サブ 100nm リソグラフィ：市場分析および戦略的課題

Sub 100-nm Lithography: Market Analysis and Strategic Issues

発行	The Information Network
出版日	2011年01月	商品コード	4961
ページ情報	英文 150 PAGES
価格	US$ 2,495 換算 ¥ 196,356 (税抜) PDF by E-mail US$ 2,595 換算 ¥ 204,226 (税抜) PDF by E-mail & Hard Copy

概要
原文目次
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「サブ 100nm リソグラフィ：市場分析および戦略的課題」は2011年01月にインフォメーションネットワークより発行されました。当レポートは150 PAGESで構成され、税抜￥196,356より販売しています。

概要

通信や集積回路、コンピューターの工業分野の市場調査で世界的に高い評価を得ております The Information Network（本社：ペンシルバニア州）では、サブ 100nm リソグラフィ技術の市場および戦略的課題に関する調査・分析を行い、まとめた報告書 “Sub 100-nm Lithography: Market Analysis and Strategic Issues”を発行いたしました。

当報告書では、光学システム、X線システム、電子ビームやイオンビームシステムといった各種リソグラフィ技術の動向と課題、サプライヤの戦略や今後の予測などについて、概略下記の構成でまとめております。

第 1 章イントロダクション

第 2 章エグゼクティブサマリー

第 3 章リソグラフィの課題と動向

光学システム
- 走査式プロジェクション・アライナー
- ステップ＆リピート・アライナー
- 248nm DUV レジスト
- 193nm DUV レジスト
- Mix-and-Match
157nm DUV とレジスト
EUV
X 線システム
- ソース
- マスク
- ステッパ
- レジスト
電子ビームシステム
イオンビームシステム
- 直接描画
- イオンチャネルマスキング
- イオン投影
新技術
- Mulith Reference Distribution Aerial Image Formation
- ホログラム
- X線レーザー
- 原子リソグラフィ
- マイクロレンズ
- ナノインプリントリソグラフィ
- 液浸リソグラフィ
リソグラフィの所有コスト分析
- 概要
- 所有コストモデル
- 所有コスト計算の結果
- 個別の概算コスト
総論