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市場調査レポート
商品コード
1862472

SiCウェーハ用レーザー切断装置:世界市場シェアとランキング、総売上高および需要予測(2025年~2031年)

SiC Wafer Laser Cutting Equipment - Global Market Share and Ranking, Overall Sales and Demand Forecast 2025-2031


出版日
発行
QYResearch
ページ情報
英文 109 Pages
納期
2~3営業日
カスタマイズ可能
適宜更新あり
SiCウェーハ用レーザー切断装置:世界市場シェアとランキング、総売上高および需要予測(2025年~2031年)
出版日: 2025年10月17日
発行: QYResearch
ページ情報: 英文 109 Pages
納期: 2~3営業日
GIIご利用のメリット
  • 概要

世界のSiCウェーハ用レーザー切断装置:市場規模は2024年に1億3,800万米ドルと推定され、2025年から2031年の予測期間においてCAGR 15.8%で拡大し、2031年までに3億8,100万米ドルに再調整される見込みです。

本レポートでは、SiCウェーハ用レーザー切断装置:に関する最近の関税調整と国際的な戦略的対抗措置について、越境的な産業フットプリント、資本配分パターン、地域経済の相互依存性、サプライチェーンの再構築といった観点から包括的な評価を提供します。

2024年、世界のSiCウェーハ用レーザー切断装置:の生産台数は242台に達し、平均世界市場価格は1台あたり約57万8,000米ドルでした。

炭化ケイ素(SiC)は1893年に研削砥石や自動車用ブレーキの工業用研磨材として発見されました。20世紀半ば頃、SiCウエハーの用途はLED技術にも拡大しました。それ以来、その優れた物理的特性により、数多くの半導体用途へと広がっています。これらの特性は、半導体業界内外における幅広い用途に明らかです。ムーアの法則が限界に達しつつあるように見える中、半導体業界内の多くの企業が、将来の半導体材料として炭化ケイ素に注目しています。

従来のシリコン基板に比べ、炭化ケイ素を使用することには数多くの利点があります。主な利点の一つはその硬度です。この特性により、高速・高温・高電圧用途において多くの優位性が生まれます。

炭化ケイ素ウエハーは高い熱伝導性を有しており、熱を一点から他点へ効率的に伝達できます。これにより電気的導電性が向上し、最終的には微細化が促進されます。これはSiCウエハーへの移行における共通の目標の一つです。

また、炭化ケイ素基板は熱膨張係数が低い特性も有します。熱膨張とは、材料が加熱または冷却される際に生じる膨張・収縮の量と方向を指します。最も一般的な例として氷が挙げられますが、炭化ケイ素は多くの金属とは逆の挙動を示し、冷却時に膨張し、加熱時に収縮します。炭化ケイ素の低い熱膨張係数は、加熱・冷却時における寸法や形状の変化が極めて少ないことを意味します。この特性により、小型デバイスへの実装や単一チップへのトランジスタ高密度集積に最適です。

SiCはダイヤモンドと同等の硬度を有します。そのためダイヤモンドブレードによるSiCのダイシング加工では、欠けや亀裂といった欠陥が生じ、電流漏れを引き起こす可能性があります。これは自動車用途の厳しい要求を満たせません。

シリコンカーバイドのレーザー切断方式は、レーザー改質切断技術です。その原理は、高透過波長のレーザービームをレンズで集光し、ウエハー内部に照射することで多光子吸収が発生し、局所的な変形層(改質層)を形成するものです。この層は主に空孔、高転位密度層、およびクラックで構成されています。この改質層が、後続のウェーハダイシングおよびクラッキングの起点となります。レーザーと光路システムを最適化することで、改質層をウェーハ内部に閉じ込め、表面や底面に熱損傷を与えることなく、外力を用いてクラックを表面や底面へ誘導し、ウェーハを所定のサイズに分離します。

過去10年間のCAGRから判断しますと、発展途上国におけるパッケージング・テスト装置の需要はより活発です。現在の半導体市場におけるチップ不足により、パッケージング・テスト業界は資本拡充を図り、積極的に生産能力を拡大しております。新エネルギー車、エネルギー、産業、通信などの分野における炭化ケイ素デバイスの普及率が高まるにつれ、炭化ケイ素レーザー切断に対する市場需要も増加しております。

従来の砥石切断やレーザーアブレーションと比較し、レーザーステルス切断法はより優れたスクライビング品質と高い効率性を有し、不規則形状のチップダイシングを実現できるため、ウェーハの歩留まり向上に寄与します。これらの利点により、レーザーステルスダイシングはウェーハスクライビング技術の主流となり、MEMSデバイスチップ製造において不可欠な技術となっております。

本レポートは、SiCウェーハ用レーザー切断装置の世界市場について、総販売数量、売上高、価格、主要企業の市場シェアおよび順位に焦点を当て、地域・国別、タイプ別、用途別の分析を包括的に提示することを目的としています。

SiCウェーハ用レーザー切断装置の市場規模、推定・予測は、販売数量(単位)および売上高(百万米ドル)の観点から提供され、2024年を基準年とし、2020年から2031年までの期間における過去データと予測データを含みます。定量的・定性的分析の両方を用いることで、読者の皆様がSiCウェーハ用レーザー切断装置:に関する事業/成長戦略の策定、市場競争の評価、現在のマーケットプレースにおける自社の位置付けの分析、情報に基づいた事業判断を行うことを支援いたします。

市場セグメンテーション

企業別

  • DISCO Corporation
  • Suzhou Delphi Laser Co
  • Han's Laser Technology
  • 3D-Micromac
  • Synova S.A.
  • HGTECH
  • ASMPT
  • GHN.GIE
  • Wuhan DR Laser Technology

タイプ別セグメント

  • 加工サイズ6インチ未満
  • 加工サイズ8インチ未満

用途別セグメント

  • ファウンドリ
  • IDM

地域別

  • 北米
    • 米国
    • カナダ
  • アジア太平洋
    • 中国
    • 日本
    • 韓国
    • 東南アジア
    • インド
    • オーストラリア
    • その他アジア太平洋地域
  • 欧州
    • ドイツ
    • フランス
    • 英国
    • イタリア
    • オランダ
    • 北欧諸国
    • その他欧州
  • ラテンアメリカ
    • メキシコ
    • ブラジル
    • その他ラテンアメリカ
  • 中東・アフリカ
    • トルコ
    • サウジアラビア
    • アラブ首長国連邦
    • その他中東・アフリカ