薄膜の世界市場：原料、技術、装置

GB-300 Thin Films: Raw Materials, Technology and Applications

発行	BCC Research
出版日	2005年03月	商品コード	27350
ページ情報	英文 227 pages 154 tables
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概要
原文目次
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概要

薄膜原料の世界市場は2004年に71億米ドルを記録し、今後も平均年間成長率13.7％で拡大し、2009年には135億米ドルに達するものと予測されます。

多様な産業セクタにおける成長市場の戦略的調査を専門とする Business Communications Company, Inc.（本社：コネチカット州）では、薄膜装置の製造に使用される技術とそのアプリケーション、薄膜の堆積過程に使用される原料とその世界市場について詳細に調査・分析した調査報告書“Thin Films: Raw materials, Technologies, Devices”を発行致しました。

当報告書では、従来及び革新的な薄膜技術についての最新の包括的な情報、技術タイプ別の原料市場の詳細な分析、薄膜原料の世界市場の分析と2009年までの将来予測、世界の産業構造の詳細分析、世界の研究開発活動の分析、米国の特許分析などを盛り込み、193の図表を含む227ページにわたり、概略下記の内容でお届けいたします。

イントロダクション

サマリー

概要

薄膜業界の重要性
薄膜加工の歴史と現状
薄膜業界の解説：プロセスとアプリケーション

技術別原料市場

薄膜の技術、原料、アプリケーション
蒸発による物理的蒸着
- 熱的蒸発法
- 電子ビーム
- 反応蒸着
- 分子線エピタキシー
- レーザ・アブレーションとパルス・レーザ堆積法
- Jet Vapor Deposition
スパッタリングによる物理的蒸着
- 略歴
- 基本技術
- 新機能と改良
イオン蒸着による物理的蒸着
- イオンめっき
- イオン化物理的蒸着
- プラズマ浸入イオン蒸着
- イオン化クラスタ・ビーム蒸着
- イオン注入
化学的蒸着 (CVD)
- 基本技術
- 熱的CVD
- 大気圧CVD
- 低圧CVD
- 超高真空CVD
- 原子層蒸着/原子層エピタキシー
- プラズマCVD
- 有機金属CVD
- 化学蒸気浸透法
- 光化学蒸着
- イオン・ビーム誘起CVD
- 電子ビームCVD
複合技術
化学溶液堆積法
- 基本技術
- ゾル・ゲル法
- 有機無機ハイブリッド
- キレート法
- 硝酸法
- クエン酸法
- Pechini法
- その他の液相法と新開発
メッキ法堆積
- 電気めっき
- 無電解めっき
- 電気泳動堆積法
その他の化学的堆積法
- 火炎堆積法
- 噴霧熱分解
- 新機能と改良