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市場調査レポート
商品コード
1921495
化学機械的平坦化（CMP）の世界市場レポート2026年Chemical Mechanical Planarization Global Market Report 2026 |
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カスタマイズ可能
適宜更新あり
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| 化学機械的平坦化（CMP）の世界市場レポート2026年 |
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出版日: 2026年01月22日
発行: The Business Research Company
ページ情報: 英文 250 Pages
納期: 2～10営業日
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概要
化学機械的平坦化（CMP）市場の規模は、近年著しい成長を見せております。2025年の48億9,000万米ドルから、2026年には52億4,000万米ドルへと、CAGR 7.1％で拡大する見込みです。過去数年間の成長は、半導体製造プロセスの微細化に伴う平坦化ニーズの拡大、IC製造の成長、研磨パッドおよびスラリーの使用増加、MEMS生産におけるCMPの採用、ウエハー表面均一性に対する需要の高まりなどが要因です。
化学機械的平坦化（CMP）市場の規模は、今後数年間で力強い成長が見込まれます。2030年には68億9,000万米ドルに達し、CAGRは7.1％となる見込みです。予測期間における成長要因としては、先進プロセスノードの拡大、次世代CMP消耗品の開発、化合物半導体製造の拡大、高精度平坦化への需要増加、CMP装置における自動化の進展などが挙げられます。予測期間における主な動向としては、インテリジェントCMPプロセス制御システムの統合、デジタル化されたCMPモニタリングプラットフォームの進歩、AI駆動による平坦化最適化の採用、持続可能なCMP消耗品の開発、IoT対応設備診断の拡大などが挙げられます。
スマートフォンの急激な普及が、化学機械的平坦化（CMP）市場の成長を牽引する見込みです。プラスチックなどの柔軟な素材から製造される有機EL（OLED）ディスプレイを搭載したスマートフォンは、製造工程において材料除去、地形平坦化、デバイス構造形成のために化学機械的平坦化技術を活用しています。Uswitch Limitedが2023年2月に発表した報告書では、2025年までに英国の人口の95％（推定6,830万人）がスマートフォンを所有すると予測されています。このスマートフォンの普及が、化学機械平坦化市場の成長を牽引する主要な要因となっております。
製品革新は、化学機械的平坦化市場において勢いを増している重要な動向です。この分野の主要企業は、市場での地位を強化するため、技術進歩と新製品開発に注力しています。例えば、2023年12月には、米国に本拠を置く材料科学企業であるダウ社が、2つの新しい苛性ソーダ製品「Caustic DEC」および「TRACELIGHT DEC」を発表しました。これらの製品は、高品質な化学ソリューションに対する業界の需要増大に応えるべく開発されました。苛性ソーダは、水処理、化学製品製造、エネルギー生成など、様々な用途で広く使用されています。ダウ社は、この新製品発表を通じて、効率的で持続可能なソリューションに対する市場の需要を満たすことを目指しています。
よくあるご質問
目次
第1章 エグゼクティブサマリー
第2章 市場の特徴
- 市場定義と範囲
- 市場セグメンテーション
- 主要製品・サービスの概要
- 世界の化学機械的平坦化（CMP）市場：魅力度スコアと分析
- 成長可能性分析、競合評価、戦略適合性評価、リスクプロファイル評価
第3章 市場サプライチェーン分析
- サプライチェーンとエコシステムの概要
- 一覧：主要原材料・資源・供給業者
- 一覧：主要な流通業者、チャネルパートナー
- 一覧：主要エンドユーザー
第4章 世界の市場動向と戦略
