CMP材料の世界市場2024

化学的機械研磨（CMP）材料市場は著しい成長を遂げ、2022年の37億米ドルからCAGR約8%で2030年には65億米ドルを超えると予測されています。半導体技術の絶え間ない進歩、コンシューマーエレクトロニクスの使用量の増加、エレクトロニクスの小型化という継続的な動向は、すべてCMP材料の需要に寄与しています。

本レポートでは、化学的機械研磨（CMP）用材料の詳細評価として、以下の点を深堀りしています：

製品概要

CMPに使用される主要コンポーネントの定義

• CMPパッド
• CMPスラリー

化学的機械研磨の世界市場概要

CMP材料の現在（2022年）と予測（2030年）の世界市場に関する洞察。市場成長と材料選択に影響を与える主要動向と促進要因の分析を含みます。

材料タイプ別の世界市場セグメンテーション

ポリマー、金属、セラミックなど、使用される主要材料別の世界市場セグメンテーション

研磨除去率、平坦性、均一性などのパラメータに関する顧客の声を含む、材料選択のための主な選択基準または性能パラメータ

競合の概要：

主な競合企業のプロファイルと、 3M, Dow, Merck, Resonac, DuPontなどを含む10社以上の競合状況を分析。

特許の概要：

過去4-5年の主な特許譲渡先による主要特許ファミリーの分析。また、特許の調査対象、検討中の材料、関連用途に関する洞察も含まれます。

市場展望

広範な2次調査と1次調査による検証に裏打ちされた本レポートは、市場の見通しとそれに影響を与える要因についても信頼できる見解を示しています。

目次

第1章 イントロダクション

• レポートの概要
• 製品フォーカス
• 調査手法

第2章 プロセス概要

• 薄膜成形
• フォトリソグラフィー
• エッチング
• ドーピング
• CMP
• ダイシング
• ワイヤーボンディング
• パッケージング

第3章 バリューチェーンの概要

第4章 市場概要

第5章 詳細市場評価

• CMP材料（スラリー＆パッド）

第5章 特許概要

第6章 市場展望

第7章 市場展望付録

List of Tables

• Table 4.1: Global Semiconductor Materials Market - By Material Type
• Table 4.2: Global Semiconductor Materials Market - Key Competitors
• Table 5.1.1: Global CMP Materials Market - By Material Type
• Table 5.1.2: Manufacturers v/s Component and Material Used - CMP Materials
• Table 6.1: Patent Publications by Geography - CMP Slurries
• Table 6.2: Patent Listing - CMP Slurries
• Table 6.3: Patent Publications by Geography - CMP Polishing Pad
• Table 6.4: Patent Listing - CMP Polishing Pad

List of Figures

• Chart 4.1: Global Semiconductor Materials Market
• Chart 4.2: Global Semiconductor Materials Market - By Material Type
• Chart 4.3: Global Semiconductor Materials Market - By Component
• Chart 5.1.1: Global CMP Materials Market
• Chart 5.1.2: Global CMP Materials Market, By Material
• Chart 6.1: Patent Publication Trend - CMP Slurries
• Chart 6.2: Patent Publication Trend - CMP Polishing Pads

The Chemical Mechanical Planarization (CMP) materials market is poised for remarkable growth, projected to surpass USD 6.5 billion by 2030, with a compelling CAGR of approximately 8% from a value of USD 3.7 billion in 2022. The continuous progress of semiconductor technology, the increase in consumer electronics usage, and the ongoing trend of electronics miniaturization are all contributing to the demand for CMP materials.

This report provides a deep dive into the following points in this detailed assessment of materials for Chemical Mechanical Planarization:

Product Overview

Defining the major components used in CMP:

• CMP Pads
• CMP Slurries

Global Chemical Mechanical Planarization Market Overview

Insight on current (2022) and forecasted (2030) global market for CMP materials including an analysis of the key trends and drivers impacting market growth and choice of materials.

Global market segmentation by material type

Global market segmentation by key materials used ; Polymers, Metals, Ceramics, etc.

Key Selection criteria or Performance Parameters for material selection including the voice of the customer on parameters such as Polishing and Removal rate, Planarity, and Uniformity

Competition overview:

Key competitor profiles and analyzing the competitor landscape of 10+ companies including 3M, Dow, Merck, Resonac, DuPont, etc.

Patent overview:

Analyzing key patent families by major assignees in the last 4-5 years. The report also includes insights on the research focus of the patents, materials under consideration and the associated applications.

Market Outlook

Backed by extensive secondary research and validation through primary research, this report also presents a reliable view of the market outlook and factors influencing the same.

Table of Contents

1. Introduction

• 1.1 Report Overview
• 1.2 Product Focus
• 1.3 Methodology

2. Process Overview

• 2.1 Thin Film Molding
• 2.2 Photolithography
• 2.3 Etching
• 2.4 Doping
• 2.5 CMP
• 2.6 Dicing
• 2.7 Wire Bonding
• 2.8 Packaging

3. Value Chain Overview

4. Market Overview

5. Detailed Market Assessment

• 5.1 Materials for CMP (Slurries & pads)

5. Patent Overview

6. Market Outlook

7. Annexure