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市場調査レポート
商品コード
1542523

High-kおよびCVD ALD金属前駆体の世界市場調査レポート：産業分析、規模、シェア、成長、動向、2024年から2032年までの予測

Global High-k And CVD ALD Metal Precursors Market Research Report - Industry Analysis, Size, Share, Growth, Trends and Forecast 2024 to 2032

出版日
ページ情報
英文 123 Pages
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即日から翌営業日
カスタマイズ可能
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本日の銀行送金レート: 1USD=144.06円
High-kおよびCVD ALD金属前駆体の世界市場調査レポート：産業分析、規模、シェア、成長、動向、2024年から2032年までの予測
出版日: 2024年07月01日
発行: Value Market Research
ページ情報: 英文 123 Pages
納期: 即日から翌営業日
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  • 目次
概要

High-kおよびCVD ALD金属前駆体市場の世界需要は、調査期間2024-2032年にCAGR 6.98%で、2023年の5億8,433万米ドルから2032年にはほぼ10億7,246万米ドルの市場規模に達すると推定されます。

High-kおよびCVD/ALD金属前駆体は、半導体産業におけるトランジスタ、メモリセル、キャパシタなどの半導体デバイスの製造に使用されます。高誘電率材料は、電荷を蓄える能力の尺度である誘電率（k）が高い誘電体材料です。High-k材料は、消費電力を削減し、処理速度を高め、デバイスの性能を向上させるために、先端半導体デバイスの製造に使用されています。CVD（Chemical Vapor Deposition）とALD（Atomic Layer Deposition）は、半導体産業で基板上に金属または金属酸化物の薄膜を堆積させるために使用される2つの一般的な技術です。CVDは、気相の前駆体が基板表面で反応して固体膜を形成するプロセスであり、ALDは、基板表面に前駆体のパルスを交互に照射して材料の薄膜を堆積させる技術です。CVD/ALDプロセスでは、金属膜の成膜や半導体デバイスの金属コンタクトの形成に金属前駆体が使用されます。これらの前駆体は一般的に有機金属化合物であり、気化して基板表面に運ばれ、そこで反応して所望の金属または金属酸化物膜を形成します。high-kおよびCVD/ALD金属前駆体の例としては、テトラキス（エチルメチルアミノ）ハフニウム（TEMAHf）およびテトラキス（エチルメチルアミノ）ジルコニウム（TEMAZr）などのハフニウムおよびジルコニウム前駆体、ならびにテトラキス（ジメチルアミド）チタン（TDMAT）などのチタン前駆体が挙げられます。これらの前駆体は先端半導体デバイスの製造に不可欠な成分であり、その品質と純度は高いデバイス性能と歩留まりを達成するために重要です。

市場力学

ロジック・チップやメモリー・チップのような高性能で低消費電力の半導体デバイスに対する需要の増加が、High-kおよびCVD/ALD金属前駆体市場の成長を牽引しています。これらの材料は、複雑な構造、高集積密度、低消費電力を必要とする先端デバイスの製造に不可欠です。5G、人工知能（AI）、モノのインターネット（IoT）の開発など、半導体技術の進歩が続いていることが、High-kおよびCVD/ALD金属前駆体の需要を促進しています。これらのマテリアルハンドリングは、より高いデータレートと処理能力を扱うことができる、より高度で複雑な半導体デバイスの開発を可能にします。半導体産業は競争が激しく、各社は新しく改良された半導体デバイスを開発するために研究開発に多額の投資を行っています。High-kおよびCVD/ALD金属前駆体は、これらのデバイスの開発に不可欠な材料であり、研究開発への投資の増加がこれらの材料の需要を牽引しています。新興国における家電需要の高まりは、High-kおよびCVD/ALD金属前駆体市場の需要を拡大しています。可処分所得の増加と新興経済圏におけるこれらのデバイスの普及率の増加が、今後数年間、これらの材料の需要を牽引すると予想されます。半導体産業は厳しい環境規制の対象であり、企業は環境フットプリントの削減を迫られています。High-kおよびCVD/ALD金属前駆体は、有毒または有害な化学物質を含む有機金属前駆体のような従来の成膜材料に比べて環境に優しいと考えられています。

