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市場調査レポート
VLSI製造におけるクリーンルームと汚染防止
Cleanrooms and Contamination Control in VLSI Manufacturing
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当商品の販売は、2011年04月06日を持ちまして終了しました。
通信や集積回路、コンピューターの工業分野の市場調査で世界的に高い評価を得ております The Information Network（本社：ペンシルバニア州）では、VLSI 製造におけるクリーンルームの設計および汚染防止対策について調査・分析を行い、まとめた報告書“Cleanrooms and Contamination Control in VLSI Manufacturing”を発行いたしました。
当報告書では、クリーンルームの設計、世界における半導体ファブの概要とクリーンルーム面積、液体薬品や脱イオン水、ガスといった各種の汚染課題の概要、ユーザーおよびサプライヤの課題、今後の予測などについて、概略下記の構成でまとめております。
第 1 章 イントロダクション
第 2 章 エグゼクティブサマリー
第 3 章 クリーンルームの設計
- クリーンルームの種類
- ミニエンバイロメント
- エアフロー・フィルタリング
- 静電放電
- ASIC 機器の影響
- VLSI 機器の影響
- ファクトリーオートメーションと300mm ウエハーの影響
第 4 章 世界の半導体ファブ
- 北米
- 欧州
- 日本
- 韓国
- 台湾
- その他各ファブに関する項目
- 企業名
- 住所
- 製造ウエハーサイズ
- 最小機能サイズ
- 処理技術
- 主要製品
- 従業員数
- プラント面積
- クリーンルーム面積
第 5 章 汚染課題
- 液体薬品
- 浄化方法
- 粒子状物質
- バルク流通またはボトル
- パイピングシステム構築
- ガス
- 脱イオン水
- 浄化に関する仕様
- 純度測定技術
- ろ過と限外ろ過
- パイピングシステム構築
- 脱イオン水システムコスト
- 処理機器
第 6 章 市場予測
- 市場予測の仮定
- クリーンルームの建設
- ウェットステーションとスプレープロセッサ
- 液体および気体フィルタに関する予測
- ガス精製システム市場
第 7 章 ユーザーの戦略的課題
第 8 章 サプライヤの戦略的課題
- 処理機器の清浄度
- サプライヤの戦略
- サプライヤのビジネスチャンス
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