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市場調査レポート

半導体製造機器市場に対するナノテクノロジーの影響

The Impact of Nanotechnology on the Semiconductor Manufacturing Equipment Market

発行 NanoMarkets
出版日 2005年07月 商品コード 26164
ページ情報 英文  
価格
こちらの商品の販売は終了いたしました。

当商品の販売は、2011年07月19日を持ちまして終了しました。

概要

半導体製造機器企業は、機器コストの上昇や従来型の半導体製造のリソグラフィ技術では対応できないほどまで進化した技術の台頭により厳しい状況に晒されています。代替技術として、性能、消費電力やその他の点でも優位であるナノ材料やナノテクノロジープラットフォームの導入が考えられますが、商業化までのコストも高く、リスクも伴うため、慎重な検討が必要です。

通信、IT、半導体、バイオメディカルやエネルギー分野に対するナノテクノロジーの影響について専門的に調査分析を行っている米国の調査会社 NanoMarkets (本社: バージニア州)では、半導体製造機器市場に対するナノテクノロジーの影響について調査分析し、まとめた報告書 “The Impact of Nanotechnology on the Semiconductor Manufacturing Equipment Market” を発行いたしました。

当報告書では、半導体製造機器市場におけるナノテクノロジーの市場機会に関する定量的分析、主要企業、市場で成功する戦略分析、2012 年までの市場予測などについて、概略下記の構成で取り上げています。

エグゼクティブサマリー

第 1 章 序論

  • 本調査の背景
  • 調査目的
  • 調査範囲
  • 調査手法
  • 報告書掲載情報
  • 報告書のプラン

第 2 章 製造に関する課題と機会

  • ムーアの法則とスケーリングの問題
  • 考慮すべき事項
  • タイムスケール
  • 構造上の問題
    • マルチコア・プロセッサの影響
    • 3 次元構造の影響
  • ファブコスト

第 3 章 新しいナノ製造技術

  • 代替リソグラフィシステム技術と市場評価
    • 液浸リソグラフィ
    • EUV(超紫外線)リソグラフィ
    • EPL(電子ビーム)リソグラフィ
    • ナノインプリント・リソグラフィ
  • 直接描画
    • ディップペン・ナノリソグラフィ
    • E ビーム/Iビーム
  • 蒸着と自己集合
    • 原子層蒸着(ALD)
    • 自己集合
  • その他のアプローチ

第 4 章 新材料とその需要

  • イントロダクション
  • シリコンの代替素材
  • 低誘電率(Low-k)と高誘電率(High-k)材料
  • カーボンナノチューブとナノワイヤ
  • スピントロニクス
  • Molectronics(分子コンピュータ)
  • プラスチック・エレクトロニクス/有機エレクトロニクス
  • 量子ドット

第 5 章 次世代型製造機器の8ヵ年予測

  • 予測方法論
  • 誤差の潜在的要因
  • 機器の価格
  • 予測
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