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市場調査レポート
薄膜蒸着技術：動向・課題・市場分析
Thin Film Deposition: Trends, Key Issues, Market Analysis
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「薄膜蒸着技術：動向・課題・市場分析」は2011年01月にインフォメーションネットワークより発行されました。 当レポートは160 PAGESで構成され、税抜￥201,321より販売しています。
当レポートでは、PVD、CVD、ECDなどの各種薄膜蒸着技術の概要、特性、ベンダーが直面する課題の調査や今後の市場の予測を行っており、概略以下の構成でお届けします。
第1章 イントロダクション
第2章 エグゼクティブサマリー
第3章 PVD（物理蒸着）
- 概要
- スパッタリング技術
- プラズマ技術
- リアクターの設計
- ロングスロー
- コリメーションスパッタ
- シャワーヘッド
- イオン化PVD
- 半導体加工
- ターゲット
第4章 CVD（化学蒸着）
- 概要
- CVD技術
- APCVD
- LPCVD
- PECVD
- HDPCVD
- ALD
第5章 ECD（電解めっき）
- 概要
- リアクターの設計
- 課題
- 添加剤
- 処理
- 銅陰極
- ウェット銅シード層
第6章 薄膜蒸着と薄膜の特性
- 概要
- 誘電体蒸着
- 二酸化ケイ素
- 窒化ケイ素
- High-K誘電体
- Low-K誘電体
- 金属蒸着
- アルミニウム
- タングステン/ケイ化タングステン
- 窒化チタン
第7章 ベンダーの課題
- 概要
- 300mmプロセッシング
- 統合プロセッシング
- 銅
- 計測
- ESD
- パラメータテスト
第8章 市場予測
図表
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