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市場調査レポート
商品コード
1629930
化学気相成長の世界市場 (カテゴリー別、用途別、地域別):動向分析、競合情勢、将来予測 (2019~2031年)Chemical Vapor Deposition Market, By Category; By Application; By Region, Global Trend Analysis, Competitive Landscape & Forecast, 2019-2031 |
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化学気相成長の世界市場 (カテゴリー別、用途別、地域別):動向分析、競合情勢、将来予測 (2019~2031年) |
出版日: 2024年12月30日
発行: Blueweave Consulting
ページ情報: 英文 490 Pages
納期: 2~3営業日
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世界の化学気相成長 (CVD) の市場規模は、2031年までに510億米ドルを超える
世界の化学気相成長 (CVD:化学蒸着) 市場は、半導体需要の増加や先端コーティングの採用増加により活況を呈しています。
戦略コンサルティングと市場調査の大手企業であるBlueWeave Consultingは、最近の調査で、2024年の世界の化学気相成長 (CVD) の市場規模を320億米ドルと推定しました。2025年から2031年にかけての予測期間中、BlueWeaveは世界の化学気相成長 (CVD) の市場規模がCAGR 7.20%で拡大し、2031年には512億米ドルに達すると予測しています。電子機器製造の拡大に伴う半導体チップの需要急増は、世界の化学気相成長 (CVD) 市場を牽引する主な要因の一つです。消費者の可処分所得が増加するにつれて、電気・電子デバイスの堅調な市場が形成され、半導体製造の必要性が高まり、ひいては化学気相成長 (CVD) 技術の需要が高まります。
機会- 幅広い研究開発プログラム
さまざまな分野で化学気相成長 (CVD) の需要が拡大していることから、官民双方からの研究開発活動への資金援助が期待されています。最近行われた調査では、Nature Communicationsに掲載されたように、重い不活性ガスの共流を加えることによって化学気相成長におけるステップカバレッジ (SC) を改善することに焦点が当てられています。また、ACS Publications誌に掲載された別の研究では、従来の粉末冶金技術に比べて転位密度と部品の内部ひずみが低い超高純度タングステン部品の大規模生産へのCVD法の応用の可能性を探っています。このような研究は、様々な産業において化学気相成長法 (CVD) に有利な成長機会をもたらし、市場全体の成長を促進すると予測されます。
地政学的緊張の高まりが世界の化学気相成長 (CVD) 市場に与える影響
地政学的緊張の激化は、世界の化学気相成長 (CVD) 市場の成長を阻害する可能性があります。軍事的・政治的緊張は、希土類元素のような必須原材料のサプライチェーンの混乱により、CVD装置の生産遅延と価格上昇を引き起こします。また、貿易制限や関税は、半導体産業のような主要なエンドユーザー部門の業務を妨害し、ガス、基板、装置などの必要なコンポーネントの流れに影響を与えます。さらに、政治的な予測不可能性や変動は、特に地政学的リスクが直接存在する地域において、CVDインフラや技術への長期投資を思いとどまらせる可能性があります。
半導体・マイクロエレクトロニクスがCVD世界市場をリード
世界の化学気相成長 (CVD) 市場で最大のシェアを占めているのは、半導体・マイクロエレクトロニクス分野です。CVD法は半導体産業において、基板上に薄い材料膜を製造するために使用されています。このプロセスにより、物体の電気絶縁性を高めるために採用される誘電体層や、エレクトロニクスや太陽光発電の分野で利用される多結晶シリコンといった重要な部品の製造が可能になります。この手順は、トランジスタの動作や性能を向上させるために不可欠であり、半導体・マイクロエレクトロニクス分野でのCVD市場拡大を後押ししています。
アジア太平洋が世界の化学気相成長 (CVD) 市場をリード
アジア太平洋 (APAC) は世界の化学気相成長 (CVD) 市場を独占しています。中国、インド、台湾などのAPAC主要国では、化学気相成長 (CVD) プロセスがソーラーパネル、電子機器、半導体などさまざまな分野で広く採用されています。さらに、同地域のCVD市場は、エネルギー効率と適応性の高さから、高性能LEDの需要増によって予測期間中に牽引されると予想されています。
競合情勢
世界の化学気相成長 (CVD) 市場の主要企業には、CVD Equipment Corporation、東京エレクトロン株式会社、IHI株式会社、Veeco Instruments Inc.、ASM International N.V.、Plasma-Therm LLC、Applied Materials, Inc.、OC Oerlikon Management AG、voestalpine AG、ULVAC Inc.、Aixtron SE、大陽日酸株式会社、LPE、Nuflare Technology Inc.、RIBER、AccuSputtering Ltd.、United Technology &Industrial Solutionsなどがあります。多数の企業が存在することで、大きな市場シェアを獲得しようと競争し、市場競争が激化しています。
これらの企業は、M&A、パートナーシップ、合弁事業、ライセンス契約、新製品投入など、さまざまな戦略を採用し、市場シェアのさらなる拡大を図っています。
当レポートの詳細な分析により、成長の可能性、今後の動向、世界の化学気相成長 (CVD) 市場に関する情報を提供します。また、総市場規模の予測を促進する要因も取り上げています。当レポートは、世界の化学気相成長 (CVD) 市場の最新技術動向や、意思決定者が健全な戦略的意思決定を行えるような業界洞察を提供することをお約束します。さらに、市場の成長促進要因・課題・競争力についても分析しています。
Global Chemical Vapor Deposition (CVD) Market Size Set to Cross USD 51 Billion by 2031
Global Chemical Vapor Deposition (CVD) Market is flourishing because of the increased demand for semiconductors and rising adoption of advanced coatings.
