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市場調査レポート
3D TSVインターコネクト:設備および材料(2008年)
3-D TSV Interconnects - Equipment & Materials 2008 report
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「3D TSVインターコネクト:設備および材料(2008年)」は2008年08月にヨール・デベロップメントより発行されました。 当レポートは309 pagesで構成され、税抜¥392,713より販売しています。
当報告書では、半導体業界における3D-TSV技術の動向と最新市場予測、主要企業、応用別の今後のロードマップについて、概略下記の構成でお届けいたします。
イントロダクション
市場予測サマリー
3D-TSV製造上の課題
- 3DIC技術
- 頭からか終わりからか
- 形状の違い
- 新興のサプライチェーン
3D-ICインテグレーションのための設備および先進材料ツールボックス
- 様々な技術の分析/要件/ツール能力/シナリオ/予測/関連サプライヤー
- エッチング/ドリリング
- 誘電絶縁
- フィリング法
- グラインディング/シニング
- 薄ウエハの取り扱い
- リソグラフィ関連技術
- ボンディングおよび最終組立て段階
- 3D技術の先進基質
- 3Dのための試験/検査/計測法
3D-TSV製造のための所有コスト
- TSV製造所有コストと投資
- MEMSファブ
- CMOSイメージセンサーファブ
- メモリファブ
- ロジック3D-SOCおよびワイヤレスSiPファブ
- TSVとワイヤボンディング、PoPの所有コスト比較
- 3D-TSVコスト評価/学習曲線の改善
主な結論と見通し
図表
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