- 主要技術と将来動向
- インダストリー4.0とインテリジェント製造
- デジタル化、クラウド、ビッグデータ及びサイバーセキュリティ
- 人工知能（AI）と自律知能
- サステナビリティ、気候技術、循環型経済
- モノのインターネット（IoT）、スマートインフラストラクチャ、および接続されたエコシステム
- 主要動向
- インテリジェントCMPプロセス制御システムの統合
- デジタル化されたCMPモニタリングプラットフォームの進化
- AI駆動型平坦化最適化の採用
- 持続可能なCMP消耗品の開発
- IoTを活用した設備診断の拡大
第5章 最終用途産業の市場分析
- 半導体メーカー
- MEMSメーカー
- IC製造施設
- 化合物半導体ファウンダリ
- 光学部品メーカー
第6章 市場：金利、インフレ、地政学、貿易戦争と関税の影響、関税戦争と貿易保護主義によるサプライチェーンへの影響、コロナ禍が市場に与える影響を含むマクロ経済シナリオ
第7章 世界の戦略分析フレームワーク、現在の市場規模、市場比較および成長率分析
- 世界の化学機械的平坦化（CMP）市場：PESTEL分析（政治、社会、技術、環境、法的要因、促進要因と抑制要因）
- 世界の化学機械的平坦化（CMP）市場規模、比較、成長率分析
- 世界の化学機械的平坦化（CMP）市場の実績：規模と成長, 2020-2025
- 世界の化学機械的平坦化（CMP）市場の予測：規模と成長, 2025-2030, 2035F
第8章 市場における世界の総潜在市場規模（TAM）
第9章 市場セグメンテーション
- タイプ別
- CMP消耗品、CMP装置
- 技術別
- 最先端技術、モア・ザン・ムーア、新興技術
- 用途別
- 集積回路、MEMSおよびNEMS、化合物半導体、光学
- CMP消耗品のサブセグメンテーション、タイプ別
- 研磨パッド、スラリー、洗浄薬品
- CMP装置のサブセグメンテーション、タイプ別
- CMPシステム、薬液供給システム、制御・監視システム
第10章 地域別・国別分析
- 世界の化学機械的平坦化（CMP）市場：地域別、実績と予測, 2020-2025, 2025-2030F, 2035F
- 世界の化学機械的平坦化（CMP）市場：国別、実績と予測, 2020-2025, 2025-2030F, 2035F
第11章 アジア太平洋市場
第12章 中国市場
第13章 インド市場
第14章 日本市場
第15章 オーストラリア市場
第16章 インドネシア市場
第17章 韓国市場
第18章 台湾市場
第19章 東南アジア市場
第20章 西欧市場
第21章 英国市場
第22章 ドイツ市場
第23章 フランス市場
第24章 イタリア市場
第25章 スペイン市場
第26章 東欧市場
第27章 ロシア市場
第28章 北米市場
第29章 米国市場
第30章 カナダ市場
第31章 南米市場
第32章 ブラジル市場
第33章 中東市場
第34章 アフリカ市場
第35章 市場規制状況と投資環境
第36章 競合情勢と企業プロファイル
- 化学機械的平坦化（CMP）市場：競合情勢と市場シェア、2024年
- 化学機械的平坦化（CMP）市場：企業評価マトリクス
- 化学機械的平坦化（CMP）市場：企業プロファイル
- Air Products
- Applied Materials
- Cabot
- EBARA Technologies
- Fujimi
第37章 その他の大手企業と革新的企業
- Hitachi Chemical, Lapmaster Wolters, Okamoto, Dow, LAM Research, CMC Materials, Versum Materials, DuPont, BASF, Entegris, Revasum, Fujifilm, Tokyo Seimitsu, YAO SHENG, CMP Specialties
第38章 世界の市場競合ベンチマーキングとダッシュボード
第39章 主要な合併と買収
第40章 市場の潜在力が高い国、セグメント、戦略
- 化学機械的平坦化（CMP）市場2030：新たな機会を提供する国
- 化学機械的平坦化（CMP）市場2030：新たな機会を提供するセグメント
- 化学機械的平坦化（CMP）市場2030：成長戦略
- 市場動向に基づく戦略
- 競合の戦略
