サブ 100nm リソグラフィ：市場分析および戦略的課題

通信や集積回路、コンピューターの工業分野の市場調査で世界的に高い評価を得ております The Information Network（本社：ペンシルバニア州）では、サブ 100nm リソグラフィ技術の市場および戦略的課題に関する調査・分析を行い、まとめた報告書 “Sub 100-nm Lithography: Market Analysis and Strategic Issues”を発行いたしました。

当報告書では、光学システム、X線システム、電子ビームやイオンビームシステムといった各種リソグラフィ技術の動向と課題、サプライヤの戦略や今後の予測などについて、概略下記の構成でまとめております。

第 1 章 イントロダクション

第 2 章 エグゼクティブサマリー

第 3 章 リソグラフィの課題と動向

• 光学システム
  • 走査式プロジェクション・アライナー
  • ステップ＆リピート・アライナー
  • 248nm DUV レジスト
  • 193nm DUV レジスト
  • Mix-and-Match
• 157nm DUV とレジスト
• EUV
• X 線システム
  • ソース
  • マスク
  • ステッパ
  • レジスト
• 電子ビームシステム
• イオンビームシステム
  • 直接描画
  • イオンチャネルマスキング
  • イオン投影
• 新技術
  • Mulith Reference Distribution Aerial Image Formation
  • ホログラム
  • X線レーザー
  • 原子リソグラフィ
  • マイクロレンズ
  • ナノインプリントリソグラフィ
  • 液浸リソグラフィ
• リソグラフィの所有コスト分析
  • 概要
  • 所有コストモデル
  • 所有コスト計算の結果
  • 個別の概算コスト
• 総論

第 4 章 サプライヤの戦略

• リソグラフィに対するニーズの定義
• ベンダーのベンチマーキング
  • 価格
  • ベンダーの取り組みとその姿勢
  • ベンダーの能力
  • システム性能
  • 機器評価中のベンダーフィードバック
  • 機器生産中のベンダーフィードバック
• 競争環境
• クラス1クリーンルーム用機器
• 未来型工場向け機器
• 市場機会

第 5 章 市場予測

• 影響因子
  • 技術動向
  • 経済動向
  • 光学技術の限界
• 市場予測に関する仮定
• 市場予測