調査レポートは、ポーターのファイブフォースモデル、市場の魅力分析、バリューチェーン分析をカバーしています。これらのツールは、業界の構造を明確に把握し、世界レベルでの競合の魅力を評価するのに役立ちます。さらに、これらのツールは、High-kおよびCVD ALD金属前駆体の世界市場における各セグメントを包括的に評価することもできます。High-k And CVD ALD金属前駆体産業の成長と動向は、この調査に全体的なアプローチを提供します。

市場セグメンテーション

High-k And CVD ALD金属前駆体市場レポートのこのセクションでは、国別および地域別のセグメントに関する詳細なデータを提供し、それによって戦略家がそれぞれの製品またはサービスのターゲット層を特定する上で、今後の機会を支援します。

技術別

  • 相互接続
  • キャパシタ
  • ゲート

地域別分析

このセクションでは、北米、欧州、アジア太平洋、ラテンアメリカ、中東＆アフリカにおけるHigh-kおよびCVD ALD金属前駆体市場の現在および将来の需要を強調する地域展望をカバーしています。さらに、本レポートでは、著名な全地域における個々のアプリケーションセグメントの需要・推定・予測に焦点を当てています。

ご要望がございましたら、弊社までご連絡ください。当社の調査チームは、お客様のニーズに応じてカスタマイズしたレポートを提供することができます。

目次

第1章 序文

第2章 エグゼクティブサマリー

  • 市場のハイライト
  • 世界市場スナップショット

第3章 High-KおよびCVD ALD金属前駆体- 産業分析

  • イントロダクション-市場力学
  • 市場促進要因
  • 市場抑制要因
  • 市場機会
  • 業界動向
  • ポーターのファイブフォース分析
  • 市場の魅力分析

第4章 バリューチェーン分析

  • バリューチェーン分析
  • 原材料分析
    • 原材料リスト
    • 原材料メーカーリスト
    • 主要原材料の価格動向
  • 潜在的バイヤーのリスト
  • マーケティングチャネル
    • ダイレクトマーケティング
    • インダイレクトマーケティング
    • マーケティングチャネル発展動向

第5章 High-KおよびCVD ALD金属前駆体の世界市場分析：技術別

  • 技術別概要
  • 技術別の実績データと予測データ分析
  • インターコネクト
  • キャパシタ
  • ゲート

第6章 High-KおよびCVD ALD金属前駆体の世界市場分析：地域別

  • 地域別展望
  • イントロダクション
  • 北米売上分析
    • 概要、実績と予測
    • 北米：セグメント別
    • 北米国別
    • 米国
    • カナダ
    • メキシコ
  • 欧州売上分析
    • 概要、実績と予測
    • 欧州セグメント別
    • 欧州国別
    • 英国
    • フランス
    • ドイツ
    • イタリア
    • ロシア
    • その他欧州
  • アジア太平洋売上分析
    • 概要、実績と予測
    • アジア太平洋セグメント別
    • アジア太平洋国別
    • 中国
    • インド
    • 日本
    • 韓国
    • オーストラリア
    • 東南アジア
    • その他アジア太平洋
  • ラテンアメリカ売上分析
    • 概要、実績と予測
    • ラテンアメリカセグメント別
    • ラテンアメリカ国別
    • ブラジル
    • アルゼンチン
    • ペルー
    • チリ
    • その他ラテンアメリカ
  • 中東・アフリカ売上分析
    • 概要、実績と予測
    • 中東・アフリカセグメント別
    • 中東・アフリカ国別一覧
    • サウジアラビア
    • アラブ首長国連邦
    • イスラエル
    • 南アフリカ
    • その他中東とアフリカ