BlueWeave Consulting, a leading strategic consulting and market research firm, in its recent study, estimated Global Chemical Vapor Deposition (CVD) Market size at USD 32 billion in 2024. During the forecast period between 2025 and 2031, BlueWeave expects Global Chemical Vapor Deposition (CVD) Market size to expand at a CAGR of 7.20% reaching a value of USD 51.20 billion by 2031. A spurring demand for semiconductor chips as a result of expanding electronic device manufacturing is one of the main factors driving Global Chemical Vapor Deposition (CVD) Market. As consumers' disposable income rises, a robust market for electrical and electronic devices is created, which increases the need for semiconductor fabrication and, ultimately, the demand for chemical vapor deposition (CVD) technology.
Opportunity - Extensive Research and Development Programs
The expanding demand for chemical vapor deposition (CVD) across various sectors is expected to drive funding for research and development activities from both public and private players. Research conducted recently focused on improving the step coverage (SC) in chemical vapor deposition through the addition of heavy inert gas co-flow, as published in Nature Communications. Another study published in ACS Publications explored the potential application of the CVD method for the large-scale production of ultrahigh-purity tungsten parts with a lower dislocation density and internal strain on parts compared to conventional powder metallurgy techniques. Such research is projected to present lucrative growth opportunities for chemical vapor deposition (CVD) across various industries, driving its overall market growth.
Impact of Escalating Geopolitical Tensions on Global Chemical Vapor Deposition (CVD) Market
Intensifying geopolitical tensions could hinder the growth of Global Chemical Vapor Deposition (CVD) Market. Military and political tensions cause production delays and higher prices for CVD equipment due to supply chain disruptions for essential raw materials like rare earth elements. Trade restrictions or tariffs also obstruct the operations of its main end-user sectors, like the semiconductor industry, and have an impact on the flow of necessary components, such as gases, substrates, and equipment. Furthermore, political unpredictability and volatility may discourage businesses from long-term investments in CVD infrastructure or technology, particularly in areas where geopolitical risks are directly present.
Semiconductor & Microelectronics Lead Global CVD Market
The semiconductor & microelectronics segment holds the largest share of Global Chemical Vapor Deposition (CVD) Market. CVD methods are used in the semiconductor industry to produce thin material films on substrates. This process makes it possible to produce vital parts such dielectric layers, which are employed to increase an object's electrical insulation, and polycrystalline silicon, which is utilized in the electronics and solar photovoltaic sectors. The procedure is crucial for improving transistor behavior and performance, which propels the market expansion for CVD in the semiconductor and microelectronics sector.
Asia Pacific Leads Global Chemical Vapor Deposition (CVD) Market
Asia Pacific (APAC)_ dominates Global Chemical Vapor Deposition (CVD) Market. because of the region's thriving electronic manufacturing industry. In major APAC nations like China, India, and Taiwan, the chemical vapor deposition (CVD) process is extensively employed in a variety of sectors, such as solar panels, electronics, and semiconductors. Additionally, it is anticipated that the region's CVD market would be driven during the forecast period by the rising demand for high-performance LEDs due to their energy efficiency and adaptability.
Competitive Landscape
Major companies in Global Chemical Vapor Deposition (CVD) Market include CVD Equipment Corporation, Tokyo Electron Limited, IHI Corporation, Veeco Instruments Inc., ASM International N.V., Plasma-Therm LLC, Applied Materials, Inc., OC Oerlikon Management AG, voestalpine AG, ULVAC Inc., Aixtron SE, Taiyo Nippon Sanso Corporation, LPE, Nuflare Technology Inc., RIBER, AccuSputtering Ltd, and United Technology & Industrial Solutions. The presence of a high number of companies intensify the market competition as they compete to gain a significant market share.
These companies employ various strategies, including mergers and acquisitions, partnerships, joint ventures, license agreements, and new product launches to further enhance their market share.
The in-depth analysis of the report provides information about growth potential, upcoming trends, and Global Chemical Vapor Deposition (CVD) Market. It also highlights the factors driving forecasts of total market size. The report promises to provide recent technology trends in Global Chemical Vapor Deposition (CVD) Market and industry insights to help decision-makers make sound strategic decisions. Furthermore, the report also analyzes the growth drivers, challenges, and competitive dynamics of the market.
*Financial information of non-listed companies can be provided as per availability.
**The segmentation and the companies are subject to modifications based on in-depth secondary research for the final deliverable.