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市場調査レポート

太陽光発電技術のロードマップ

Photovoltaic Technology Roadmap

発行 Yole Developpement
出版日 2010年08月 商品コード 128354
ページ情報 英文  
価格
US$ 4,990 換算 ¥ 402,044 (税抜) PDF by E-mail (Single user license)
US$ 7,590 換算 ¥ 611,526 (税抜) PDF by E-mail (Multi-user license)


太陽光発電技術のロードマップ」は2010年08月にヨール・デベロップメントより発行されました。 当レポートは税抜¥402,044より販売しています。

概要

当レポートでは、太陽光発電技術の動向と見通しについて調査分析し、PV市場の概要、需要予測、セル構造から製造プロセスまで製造コストの削減に向けた各種関連分野における技術革新、主要企業・組織の取り組みなどをまとめ、概略以下の構成でお届けいたします。

エグゼクティブサマリー

PVオファー:市場概要・予測

  • 技術概要:原材料ファミリー
  • 効率 / 技術別発展状況:2008-2010年
  • 効率 / 製造コスト:2010年初期
  • ファブキャパシティの利用率:技術別
  • 技術別詳細
  • 効率の潜在性:概要

PV需要の進化

  • 中期的予測:〜2013年

総論

  • ウエハベースの技術
    • 高効率化の要件
    • セル構造の進化
      • エミッタープロファイルの最適化
      • 不活性化
      • 不活性化セルの開発ロードマップ
      • 主要企業
    • 製造技術のクラスターロードマップ
  • 薄膜技術:セル構造
    • 機器プロバイダー・専用技術ベースの製造業者
    • 主要企業

PV技術のロードマップ:製造コスト削減戦略

  • ムーアの法則?
  • 値下げ:原材料の影響
  • ワット当たりのコスト比率
  • 主な影響因子
  • コスト内訳

C-SIセルの発展動向

  • イントロダクション
    • 標準型セル
    • 不活性化エミッターセル
    • MWT(Metal Wrap Through)セル
    • EWT(Emitter Wrap Through)セル
    • HIT(Heterojunction with Intrinsic Thin Layer)セル
    • IBJ(Interdigitated Back-junction)セル
  • 高度なセルコンセプトの創出
    • Solland・Bosh・Stiebelの例
  • 新しい製造ステップ
    • メタライゼーション
    • ドーパント拡散
    • シリコン構造化
  • 新しい製造技術
    • 薄ウエハ
    • NI L
    • インクジェット

薄膜太陽電池における発展動向

  • 技術別詳細
    • a-Si
    • a-Si/μ-Siタンデム
    • CdTe
    • CIGS
  • 新しい製造技術
    • 透明中間層
    • 電極構造化
      • ナノインプリントリソグラフィの例

詳細プロセス/潜在的な"ゲームチェンジャー"

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