第7章 High-kおよびCVD ALD金属前駆体企業の競合情勢

  • High-kおよびCVD ALD金属前駆体市場競争
  • パートナーシップ/提携/協定
  • 合併・買収
  • 新製品発表
  • その他の開発

第8章 企業プロファイル

  • 上位企業の市場シェア分析
  • 市場集中度
  • Air Liquide
  • Air Products & Chemicals Inc.
  • Praxair
  • Linde
  • Dow Chemical
  • Tri Chemical Laboratories Inc.
  • Samsung
  • Strem Chemicals Inc.
  • Colnatec
  • Merck KGAA
図表

LIST OF TABLES

  • Market Snapshot
  • Drivers: Impact Analysis
  • Restraints: Impact Analysis
  • List of Raw Material
  • List of Raw Material Manufactures
  • Analysis By Technology (USD MN)
  • Interconnect Market Sales By Geography (USD MN)
  • Capacitors Market Sales By Geography (USD MN)
  • Gates Market Sales By Geography (USD MN)
  • Global High-k And CVD ALD Metal Precursors Market Sales By Geography (USD MN)
  • North America Market Analysis (USD MN)
  • United States Market Analysis (USD MN)
  • Canada Market Analysis (USD MN)
  • Mexico Market Analysis (USD MN)
  • Europe Market Analysis (USD MN)
  • Europe Market Estimate By Country (USD MN)
  • United Kingdom Market Analysis (USD MN)
  • France Market Analysis (USD MN)
  • Germany Market Analysis (USD MN)
  • Italy Market Analysis (USD MN)
  • Russia Market Analysis (USD MN)
  • Spain Market Analysis (USD MN)
  • Rest of Europe Market Analysis (USD MN)
  • Asia Pacific Market Analysis (USD MN)
  • China Market Analysis (USD MN)
  • Japan Market Analysis (USD MN)
  • India Market Analysis (USD MN)
  • South Korea Market Analysis (USD MN)
  • Australia Market Analysis (USD MN)
  • South East Asia Market Analysis (USD MN)
  • Rest of Asia Pacific Market Analysis (USD MN)
  • Latin America Market Analysis (USD MN)
  • Brazil Market Analysis (USD MN)
  • Argentina Market Analysis (USD MN)
  • Peru Market Analysis (USD MN)
  • Chile Market Analysis (USD MN)
  • Rest of Latin America Market Analysis (USD MN)
  • Middle East & Africa Market Analysis (USD MN)
  • Saudi Arabia Market Analysis (USD MN)
  • UAE Market Analysis (USD MN)
  • Israel Market Analysis (USD MN)
  • South Africa Market Analysis (USD MN)
  • Rest of Middle East and Africa Market Analysis (USD MN)
  • Partnership/Collaboration/Agreement
  • Mergers And Acquisition

LIST OF FIGURES

  • Research Scope of High-k And CVD ALD Metal Precursors Report
  • Market Research Process
  • Market Research Methodology
  • Global High-k And CVD ALD Metal Precursors Market Size, By Region (USD MN)
  • Porters Five Forces Analysis
  • Market Attractiveness Analysis By Technology
  • Market Attractiveness Analysis By Region
  • Value Chain Analysis
  • Global Market Analysis By Technology (USD MN)
  • Interconnect Market Sales By Geography (USD MN)
  • Capacitors Market Sales By Geography (USD MN)
  • Gates Market Sales By Geography (USD MN)
  • Global Market Sales (USD MN)
  • North America Market Sales (USD MN)
  • Europe Market Sales (USD MN)
  • Asia Pacific Market Sales (USD MN)
  • Latin America Market Sales (USD MN)
  • Middle East & Africa Market Sales (USD MN)
  • Recent Development in Industry
  • Top Company Market Share Analysis

Kindly note that the above listed are the basic tables and figures of the report and are not limited to the TOC.

目次
Product Code: VMR112110657

The global demand for High-k And CVD ALD Metal Precursors Market is presumed to reach the market size of nearly USD 1072.46 Million by 2032 from USD 584.33 Million in 2023 with a CAGR of 6.98% under the study period 2024-2032.

