|
市場調査レポート
世界のフォトマスク市場
Photomask Characterization Summary
| 発行 |
SEMI |
| 出版日 |
2008年03月 |
商品コード |
63954 |
| ページ情報 |
英文 7 Pages |
| 価格 |
|
|
当商品の販売は、2009年12月16日を持ちまして終了しました。
アップデート版はこちらになります。
Photomask Characterization Summary - Market Trends/Forecast for the Semiconductor Photomask Industry
出版日: 2009年03月
商品コード: 84300
2007年における世界のフォトマスク市場は29億8,000万米ドルの規模と推計されており、2010年には38億9,000万米ドルの規模に達すると予測されています。
当報告書では、世界の主要7地域（北米・日本・欧州・台湾・韓国・中国・その他）におけるフォトマスク市場の主な市場動向、市場背景、技術動向、45nmリソグラフィの導入動向、市場シェア、2010年までの市場予測などをまとめ、概略下記の構成でお届けいたします。
調査手法・調査範囲
市場背景
技術動向
45nmを超えて
市場動向
市場・市場見通し
サマリー
図表
- 2007年のウエハファブリケーション材料市場
- フォトマスク産業の統合：1986年〜
- 市場シェア動向
- ウエハファブリケーション能力：サイズ別
- リソグラフィ関連の特徴：製品別
- フォトマスク市場予測
- フォトマスクサプライヤーリスト
- 45nmリソグラフィ技術の導入・タイミング
- フォトマスクサプライヤーの戦略的関係性
- 地域別フォトマスク市場：2003-2010年
|
