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市場調査レポート
IC製造用機器と材料の世界市場
The Global Market for Equipment and Materials for IC Manufacturing
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「IC製造用機器と材料の世界市場」は2012年04月にインフォメーションネットワークより発行されました。 当レポートは税抜￥403,046より販売しています。
当レポートでは、IC製造に関連する各種機器および材料市場の動向、課題や今後の展望などについて、概略下記の構成でまとめております。
第1章 イントロダクション
第2章 低誘電体層間絶縁体の課題と動向
- イントロダクション
- 理想的な誘電体
- 低誘電体層間絶縁体の種類
- FSG
- HSQ
- ナノポーラスシリカ
- スピンオン・ポリマー
- BCB
- Flowfill
- CVD
- AF4
- PTFE
- サマリー
第3章 リソグラフィの課題と動向
- 光学システム
- X線システム
- 電子ビームシステム
- イオンビームシステム
- ナノ・インプリントリソグラフィ
- 新技術
- リソグラフィの所有コストにおける革新
- 結論
第4章化学機械研磨（CMP）の課題と動向
- 平坦化の必要性
- 用途
- 平坦化技術
- CMP
- 背景
- 調査目的
- 利点と欠点
- プロセスパラメータ
- デバイス加工パラメータ
第5章 FA（ファクトリーオートメーション）の課題と動向
- イントロダクション
- 自動化の要素
- フレキシブルオートメーション
- 信頼性
- ツールの課題と動向
- E-Manufacturing
第6章 薄膜蒸着の課題と動向
- 物理気相成長法（PVD）
- 化学気相成長（CVD）技術
第7章 プラズマエッチングの課題と動向
- イントロダクション
- プロセッシングの課題
- プラズマストリッピング
第8章 クラスターツールの課題と動向
- 定義
- デバイスの技術と統合プロセッシング
- 主要機能ユニット
- クラスターツールコミュニケーション
- 真空システム設計
- 動向
第9章 薬品および材料の課題と動向
- 技術課題
- 純度要件
- 薬品管理
- 気体
- 薬品管理
- スパッタリングと蒸発材料
第10章 汚染の課題と動向
第11章 測定
- 欠陥検査/ウエハー検査
- 薄膜測定
- リソグラフィ測定
第12章 市場予測
- 市場影響因子
- 市場予測の前提条件
- Low-K
- リソグラフィ
- CMP
- FA
- 薄膜蒸着
- プラズマエッチング
- クラスターツール
- 薬品および材料
- クリーンルームおよび汚染
- 測定
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