High-k and CVD/ALD metal precursors are used in the fabrication of semiconductor devices, such as transistors, memory cells, and capacitors, in the semiconductor industry. High-k materials are dielectric materials with a high dielectric constant (k), which is a measure of their ability to store electric charge. High-k materials are used in the fabrication of advanced semiconductor devices to reduce power consumption, increase processing speed, and improve the performance of the devices. CVD (Chemical Vapor Deposition) and ALD (Atomic Layer Deposition) are two common techniques used for depositing thin films of metal or metal oxide on a substrate in the semiconductor industry. CVD is a process where a gas phase precursor reacts on the substrate surface to form a solid film, while ALD is a technique that deposits a thin film of a material by exposing the substrate surface to alternating pulses of precursors. Metal precursors are used in CVD/ALD processes to deposit metallic films and to create metallic contacts in semiconductor devices. These precursors are typically metal-organic compounds that can be vaporized and transported to the substrate surface where they react to form the desired metal or metal oxide film. Examples of high-k and CVD/ALD metal precursors include hafnium and zirconium precursors, such as tetrakis(ethylmethylamino)hafnium (TEMAHf) and tetrakis(ethylmethylamino)zirconium (TEMAZr), and titanium precursors such as tetrakis(dimethylamido)titanium (TDMAT). These precursors are critical components in the manufacturing of advanced semiconductor devices, and their quality and purity are important for achieving high device performance and yield.

MARKET DYNAMICS

The increasing demand for high-performance and low-power semiconductor devices, such as logic and memory chips, is driving the High-k and CVD/ALD Metal Precursors market growth. These materials are critical for the fabrication of advanced devices that require complex structures, high integration density, and reduced power consumption. The ongoing advancements in semiconductor technology, such as the development of 5G, artificial intelligence (AI), and the Internet of Things (IoT), are driving the High-k and CVD/ALD Metal Precursors demand. These materials enable the development of more advanced and complex semiconductor devices that can handle higher data rates and processing power. The semiconductor industry is highly competitive, and companies are investing heavily in R&D to develop new and improved semiconductor devices. High-k and CVD/ALD Metal Precursors are essential materials in the development of these devices, and the increasing investment in R&D is driving the demand for these materials. The growing demand for consumer electronics in emerging economies is scaling up the High-k and CVD/ALD Metal Precursors market demand. The rising disposable income and increasing penetration of these devices in emerging economies are expected to drive the demand for these materials in the coming years. The semiconductor industry is subject to stringent environmental regulations, and companies are under pressure to reduce their environmental footprint. High-k and CVD/ALD Metal Precursors are considered environmentally friendly compared to traditional deposition materials, such as metal-organic precursors, which contain toxic or hazardous chemicals.

The research report covers Porter's Five Forces Model, Market Attractiveness Analysis, and Value Chain analysis. These tools help to get a clear picture of the industry's structure and evaluate the competition attractiveness at a global level. Additionally, these tools also give an inclusive assessment of each segment in the global market of High-k And CVD ALD Metal Precursors. The growth and trends of High-k And CVD ALD Metal Precursors industry provide a holistic approach to this study.

MARKET SEGMENTATION

This section of the High-k And CVD ALD Metal Precursors market report provides detailed data on the segments at country and regional level, thereby assisting the strategist in identifying the target demographics for the respective product or services with the upcoming opportunities.

By Technology

  • Interconnect
  • Capacitors
  • Gates

REGIONAL ANALYSIS

This section covers the regional outlook, which accentuates current and future demand for the High-k And CVD ALD Metal Precursors market across North America, Europe, Asia-Pacific, Latin America, and Middle East & Africa. Further, the report focuses on demand, estimation, and forecast for individual application segments across all the prominent regions.

