度での成膜を可能にする技術です。これにより、ポリマーやフレキシブルエレクトロニクスに使用される特定の基板など、温度に敏感な材料のコーティングに新たな可能性が開かれました。PECVDは、微細な表面への高品質コーティングが不可欠なマイクロエレクトロニクスや太陽光発電などの産業において特に重要です。もう一つの技術的進歩は原子層堆積（ALD）です。これは自己制限反応を利用して材料を層ごとに堆積させるCVDの一種で、膜厚や組成をさらに精密に制御できます。ALDは半導体産業において、次世代チップやトランジスタに不可欠な超薄膜の形成にますます活用されています。これらのデバイスでは、最適な性能を発揮するために原子レベルの精度が求められます。さらに、前駆体材料や反応器設計の改良により、CVDの効率性も向上しています。廃棄物削減、成膜速度向上、成膜膜の純度向上を目的とした新前駆体が開発され、プロセスの持続可能性とコスト効率が向上しています。現代のCVDシステムには自動化技術やデジタル監視技術も組み込まれており、成膜パラメータのリアルタイム制御を可能にすることで、製造業者がプロセスを微調整し、効率を最大化できるようになっています。こうした進歩はCVDの応用範囲を拡大するだけでなく、より幅広い産業分野でこの技術を利用しやすくしています。

化学気相成長（CVD）市場の主要な成長要因は何でしょうか？

化学気相成長（CVD）市場の成長は、いくつかの要因によって推進されています。特に顕著なのは、エレクトロニクス、エネルギー、産業分野における先端材料の需要増加と、CVDプロセスの汎用性と効率性を拡大する技術革新です。特に半導体およびマイクロエレクトロニクス分野において、スマートフォンやコンピューター、その他のデジタル機器を駆動するチップ、トランジスタ、その他の部品の製造には、超薄型で高品質な薄膜が不可欠であるため、エレクトロニクス産業は依然として重要な成長要因となっています。小型化・高速化・省エネルギー化が進む電子機器の需要が高まる中、CVDが持つ精密かつ均一な材料成膜能力は、この急成長産業の進化する要求を満たす上で不可欠です。さらに、太陽光発電分野もCVD市場拡大を牽引する重要な領域です。再生可能エネルギーソリューションへの推進により、太陽光を電気に変換するために必要な薄膜コーティングの形成にCVD技術が不可欠な高効率太陽電池の需要が高まっています。原子層堆積法（ALD）やプラズマ強化CVD（PECVD）といったCVD技術の進歩が、市場をさらに牽引しています。これらの革新により、フレキシブルエレクトロニクス、先端光学機器、医療機器など、CVDの精度と汎用性が極めて重要な分野において新たな応用が拓かれています。5G技術の台頭やモノのインターネット（IoT）機器の普及も、高性能電子部品の製造におけるCVD需要に寄与しています。航空宇宙や自動車産業などにおける軽量かつ耐久性の高い材料への傾向は、重要部品の耐摩耗性、熱安定性、および総合的な性能を向上させるためのCVDコーティングの採用を促進しています。消費者の嗜好がより技術的に先進的でエネルギー効率の高い製品へと移行し続ける中、CVDベースのソリューションへの需要はさらに高まり、CVD市場は今後数年間で大幅な成長が見込まれます。

セグメント：

提供内容（材料、装置、サービス）、用途（マイクロエレクトロニクス、データストレージ、太陽光製品、その他の用途）

調査対象企業の例

• Adeka Corporation
• Aixtron SE
• Applied Materials, Inc.
• ASM International NV
• CVD Equipment Corporation
• Denton Vacuum LLC
• IHI Corporation
• Intevac, Inc.
• Lam Research Corporation
• Plasma-Therm, LLC.
• Richter Precision Inc.
• Tokyo Electron Ltd.
• ULVAC, Inc.
• Veeco Instruments Inc.

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目次

第1章 調査手法

第2章 エグゼクティブサマリー

• 市場概要
• 主要企業
• 市場動向と促進要因
• 世界市場の見通し

第3章 市場分析

• 米国
• カナダ
• 日本
• 中国
• 欧州
• フランス
• ドイツ
• イタリア
• 英国
• スペイン
• ロシア
• その他欧州
• アジア太平洋地域
• オーストラリア
• インド
• 韓国
• その他アジア太平洋地域
• ラテンアメリカ
• アルゼンチン
• ブラジル
• メキシコ
• その他ラテンアメリカ
• 中東
• イラン
• イスラエル
• サウジアラビア
• アラブ首長国連邦
• その他中東
• アフリカ

第4章 競合