世界のフォトマスク市場

当商品の販売は、2010年02月04日を持ちまして終了しました。

アップデート版はこちらになります。

世界のフォトマスク市場：半導体フォトマスク市場の動向および予測

Photomask Characterization Summary - Market Trends/Forecast for the Semiconductor Photomask Market

出版日: 2010年01月

商品コード: 112466

概要

当報告書では、世界の主要7地域（北米・日本・欧州・台湾・韓国・中国・その他）におけるフォトマスク市場の需要サイドの市場特性について分析し、市場規模、企業の財務レポートなどを交え、概略下記の構成でお届けいたします。

調査手法・調査範囲

市場背景

技術動向

45nmを超えて

市場動向

市場・市場見通し

サマリー

付表

• フォトマスクとレチクルに関するアンケート
• フォトマスクサプライヤーウェブサイトサマリー
• 2008年のウエハファブリケーション材料市場
• 1986年以降のフォトマスク業界の統合
• フォトマスク業界の市場シェア動向
• ウエハファブリケーション能力：サイズ別
• リソグラフィ関連の特徴：製品別
• フォトマスク市場予測（米ドル建て）
• フォトマスクサプライヤーリスト
• DRAM M11/2ピッチ（nm）技術動向ターゲット
• 32-nmリトグラフィー技術導入とタイミング
• フォトマスクサプライヤーの戦略的関係性
• 地域別フォトマスク市場：2003-2011年

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