The research report also covers the comprehensive profiles of the key players in the market and an in-depth view of the competitive landscape worldwide. The major players in the High-k And CVD ALD Metal Precursors market include Air Liquide, Air Products & Chemicals Inc., Praxair, Linde, Dow Chemical, Tri Chemical Laboratories Inc., Samsung, Strem Chemicals Inc., Colnatec, Merck KGAA. This section consists of a holistic view of the competitive landscape that includes various strategic developments such as key mergers & acquisitions, future capacities, partnerships, financial overviews, collaborations, new product developments, new product launches, and other developments.

In case you have any custom requirements, do write to us. Our research team can offer a customized report as per your need.

TABLE OF CONTENTS

1. PREFACE

  • 1.1. Report Description
    • 1.1.1 Objective
    • 1.1.2 Target Audience
    • 1.1.3 Unique Selling Proposition (USP) & offerings
  • 1.2. Research Scope
  • 1.3. Research Methodology
    • 1.3.1 Market Research Process
    • 1.3.2 Market Research Methodology

2. EXECUTIVE SUMMARY

  • 2.1. Highlights of Market
  • 2.2. Global Market Snapshot

3. HIGH-K AND CVD ALD METAL PRECURSORS - INDUSTRY ANALYSIS

  • 3.1. Introduction - Market Dynamics
  • 3.2. Market Drivers
  • 3.3. Market Restraints
  • 3.4. Opportunities
  • 3.5. Industry Trends
  • 3.6. Porter's Five Force Analysis
  • 3.7. Market Attractiveness Analysis
    • 3.7.1 Market Attractiveness Analysis By Technology
    • 3.7.2 Market Attractiveness Analysis By Region

4. VALUE CHAIN ANALYSIS

  • 4.1. Value Chain Analysis
  • 4.2. Raw Material Analysis
    • 4.2.1 List of Raw Materials
    • 4.2.2 Raw Material Manufactures List
    • 4.2.3 Price Trend of Key Raw Materials
  • 4.3. List of Potential Buyers
  • 4.4. Marketing Channel
    • 4.4.1 Direct Marketing
    • 4.4.2 Indirect Marketing
    • 4.4.3 Marketing Channel Development Trend

5. GLOBAL HIGH-K AND CVD ALD METAL PRECURSORS MARKET ANALYSIS BY TECHNOLOGY

  • 5.1. Overview By Technology
  • 5.2. Historical and Forecast Data Analysis By Technology
  • 5.3. Interconnect Historic and Forecast Sales By Regions
  • 5.4. Capacitors Historic and Forecast Sales By Regions
  • 5.5. Gates Historic and Forecast Sales By Regions

6. GLOBAL HIGH-K AND CVD ALD METAL PRECURSORS MARKET ANALYSIS BY GEOGRAPHY

  • 6.1. Regional Outlook
  • 6.2. Introduction
  • 6.3. North America Sales Analysis
    • 6.3.1 Overview, Historic and Forecast Data Sales Analysis
    • 6.3.2 North America By Segment Sales Analysis
    • 6.3.3 North America By Country Sales Analysis
    • 6.3.4 United States Sales Analysis
    • 6.3.5 Canada Sales Analysis
    • 6.3.6 Mexico Sales Analysis
  • 6.4. Europe Sales Analysis
    • 6.4.1 Overview, Historic and Forecast Data Sales Analysis
    • 6.4.2 Europe By Segment Sales Analysis
    • 6.4.3 Europe By Country Sales Analysis
    • 6.4.4 United Kingdom Sales Analysis
    • 6.4.5 France Sales Analysis
    • 6.4.6 Germany Sales Analysis
    • 6.4.7 Italy Sales Analysis
    • 6.4.8 Russia Sales Analysis
    • 6.4.9 Rest Of Europe Sales Analysis
  • 6.5. Asia Pacific Sales Analysis
    • 6.5.1 Overview, Historic and Forecast Data Sales Analysis
    • 6.5.2 Asia Pacific By Segment Sales Analysis
    • 6.5.3 Asia Pacific By Country Sales Analysis
    • 6.5.4 China Sales Analysis
    • 6.5.5 India Sales Analysis
    • 6.5.6 Japan Sales Analysis
    • 6.5.7 South Korea Sales Analysis
    • 6.5.8 Australia Sales Analysis
    • 6.5.9 South East Asia Sales Analysis
    • 6.5.10 Rest Of Asia Pacific Sales Analysis
  • 6.6. Latin America Sales Analysis
    • 6.6.1 Overview, Historic and Forecast Data Sales Analysis
    • 6.6.2 Latin America By Segment Sales Analysis
    • 6.6.3 Latin America By Country Sales Analysis
    • 6.6.4 Brazil Sales Analysis
    • 6.6.5 Argentina Sales Analysis
    • 6.6.6 Peru Sales Analysis
    • 6.6.7 Chile Sales Analysis
    • 6.6.8 Rest of Latin America Sales Analysis
  • 6.7. Middle East & Africa Sales Analysis
    • 6.7.1 Overview, Historic and Forecast Data Sales Analysis
    • 6.7.2 Middle East & Africa By Segment Sales Analysis
    • 6.7.3 Middle East & Africa By Country Sales Analysis
    • 6.7.4 Saudi Arabia Sales Analysis
    • 6.7.5 UAE Sales Analysis
    • 6.7.6 Israel Sales Analysis
    • 6.7.7 South Africa Sales Analysis
    • 6.7.8 Rest Of Middle East And Africa Sales Analysis

7. COMPETITIVE LANDSCAPE OF THE HIGH-K AND CVD ALD METAL PRECURSORS COMPANIES

  • 7.1. High-k And CVD ALD Metal Precursors Market Competition
  • 7.2. Partnership/Collaboration/Agreement
  • 7.3. Merger And Acquisitions
  • 7.4. New Product Launch
  • 7.5. Other Developments

8. COMPANY PROFILES OF HIGH-K AND CVD ALD METAL PRECURSORS INDUSTRY

  • 8.1. Top Companies Market Share Analysis
  • 8.2. Market Concentration Rate
  • 8.3. Air Liquide
    • 8.3.1 Company Overview
    • 8.3.2 Company Revenue
    • 8.3.3 Products
    • 8.3.4 Recent Developments
  • 8.4. Air Products & Chemicals Inc.
    • 8.4.1 Company Overview
    • 8.4.2 Company Revenue
    • 8.4.3 Products
    • 8.4.4 Recent Developments
  • 8.5. Praxair
    • 8.5.1 Company Overview
    • 8.5.2 Company Revenue
    • 8.5.3 Products
    • 8.5.4 Recent Developments
  • 8.6. Linde
    • 8.6.1 Company Overview
    • 8.6.2 Company Revenue
    • 8.6.3 Products
    • 8.6.4 Recent Developments
  • 8.7. Dow Chemical
    • 8.7.1 Company Overview
    • 8.7.2 Company Revenue
    • 8.7.3 Products
    • 8.7.4 Recent Developments
  • 8.8. Tri Chemical Laboratories Inc.
    • 8.8.1 Company Overview
    • 8.8.2 Company Revenue
    • 8.8.3 Products
    • 8.8.4 Recent Developments
  • 8.9. Samsung
    • 8.9.1 Company Overview
    • 8.9.2 Company Revenue
    • 8.9.3 Products
    • 8.9.4 Recent Developments
  • 8.10. Strem Chemicals Inc.
    • 8.10.1 Company Overview
    • 8.10.2 Company Revenue
    • 8.10.3 Products
    • 8.10.4 Recent Developments
  • 8.11. Colnatec
    • 8.11.1 Company Overview
    • 8.11.2 Company Revenue
    • 8.11.3 Products
    • 8.11.4 Recent Developments
  • 8.12. Merck KGAA
    • 8.12.1 Company Overview
    • 8.12.2 Company Revenue
    • 8.12.3 Products
    • 8.12.4 Recent Developments

Note - In company profiling, financial details and recent developments are subject to availability or might not be covered in the case of private companies